JPS5946237B2 - セフアロスポリン誘導体およびその製造法 - Google Patents
セフアロスポリン誘導体およびその製造法Info
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- JPS5946237B2 JPS5946237B2 JP51037374A JP3737476A JPS5946237B2 JP S5946237 B2 JPS5946237 B2 JP S5946237B2 JP 51037374 A JP51037374 A JP 51037374A JP 3737476 A JP3737476 A JP 3737476A JP S5946237 B2 JPS5946237 B2 JP S5946237B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は家きんおよび人間を含む動物の疾病、特にグラ
ム陽囲および陰囲菌による感染曲疾病の治療剤として価
値ある新規な抗菌剤すなわち新規な7ーアシル基を有す
る一般式〔式中、Xは水素原子、水酸基、アシロキシ基
、カルバモイルオキシ基、第4級アンモニウム基または
式−゛SRl(R1は少くとも窒素原子を含有する複素
環基、以後、これを含窒素複素環基と略記する)で表わ
される基を示す。
ム陽囲および陰囲菌による感染曲疾病の治療剤として価
値ある新規な抗菌剤すなわち新規な7ーアシル基を有す
る一般式〔式中、Xは水素原子、水酸基、アシロキシ基
、カルバモイルオキシ基、第4級アンモニウム基または
式−゛SRl(R1は少くとも窒素原子を含有する複素
環基、以後、これを含窒素複素環基と略記する)で表わ
される基を示す。
〕で表わされるセフアロスポリン誘導体およびその製造
法に関するものである。本発明者等は、種々検討の結果
、一般式 〔式中の記号は前記と同意義。
法に関するものである。本発明者等は、種々検討の結果
、一般式 〔式中の記号は前記と同意義。
〕で表わされる化合物とヒドロキシルアミンを反応させ
るか、あるいは一般式〔式中、Xは前記と同意義を、Y
はハロゲン原子を示す。
るか、あるいは一般式〔式中、Xは前記と同意義を、Y
はハロゲン原子を示す。
〕で表わされる化合物とチオシアン酸およびヒドロキシ
ルアミンとを反応させるとセフアロスポリン誘導侯1〕
が得られること、さらに1と合物0〕のうちXが第4級
アンモニウム基またはSRl(式中の記号は前記と同意
義)を示す化合物の場合は、一般式〔式中、Zはアシロ
キシ基を示す。
ルアミンとを反応させるとセフアロスポリン誘導侯1〕
が得られること、さらに1と合物0〕のうちXが第4級
アンモニウム基またはSRl(式中の記号は前記と同意
義)を示す化合物の場合は、一般式〔式中、Zはアシロ
キシ基を示す。
〕で表わされる化合物とピリジン類または一般式RlS
HC.式中の記号は前記と同意義)で表わされるチオー
ル類と反応させることによつても製造されうること、及
び得られたセフアロスポリン誘導恨1〕が各種の細菌に
対し強力な抗菌作用を有すること、特にグラム陰肚菌の
エシエリヒア・コリ一(Esche−RichlacO
li),クレーブジーラ・ニユーモニアエ(Klebs
iellapneumOniae),プロテウス・ブル
ガリス(PrOteusvulgaris),プロテウ
ス・ミラビリス(PrOteusmlral)Ilis
),プロテウス・モルガニイ(PrOteusmOrg
anll),プロテウス●レットゲリ(PrOteU8
rettgerl)およびシトロバクタ・フロインデイ
(CitrObacterfreundii)などの菌
に対して優れた抗菌作用を有すること、さらにβラクタ
マーゼ(セフアロスポリナーゼ)を保有し既知のセフア
ロスポリンに対し抵抗囲を有する上記の閑の変異株に対
し特に顕著な抗菌力を有することを見出し、これに基づ
いて本発明を完成した。即ち、本発明は、かかる優れた
新規セフアロスポリン誘導《I〕に関する。上記式中、
Xは水素原子、水酸基、たとえばアセチルオキシ、プロ
ピオニルオキシなどの炭素数2〜4のアルキルカルボニ
ルオキシ基、たとえばアセトアセチルオキシ、プロピオ
ニルアセチルオキシなどの炭素数2〜4のアルキルカル
ボニル基で置換されたアセチルオキシ基、たとえばマン
デルオキシ、α−スルホフエニルアセチルオキシ、フエ
ニルグリシルオキシ、フエニルアセチルオキシなどのα
位が水酸基、スルホ基、アミノ基などで置換されていて
もよいフエニルアセチルオキシ基、たとえばサクシノイ
ルオキシなどのカルボキシ基で置換された炭素数2〜4
のアルキルカルボニルオキシ基、たとえば2−カルボキ
シベンゾイルオキシ、2−(カルボエトキシカルバモイ
ル)ベンゾイルオキシ、2−(2−カルボエトキシヌル
フアモイル)ベンゾイルオキシ、2−カルボキシ−3(
または4または6)−ニトロベンゾイルオキシまたは2
,4−ジカルボキシベンゾイルオキシなどの一般式〔式
中、R2,R3は水素原子、カルボキシ基、カルボエト
