JPS5944205B2 - 金型付着物の除去方法 - Google Patents

金型付着物の除去方法

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JPS5944205B2
JPS5944205B2 JP7606177A JP7606177A JPS5944205B2 JP S5944205 B2 JPS5944205 B2 JP S5944205B2 JP 7606177 A JP7606177 A JP 7606177A JP 7606177 A JP7606177 A JP 7606177A JP S5944205 B2 JPS5944205 B2 JP S5944205B2
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JP
Japan
Prior art keywords
mold
deposits
molding
benzyl alcohol
mold deposits
Prior art date
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Expired
Application number
JP7606177A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5411163A (en
Inventor
稔 浜田
久也 桜井
順三 正本
武郎 吉田
広 羽沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPS5411163A publication Critical patent/JPS5411163A/ja
Publication of JPS5944205B2 publication Critical patent/JPS5944205B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/70Maintenance
    • B29C33/72Cleaning
    • B29C33/722Compositions for cleaning moulds

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリオキシメチレン組成物の成形において、
金型表面へ付着する金型への析出物(いわゆるモールド
デポジット)を除去する方法に関するものである。
ポリオキシメチレンはそのすぐれた強度特性、疲労特性
、電気特性などの故に、近年、電気部品、事務機器部品
、建材部品、その他に広く使用され、その使用量も年々
増大している。
ポリオキシメチレン組成物は通常、射出成形あるいは押
出成形により所望の形状に成形されているが、その成形
において、金型表面へいわゆるモールドデポジットが付
着し、それが製品表面へ転写され、製品の外観が著しく
損われたり、歯車など寸法精度の要求される部品の場合
には、モールドデポジットにより寸法精度が損われるな
どの問題が生じることが多い。
そのため、ポリオキシメチレン組成物の成形加工メーカ
ーは、金型の分掃に多大の時間を費している場合があり
、生産性の向上に対し大きな障害となつている。このよ
うな問題に対し、樹脂製造の立場から、モールドデポジ
ットの少ない組成物を提供するように種々の提案がなさ
れているが、未だ完全に問題を解決するには到つていな
い。
また、モールドデポジットの除去方法に関しても有効な
手段が見出されていないのが現状である。本発明者らは
、モールドデポジットの除去方法に関し種々検討を加え
た結果、極めて有効な手段を見出すに到つた。
すなわち、本発明者らは、モールドデポジットの内容を
詳細に検討した結果、金型の構造(ガス抜けなど)およ
び金型温度、樹脂温度などの成形条件によつてモールド
デポジットの内容は異なり、ある場合には、発生する僅
少のガスが固化して付着したものであり、また、ある場
合にιLポリオキシメチレン組成物中に含まれる含窒素
化合物が析出したものであることを見出し、そのいずれ
の析出物に対しても有効な除去方法の開発に努め、本発
明に到達した。
本発明は、ポリオキシメチレン組成物の成形において金
型表面への付着物を除去するに際し、ベンジルアルコー
ルにアルコール性水酸基を少なくとも1つ有する溶媒を
加えてなる洗浄液を用いることを特徴とする金型付着物
除去方法に関するものである。
上記ベンジルアルコールを含む洗浄液とは、ベンジルア
ルコールにアルコール性水酸基を少なくとも1つ有する
他の溶媒を加えたものをいう。
他の溶媒としては、エチルアルコール、インプロビルア
ルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、
グリセリン−エチレンオキサイド付加物、グリセリンー
プロピレンオキサイド付加物等がある。除去剤中のベン
ジルアルコールの量は特に制限はないが、通常、ベンジ
ルアルコールの量が5〜40重量%で使用される。
他の溶媒との組合せについては、エチレングリコール/
ベンジルアルコール、イソプロビルアルコール/ベンジ
ルアルコール、1,4−ブタンジオール/ベンジルアル
コールなどが特に除去効果が大きい。
実際に付着物の除去を行う方法としては、成形 ト機に
金型を装着したま\金型表面に洗浄液を塗布した後、数
シヨツト成形して付着物を成形品に転着させるか、また
は、金型を分解し、上記洗浄液を用いて洗浄するなどの
方法がとられる。
次に本発明の実施例を示す。
なお、実施例中、%および部はすべて重量基準である。
実施例 1 ポリオキシメチレン組成物〔ホモポリオキシメチレンジ
アセテート(MI(190℃)″14t/10分)10
0部に対して、2,2′−メチレン−ビス−(4−メチ
ル−6−Tert−ブチルフエノール)0.3部、ポリ
ヘキサメチレンアジパミド(35%)/ポリヘキサメチ
レンセバカミド(27%)/ポリカプロラクタム(38
%)よりなる共重合ポリアミド0.75部を添加してな
る組成物〕を用いて、射出成形機でシリンダー温度20
『C,金型温度80℃にて、100X50X2藺の平板
を成形し、約4000シヨツト成形後、金型表面にモー
ルドデポジツトが多量に付着したのを確かめた上で、金
型表面にベンジルアルコール20%、イソプロビルアル
コール80%よりなる洗浄液を塗布し、1分間放置後、
5シヨツト成形を行つたところ、金型の付着物は殆んど
全部除去されているのを確認した。
実施例 2〜4 実施例1に用いたと同じ組成物、同一の成形条件で40
00シヨツト成形後、各種洗浄液を用いて金型付着物の
除去効果を検討した。
その結果を次表に示す。実施例 5 トリオキサンとエチレンオキサイド(2%)のコポリマ
ー(Ml(190℃)ご10f/10分)100部に対
して、ジシアンジアミド0.1部、メラミン0.05部
、2,2/−メチレン−ビス−(4一メチル一6−Te
rt−ブチルフエノール)0.3部を添加してなる組成
物の成形を実施例1と同様の条件(i−マ1,全型温度
は40℃)で行い、約4000シヨツト成形後、金型表
面にモールドデポジツトが多量に付着したのを確かめた
上で、金型表面にベンジルアルコールを塗布し、1分間
放置後、5シヨツト成形を行い、付着物が除去されてい
るのを確認した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ポリオキシメチレン組成物の成形において、金型表
    面への付着物を除去するに際し、ベンジルアルコールに
    アルコール性水酸基を少なくとも1つ有する溶媒を加え
    てなる洗浄液を用いることを特徴とする金型付着物の除
    去方法。
JP7606177A 1977-06-28 1977-06-28 金型付着物の除去方法 Expired JPS5944205B2 (ja)

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JPS5411163A JPS5411163A (en) 1979-01-27
JPS5944205B2 true JPS5944205B2 (ja) 1984-10-27

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JPH043504U (ja) * 1990-04-24 1992-01-13
USD516742S1 (en) 2004-12-01 2006-03-07 Physicians Formula Cosmetics, Inc. Cosmetic block
USD518230S1 (en) 2004-12-01 2006-03-28 Physicians Formula Cosmetics, Inc. Cosmetic block
USD522174S1 (en) 2004-12-01 2006-05-30 Physicians Formula Cosmetics, Inc. Cosmetic block
US7144847B2 (en) 2000-12-13 2006-12-05 Asahi Kasei Chemicals Corporation Detergent

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JPS6277040U (ja) * 1985-11-05 1987-05-16

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