キシカルバモイル基、カルボエトキシスルフアモイル基
またはニトロ基を示す。
HC.式中の記号は前記と同意義)で表わされるチオー
ル類と反応させることによつても製造されうること、及
び得られたセフアロスポリン誘導恨1〕が各種の細菌に
対し強力な抗菌作用を有すること、特にグラム陰肚菌の
エシエリヒア・コリ一(Esche−RichlacO
li),クレーブジーラ・ニユーモニアエ(Klebs
iellapneumOniae),プロテウス・ブル
ガリス(PrOteusvulgaris),プロテウ
ス・ミラビリス(PrOteusmlral)Ilis
),プロテウス・モルガニイ(PrOteusmOrg
anll),プロテウス●レットゲリ(PrOteU8
rettgerl)およびシトロバクタ・フロインデイ
(CitrObacterfreundii)などの菌
に対して優れた抗菌作用を有すること、さらにβラクタ
マーゼ(セフアロスポリナーゼ)を保有し既知のセフア
ロスポリンに対し抵抗囲を有する上記の閑の変異株に対
し特に顕著な抗菌力を有することを見出し、これに基づ
いて本発明を完成した。即ち、本発明は、かかる優れた
新規セフアロスポリン誘導《I〕に関する。上記式中、
Xは水素原子、水酸基、たとえばアセチルオキシ、プロ
ピオニルオキシなどの炭素数2〜4のアルキルカルボニ
ルオキシ基、たとえばアセトアセチルオキシ、プロピオ
ニルアセチルオキシなどの炭素数2〜4のアルキルカル
ボニル基で置換されたアセチルオキシ基、たとえばマン
デルオキシ、α−スルホフエニルアセチルオキシ、フエ
ニルグリシルオキシ、フエニルアセチルオキシなどのα
位が水酸基、スルホ基、アミノ基などで置換されていて
もよいフエニルアセチルオキシ基、たとえばサクシノイ
ルオキシなどのカルボキシ基で置換された炭素数2〜4
のアルキルカルボニルオキシ基、たとえば2−カルボキ
シベンゾイルオキシ、2−(カルボエトキシカルバモイ
ル)ベンゾイルオキシ、2−(2−カルボエトキシヌル
フアモイル)ベンゾイルオキシ、2−カルボキシ−3(
または4または6)−ニトロベンゾイルオキシまたは2
,4−ジカルボキシベンゾイルオキシなどの一般式〔式
中、R2,R3は水素原子、カルボキシ基、カルボエト
キシカルバモイル基、カルボエトキシスルフアモイル基
またはニトロ基を示す。
〕で表わされる基、ピリジン、ニコチン酸アミドまたは
イソニコチン酸アミドなどのカルバモイル基置換ピリジ
ン、ニコチン酸またはイソニコチン酸などのカルボキシ
ル基置換ピリジン、ピリジンスルホン酸などのスルホン
酸基置換ピリジンなどのピリジン誘導体から導かれる一
般式(式中、R4は水素原子、メチル基、カルバモイル
基、カルボキシ基、スルホン酸基またはメトキシ基を示
す。
イソニコチン酸アミドなどのカルバモイル基置換ピリジ
ン、ニコチン酸またはイソニコチン酸などのカルボキシ
ル基置換ピリジン、ピリジンスルホン酸などのスルホン
酸基置換ピリジンなどのピリジン誘導体から導かれる一
般式(式中、R4は水素原子、メチル基、カルバモイル
基、カルボキシ基、スルホン酸基またはメトキシ基を示
す。
)などで表わされる第4級アンモニウム基または式−S
Rl(R1は含窒素複素環基)害示す。ここにおいてR
1で示される含窒素複素環基としては、オキシド化され
ていてもよい窒素原子1個以上を含有するか、窒素以外
のたとえば酸素、硫黄などの原子を含んでいてもよい5
または6員の含窒素複素環基が繁用される。このような
含窒素複素環基としては、たとえばピリジンまたはN−
オキシドピリジルなどの窒素原子1個を含有する6員複
素環基、ピリミジル、ピリダジニル、N−オキシドピリ
ダジニルなどの窒素原子2個を含有する6員複素環基な
どの6員の含窒素複素環基、ピラゾリル、ジアゾリルな
ど窒素原子2個を含有する5員複素環基、チアゾリルな
どの窒素原子1個及び硫黄原子1個を含有する5員複素
環基、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チア
ジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5
−チアジアゾリルなどの窒素原子2個及び硫黄原子1個
を含有する5員複素環基、1,2,3−オキサジアゾリ
ル、1,2,4−万キサジアゾリル、1,3,4−オキ
サジアゾリル、1,2,5−オキサジアゾリルなどの窒
素原子2個及び酸素原子1個を含有する5員複素環基、
1,2.3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル
などの窒素原子3個を含有する5員複素環基、1H−テ
トラゾリル、2H−テトラゾリルなどの窒素原子4個を
含有する5員複素環基などの5員の含窒素複素壊基など
が繁用される。また、これら含窒素複素環基は、置換分
を有していてもよく、置換分としては、たとえばメチル
,エチル,トリフロロメチル,プロピル、イソプロピル
、ブチル,イソブチル等の低級アルキル基、たとえばメ
トキシ,エトキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブト
キシ等の低級アルコキシ基、たとえば塩素,臭素等のハ
ロゲン原子,水酸基,メルカプト基,アミノ基,カルボ
キシル基、カルバモイル基等の一価基、あるいは低級ア
ルキレン基、−S−,N′一基等の多価基を介して種々
の置換基を有するものが用いられる。多価基が低級アル
キレン基である場合には、この置換分は水酸基,メルカ
プト基,アミノ基,グアニル基,モルホリノ基,カルボ
キシル基,スルホ基,カルバモイル基,アルコキシカル
ボニル基,低級アルキルカルバモイル基,アルコキシ基
,アルキルチオ基,アルキルスルホニル基,アシロキシ
基,モルホリノカルボニrル基などであづCもよい。
Rl(R1は含窒素複素環基)害示す。ここにおいてR
1で示される含窒素複素環基としては、オキシド化され
ていてもよい窒素原子1個以上を含有するか、窒素以外
のたとえば酸素、硫黄などの原子を含んでいてもよい5
または6員の含窒素複素環基が繁用される。このような
含窒素複素環基としては、たとえばピリジンまたはN−
オキシドピリジルなどの窒素原子1個を含有する6員複
素環基、ピリミジル、ピリダジニル、N−オキシドピリ
ダジニルなどの窒素原子2個を含有する6員複素環基な
どの6員の含窒素複素環基、ピラゾリル、ジアゾリルな
ど窒素原子2個を含有する5員複素環基、チアゾリルな
どの窒素原子1個及び硫黄原子1個を含有する5員複素
環基、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チア
ジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5
−チアジアゾリルなどの窒素原子2個及び硫黄原子1個
を含有する5員複素環基、1,2,3−オキサジアゾリ
ル、1,2,4−万キサジアゾリル、1,3,4−オキ
サジアゾリル、1,2,5−オキサジアゾリルなどの窒
素原子2個及び酸素原子1個を含有する5員複素環基、
1,2.3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル
などの窒素原子3個を含有する5員複素環基、1H−テ
トラゾリル、2H−テトラゾリルなどの窒素原子4個を
含有する5員複素環基などの5員の含窒素複素壊基など
が繁用される。また、これら含窒素複素環基は、置換分
を有していてもよく、置換分としては、たとえばメチル
,エチル,トリフロロメチル,プロピル、イソプロピル
、ブチル,イソブチル等の低級アルキル基、たとえばメ
トキシ,エトキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブト
キシ等の低級アルコキシ基、たとえば塩素,臭素等のハ
ロゲン原子,水酸基,メルカプト基,アミノ基,カルボ
キシル基、カルバモイル基等の一価基、あるいは低級ア
ルキレン基、−S−,N′一基等の多価基を介して種々
の置換基を有するものが用いられる。多価基が低級アル
キレン基である場合には、この置換分は水酸基,メルカ
プト基,アミノ基,グアニル基,モルホリノ基,カルボ
キシル基,スルホ基,カルバモイル基,アルコキシカル
ボニル基,低級アルキルカルバモイル基,アルコキシ基
,アルキルチオ基,アルキルスルホニル基,アシロキシ
基,モルホリノカルボニrル基などであづCもよい。
多価基が−S−,−N基である場合には、置換分は低級
アルキル基および上記置換分を有する低級アルキレン基
などであつてもよい。多価基が−N′−である場合には
、さらにカルボキシル基,アルコキシカルボニル基,ア
シル基,カルバモイル基,低級アルキルカルバモイル基
等の置換分が直結していてもよい。具体的には、たとえ
ばカルボキシメチル,カルバモイルメチル,N−低級ア
ルキルカルバモイルメチル(例えばN,N−ジメチルカ
ルバモイルメチル),ハイドロキシ低級アルキル(例え
ばハイドロキシメチル,2−ハイドロキシエチル),ア
シルオキシ低級アルキル(例えばアセトキシメチル,2
アセトキシエチル),アルコキシカルボニルメチル(例
えばメトキシカルボニルメチル,ヘキシルオキシカルボ
ニルメチル,オクチルオキシカルボニルメチル),メチ
ルチオメチル,メチルスルホニルメチル,N−低級アル
キルアミノ低級アルキル(例えばN,N−ジメチルアミ
ノメチル,N,N−ジメチルアミノエチル,N,N,N
−トリメチルアンモニウムエチル),モルホリノメチル
,グアニルメチル,グアニルエチルなどの置換1゛ルキ
ル基,低級アルキルアミノ(例えばメチルアミノ),ス
ルホ低級アルキルアミノ(例えば2−スルホエチルアミ
ノ),ハイドロキシ低級アルキルアミノ(例えばハイド
ロキシエチルアミノ),低級アルキルアミノ低級アルキ
ルアミノ(例えば2ジメチルアミノエチルアミノ,2−
トリメチルアンモニウムエチルアミノ),アシルアミノ
(例えばアセチルアミノ),2−ジメチルアミノアセチ
ルアミノ,2−トリメチルアンモニウムアセチルアミノ
,低級アルコキシカルボニルアミノ(例えばメトキシカ
ルボニルアミノ)などの置換アミノ基,メチルチオ,2
−ハイドロキシエチルチオ,2−アシルオキシエチルチ
オ(例えば2−アセトキシエチルチオ,2−フエルアセ
トキシエチルチオ,2−カプロイルオキシエチルチオ)
,カルボキシメチルチオ,アルコキシカルボニルメチル
チオ(例えばメトキシカルボニルメチルチオ,ヘキシル
オキシカルボニルメチルチオ),カルバモイルメチルチ
オ,N一低級アルキルカルバモイルメチルチオ(例えば
N,N−ジメチルカルバモイルメチルチオ),アセチル
メチルチオ,N−低級アルキルアミノ低級アルキルチオ
(例えば2−N,N−ジメチルアミノエチルチオ,2−
N,N,Nトリメチルアンモニウムエチルチオ),モル
ホリノカルボニルメチルチオ,2−スルホエチルチオな
どの置換チオ基があげられる。本発明のセフアロスポリ
ン誘導81〕は、化合物〔珀とヒドロキシルアミンを反
応させることにより製造される。
アルキル基および上記置換分を有する低級アルキレン基
などであつてもよい。多価基が−N′−である場合には
、さらにカルボキシル基,アルコキシカルボニル基,ア
シル基,カルバモイル基,低級アルキルカルバモイル基
等の置換分が直結していてもよい。具体的には、たとえ
ばカルボキシメチル,カルバモイルメチル,N−低級ア
ルキルカルバモイルメチル(例えばN,N−ジメチルカ
ルバモイルメチル),ハイドロキシ低級アルキル(例え
ばハイドロキシメチル,2−ハイドロキシエチル),ア
シルオキシ低級アルキル(例えばアセトキシメチル,2
アセトキシエチル),アルコキシカルボニルメチル(例
えばメトキシカルボニルメチル,ヘキシルオキシカルボ
ニルメチル,オクチルオキシカルボニルメチル),メチ
ルチオメチル,メチルスルホニルメチル,N−低級アル
キルアミノ低級アルキル(例えばN,N−ジメチルアミ
ノメチル,N,N−ジメチルアミノエチル,N,N,N
−トリメチルアンモニウムエチル),モルホリノメチル
,グアニルメチル,グアニルエチルなどの置換1゛ルキ
ル基,低級アルキルアミノ(例えばメチルアミノ),ス
ルホ低級アルキルアミノ(例えば2−スルホエチルアミ
ノ),ハイドロキシ低級アルキルアミノ(例えばハイド
ロキシエチルアミノ),低級アルキルアミノ低級アルキ
ルアミノ(例えば2ジメチルアミノエチルアミノ,2−
トリメチルアンモニウムエチルアミノ),アシルアミノ
(例えばアセチルアミノ),2−ジメチルアミノアセチ
ルアミノ,2−トリメチルアンモニウムアセチルアミノ
,低級アルコキシカルボニルアミノ(例えばメトキシカ
ルボニルアミノ)などの置換アミノ基,メチルチオ,2
−ハイドロキシエチルチオ,2−アシルオキシエチルチ
オ(例えば2−アセトキシエチルチオ,2−フエルアセ
トキシエチルチオ,2−カプロイルオキシエチルチオ)
,カルボキシメチルチオ,アルコキシカルボニルメチル
チオ(例えばメトキシカルボニルメチルチオ,ヘキシル
オキシカルボニルメチルチオ),カルバモイルメチルチ
オ,N一低級アルキルカルバモイルメチルチオ(例えば
N,N−ジメチルカルバモイルメチルチオ),アセチル
メチルチオ,N−低級アルキルアミノ低級アルキルチオ
(例えば2−N,N−ジメチルアミノエチルチオ,2−
N,N,Nトリメチルアンモニウムエチルチオ),モル
ホリノカルボニルメチルチオ,2−スルホエチルチオな
どの置換チオ基があげられる。本発明のセフアロスポリ
ン誘導81〕は、化合物〔珀とヒドロキシルアミンを反
応させることにより製造される。
化合ガ〕は、通常遊離のままかめるぃはカルボキシル基
におけるリチウム,ナトリウム,カリウム等のアルカリ
金属,アルカリ土類金属塩、あるいはトリエチルアミン
塩等の有機または無機塩として反応に供することができ
る。また、ヒドロキシルアミンは、通常塩酸,硫酸,リ
ン酸などの鉱酸,シユウ酸,酢酸,p−トルエンスルホ
ン酸等の有機酸との塩として反応に供せられる。反応は
、通常溶媒中で有利に進行し、溶媒としては本反応を阻
害しないものが望ましく、たとえば水,メタノール,エ
タノール,ジオキサン,アセトニトリル,テトラヒドロ
フラン,クロロホルム,塩化メチレン,塩化エチレン,
ジメチルホルムアミド,ジメチルアセタミド,ヘキサメ
チルホスホルアミドまたはそれらの混合物などのケトン
試楽と反応する可能囲のない一般溶媒が繁用される。ヒ
ドロキシルアミンは、通常化合ガ〕と等モル以上使用す
ればよいが、やや過剰量、たとえば1.1当量程度使用
するのが望ましい。この反応は、通常酸姓条件下で進行
し、上述したごとき酸類を共存させるのがよい。通常、
ヒドロキシルアミンを酸塩として反応に供するので、特
に酸を添加する必要はないが、更に当モル量の酸類を添
加するとよい結果が得られる場合もある。一般lこ、反
応をより円滑に進めるために反応液のPHを0.5〜7
.0の範囲に特に3.0〜6.0の範囲に保持するのが
よい。反応温度は、特に限定されないが通常室温才ある
いはO〜8『Cの温度範囲で行なうのが良く、特に6『
C以下で行なうのがよい。反応時間は、通常0.5〜?
4時間であるが、好ましくは室温で0.5〜12時間で
ある。得られるセフアロスポリン誘導侯1〕は公知の手
段たとえば、溶媒抽出,液注変換,転溶,晶出,再結晶
,クロマトグラフイ一などによつて単離精製することが
できる。また、セフアロスポリン誘導仮1〕は化合物0
とチオシアン酸およびヒドロキシルアミンとを反応させ
ることにより製造される。化合物1は、遊離のままかあ
るいは化合物0で記載のごときアルカリ金属塩,アルカ
リ土類金属塩,有機塩または無機塩として反応に供され
る。ヒドロキシルアミンは、遊離のままあるいは上記の
ごとき鉱酸または有機酸塩として用いられる。チオシア
ン酸は、たとえばカリウム,ナトリウム,カルシウム,
リチウム等のアルカリ金属塩,アルカリ土類金属塩また
はアンモニウム塩などとして反応に供される。本反応に
おいては、チオシアン酸,ヒドロキシルアミンのどちら
を先に化合ガ〕と反応させてもよく、また同時に化合ガ
釦と反応させてもよい。チオシアン酸,ヒドロキシルア
ミンの使用量は、化合吻0に対してほぼ等モルかあるい
はやや過剰であり、たとえば1.1当量程度使用するの
が望ましい。一般に溶媒中で反応は行なわれるが、溶媒
としては化合〕〕とヒドロキシルアミンとの反応におい
て用いりれるものなどが繁用される。反応液のPH,温
度,時間その他の反応条件は、化合?〕とヒドロキシル
アミンとの反応で使用されるのと同程度が好ましい。得
られるセフアロスポリン誘導(有)Dは、前記のごとき
公知の手段により単離精製することができる。さらに、
目的物のセフアロスポリン誘導侯0は、たとえば化合〕
閏と一般式〔式中の記号は前記と同意義。
におけるリチウム,ナトリウム,カリウム等のアルカリ
金属,アルカリ土類金属塩、あるいはトリエチルアミン
塩等の有機または無機塩として反応に供することができ
る。また、ヒドロキシルアミンは、通常塩酸,硫酸,リ
ン酸などの鉱酸,シユウ酸,酢酸,p−トルエンスルホ
ン酸等の有機酸との塩として反応に供せられる。反応は
、通常溶媒中で有利に進行し、溶媒としては本反応を阻
害しないものが望ましく、たとえば水,メタノール,エ
タノール,ジオキサン,アセトニトリル,テトラヒドロ
フラン,クロロホルム,塩化メチレン,塩化エチレン,
ジメチルホルムアミド,ジメチルアセタミド,ヘキサメ
チルホスホルアミドまたはそれらの混合物などのケトン
試楽と反応する可能囲のない一般溶媒が繁用される。ヒ
ドロキシルアミンは、通常化合ガ〕と等モル以上使用す
ればよいが、やや過剰量、たとえば1.1当量程度使用
するのが望ましい。この反応は、通常酸姓条件下で進行
し、上述したごとき酸類を共存させるのがよい。通常、
ヒドロキシルアミンを酸塩として反応に供するので、特
に酸を添加する必要はないが、更に当モル量の酸類を添
加するとよい結果が得られる場合もある。一般lこ、反
応をより円滑に進めるために反応液のPHを0.5〜7
.0の範囲に特に3.0〜6.0の範囲に保持するのが
よい。反応温度は、特に限定されないが通常室温才ある
いはO〜8『Cの温度範囲で行なうのが良く、特に6『
C以下で行なうのがよい。反応時間は、通常0.5〜?
4時間であるが、好ましくは室温で0.5〜12時間で
ある。得られるセフアロスポリン誘導侯1〕は公知の手
段たとえば、溶媒抽出,液注変換,転溶,晶出,再結晶
,クロマトグラフイ一などによつて単離精製することが
できる。また、セフアロスポリン誘導仮1〕は化合物0
とチオシアン酸およびヒドロキシルアミンとを反応させ
ることにより製造される。化合物1は、遊離のままかあ
るいは化合物0で記載のごときアルカリ金属塩,アルカ
リ土類金属塩,有機塩または無機塩として反応に供され
る。ヒドロキシルアミンは、遊離のままあるいは上記の
ごとき鉱酸または有機酸塩として用いられる。チオシア
ン酸は、たとえばカリウム,ナトリウム,カルシウム,
リチウム等のアルカリ金属塩,アルカリ土類金属塩また
はアンモニウム塩などとして反応に供される。本反応に
おいては、チオシアン酸,ヒドロキシルアミンのどちら
を先に化合ガ〕と反応させてもよく、また同時に化合ガ
釦と反応させてもよい。チオシアン酸,ヒドロキシルア
ミンの使用量は、化合吻0に対してほぼ等モルかあるい
はやや過剰であり、たとえば1.1当量程度使用するの
が望ましい。一般に溶媒中で反応は行なわれるが、溶媒
としては化合〕〕とヒドロキシルアミンとの反応におい
て用いりれるものなどが繁用される。反応液のPH,温
度,時間その他の反応条件は、化合?〕とヒドロキシル
アミンとの反応で使用されるのと同程度が好ましい。得
られるセフアロスポリン誘導(有)Dは、前記のごとき
公知の手段により単離精製することができる。さらに、
目的物のセフアロスポリン誘導侯0は、たとえば化合〕
閏と一般式〔式中の記号は前記と同意義。
〕などで表わされるピリジン類または一般式RlSH
〔式中の記号は前記と同意義。
〕などで表わされるチオール類を反応させるなどの3位
アシロキシ基の求核置換反応などの公知の手段(E.H
,Flyrlrl編集 セフアロスポリン アンド ペ
ニシリン,第4章,第5部,第151頁,1972年ア
カデミツク・プレス社発行:特公昭3917936号;
特公昭39−26972号;特公昭43−11283号
など)に従つて製造することができる。
アシロキシ基の求核置換反応などの公知の手段(E.H
,Flyrlrl編集 セフアロスポリン アンド ペ
ニシリン,第4章,第5部,第151頁,1972年ア
カデミツク・プレス社発行:特公昭3917936号;
特公昭39−26972号;特公昭43−11283号
など)に従つて製造することができる。
なお、本発明の原料として用いられる化合物0,〔]は
、いずれもセフアロスポリン製造工業の共通の原料化合
物であるセフアロスポリンC,デスアセチルセフアロス
ポリンCあるいはこれらから工業的に製造される7ーア
ミノセフアロスポリン類等から工業的規模で製造するこ
とができ、たとえば特開昭50−95293号,特開昭
50111093号,特願昭51−1274号などに記
載の方法又はそれに準する方法により製造される。
、いずれもセフアロスポリン製造工業の共通の原料化合
物であるセフアロスポリンC,デスアセチルセフアロス
ポリンCあるいはこれらから工業的に製造される7ーア
ミノセフアロスポリン類等から工業的規模で製造するこ
とができ、たとえば特開昭50−95293号,特開昭
50111093号,特願昭51−1274号などに記
載の方法又はそれに準する方法により製造される。
かくして得られるセフアロスポリン誘導侯1〕は、4位
のカルボキシル基を遊離のままで用いてもよいが、たと
えばナトリウム,カリウム等の無毒件カチオン,アルギ
゛ニン,オルニチン,リジン,ヒスチジン等の塩基肚゛
アミノ酸、N−メチルグルカミン,ジエタノールアミン
,トリエタノールアミン,トリスヒドロキシメチルアミ
ノメタンなどのポリヒドロキシアルキルアミン等との塩
を形成さぜて用いてもよい。
のカルボキシル基を遊離のままで用いてもよいが、たと
えばナトリウム,カリウム等の無毒件カチオン,アルギ
゛ニン,オルニチン,リジン,ヒスチジン等の塩基肚゛
アミノ酸、N−メチルグルカミン,ジエタノールアミン
,トリエタノールアミン,トリスヒドロキシメチルアミ
ノメタンなどのポリヒドロキシアルキルアミン等との塩
を形成さぜて用いてもよい。
またこイ゛Lらの4位のカルボキシル基をエステル化し
、たとえば血中濃度を増加させ、有効時間を延長させる
効果のある生物学的に活囲なエステル誘導体に変換して
用いることもできる。その場合に有効なエステル基とし
ては、たとえばメトキシメチル,エトキシメチル,イソ
プロポキシメチル,α−メトキシエチル,α一エトキシ
エチル等のアルコキシメチル,α−アルコキシエチル等
のα−アルコキシ−α一置換メチル基、メチルチオメチ
ル,エチルチオメチル,イソプロピルチオメチル等のア
ルキルチオメチル基、またピバロイルォキシメチル,α
−アセトキシブチル等のアシルオキシメチル基またはα
−アシルオキシ−α一置換メチル基、エトキシカル不ニ
ルオキシメチル,α一エトキシカルボニルオキシエチル
等のα−アルコキシ炭酸−α一置換メチル基等が用いら
れる。本発明目的物のセフアロスポリン誘導体〔1〕は
、公知セフアロスポリン剤と同様、たとえば粉末投与あ
るいは常法に基づいて生理学的に使用可能な担体または
賦形剤と共に溶液または懸濁液等として投与することが
できる。
、たとえば血中濃度を増加させ、有効時間を延長させる
効果のある生物学的に活囲なエステル誘導体に変換して
用いることもできる。その場合に有効なエステル基とし
ては、たとえばメトキシメチル,エトキシメチル,イソ
プロポキシメチル,α−メトキシエチル,α一エトキシ
エチル等のアルコキシメチル,α−アルコキシエチル等
のα−アルコキシ−α一置換メチル基、メチルチオメチ
ル,エチルチオメチル,イソプロピルチオメチル等のア
ルキルチオメチル基、またピバロイルォキシメチル,α
−アセトキシブチル等のアシルオキシメチル基またはα
−アシルオキシ−α一置換メチル基、エトキシカル不ニ
ルオキシメチル,α一エトキシカルボニルオキシエチル
等のα−アルコキシ炭酸−α一置換メチル基等が用いら
れる。本発明目的物のセフアロスポリン誘導体〔1〕は
、公知セフアロスポリン剤と同様、たとえば粉末投与あ
るいは常法に基づいて生理学的に使用可能な担体または
賦形剤と共に溶液または懸濁液等として投与することが
できる。
具体的には、たとえば人の上述の細閑による起炎囲の疾
患,化膿健疾患,呼吸器感染症,胆道感染症,腸内感染
症,尿路感染症および産婦人科感染症の治療に安全な治
療剤として用いられ、本発明目的物中の、たとえば7〔
2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−
4−イル)アセタミド〕−3−(1メチルテトラゾール
−5−イノリチオメチル一3セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−
4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−〔1一
〔N,N−ジメチルアミノエチノリテトラゾール5−イ
ル〕チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ベタイ
ン,7一〔2−(2−イミノ−3ヒドロキシ−4−チア
ゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(1−カルバモ
イルメチルテトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフエム4−カルボン酸ナトリウム,7一〔2−(2−
イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノ(
ハ)アセタミド〕−3−(1,3,4−チアジアゾール
一2−イル)チオメチル−3−セフエム一4カルボン酸
ナトリウム,7一R2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(2
−メチル−1,3,4−チアジアゾール一5−イノりチ
オメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム,
7一〔2−(2イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリ
ン−4−イル)アセタミド〕−3−〔2−(2−N,N
一ジメチルアミノエチル)−1,3,4−チアジアゾー
ル一5−イル〕チオメチル−3−セフエム一4一カルボ
ン酸ベタイン,7一〔2−(2−イミノー3−ヒドロキ
シ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(
2−ヒドロキシメチル−1,3,4−チアジアゾール一
5−イル)チオメチル一3−セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(2
−N,N−ジメチルカルバモイルメチル−1,3,4−
チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸ナトリウム,7一〔2−(2一イミノ
一3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4ーイル)アセタ
ミド〕−3−〔2−(2−ヒドロキシエチルチオ)−1
,3,4−チアジアゾール一5一イル〕チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム,7一〔2−(
2−イミノ−3一ヒドロキシ一4−チアゾリン−4−イ
ル)アセタミド〕−3−(2−カルボキシメチル−1,
3,4一チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−
セフエムニ4−カルボン酸ジナトリウム,7一〔2一(
2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イ
ノリアセタミド〕−3−(1,2,3−トリアゾール−
4−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7一〔2−(2一イミノ一3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4一イル)アセタミド〕−3−(3
,4−ジメチル−1,2,4−トリアゾール−5−イル
)チオメチル一3−セフエム一4−カノレボン酸ナトリ
ウム,7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−
チア ・ゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(3−
ヒドロキシメチル−4−メチル−1,2.4−トリアゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸ナトリウム,7一〔2−(2−イミノ−3−ヒド
ロキシ−4−チアゾリン−4−イル),2アセタミド〕
−3−(2−メチル−1,3,4−オキサジアゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7一〔2一(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリンー4−イル)アセタミド〕−3−(4
−カルボキシメチルチアゾール−2−イル)チオメチル
−3ーセフエム一4−カルボン酸ジナトリウムを成人1
日Kg当り約5−20〜を1日3−4回に分割して筋肉
内又は静脈内江射により投与するのがよい。
患,化膿健疾患,呼吸器感染症,胆道感染症,腸内感染
症,尿路感染症および産婦人科感染症の治療に安全な治
療剤として用いられ、本発明目的物中の、たとえば7〔
2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−
4−イル)アセタミド〕−3−(1メチルテトラゾール
−5−イノリチオメチル一3セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−
4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−〔1一
〔N,N−ジメチルアミノエチノリテトラゾール5−イ
ル〕チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ベタイ
ン,7一〔2−(2−イミノ−3ヒドロキシ−4−チア
ゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(1−カルバモ
イルメチルテトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフエム4−カルボン酸ナトリウム,7一〔2−(2−
イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノ(
ハ)アセタミド〕−3−(1,3,4−チアジアゾール
一2−イル)チオメチル−3−セフエム一4カルボン酸
ナトリウム,7一R2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(2
−メチル−1,3,4−チアジアゾール一5−イノりチ
オメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム,
7一〔2−(2イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリ
ン−4−イル)アセタミド〕−3−〔2−(2−N,N
一ジメチルアミノエチル)−1,3,4−チアジアゾー
ル一5−イル〕チオメチル−3−セフエム一4一カルボ
ン酸ベタイン,7一〔2−(2−イミノー3−ヒドロキ
シ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(
2−ヒドロキシメチル−1,3,4−チアジアゾール一
5−イル)チオメチル一3−セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(2
−N,N−ジメチルカルバモイルメチル−1,3,4−
チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸ナトリウム,7一〔2−(2一イミノ
一3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4ーイル)アセタ
ミド〕−3−〔2−(2−ヒドロキシエチルチオ)−1
,3,4−チアジアゾール一5一イル〕チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム,7一〔2−(
2−イミノ−3一ヒドロキシ一4−チアゾリン−4−イ
ル)アセタミド〕−3−(2−カルボキシメチル−1,
3,4一チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−
セフエムニ4−カルボン酸ジナトリウム,7一〔2一(
2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イ
ノリアセタミド〕−3−(1,2,3−トリアゾール−
4−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7一〔2−(2一イミノ一3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4一イル)アセタミド〕−3−(3
,4−ジメチル−1,2,4−トリアゾール−5−イル
)チオメチル一3−セフエム一4−カノレボン酸ナトリ
ウム,7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−
チア ・ゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(3−
ヒドロキシメチル−4−メチル−1,2.4−トリアゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸ナトリウム,7一〔2−(2−イミノ−3−ヒド
ロキシ−4−チアゾリン−4−イル),2アセタミド〕
−3−(2−メチル−1,3,4−オキサジアゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
ナトリウム,7一〔2一(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリンー4−イル)アセタミド〕−3−(4
−カルボキシメチルチアゾール−2−イル)チオメチル
−3ーセフエム一4−カルボン酸ジナトリウムを成人1
日Kg当り約5−20〜を1日3−4回に分割して筋肉
内又は静脈内江射により投与するのがよい。
次にこの発明の方法を実施例により説明する。なお、N
MRスペクトルはバリアンHAlOO型(100MHz
)またはT6O型(60MHz)で測定し、テトラメチ
ルシランを基準とし、δ値をPFで表わす。またsは一
重線,dは二重線,tは三重線,qは四重線,mは多重
線,Jは結合定数を表わす。なお、実施例のつぎにその
実例によつて得た本発明化合〕I〕の代表的なグラム陰
曲菌に対する最少発育阻止濃度(MIC)および市場に
提供され臨床的に評価もされているセフアロスポリン(
ザニユウイングランド ジヤーナル オブ メジシン
294巻,24頁 1976年 およびジヤーナル オ
ブ フアーマシユウチカル サイエンス 64巻 18
99頁 1975年記載)のうち代表的なセフアロリジ
ン(7一(2−チエニルアセタミド)−3−(1−ピリ
ジル)メチル−3一セフエム一4−カルボン酸ベタイン
)およびセフアゾリン(7一(1H−テトラゾール−1
−イル)アセタミド−3−(2−メチル−1,3,4−
チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸ナトリウム)の最少発育阻止濃度とを
表に示す。
MRスペクトルはバリアンHAlOO型(100MHz
)またはT6O型(60MHz)で測定し、テトラメチ
ルシランを基準とし、δ値をPFで表わす。またsは一
重線,dは二重線,tは三重線,qは四重線,mは多重
線,Jは結合定数を表わす。なお、実施例のつぎにその
実例によつて得た本発明化合〕I〕の代表的なグラム陰
曲菌に対する最少発育阻止濃度(MIC)および市場に
提供され臨床的に評価もされているセフアロスポリン(
ザニユウイングランド ジヤーナル オブ メジシン
294巻,24頁 1976年 およびジヤーナル オ
ブ フアーマシユウチカル サイエンス 64巻 18
99頁 1975年記載)のうち代表的なセフアロリジ
ン(7一(2−チエニルアセタミド)−3−(1−ピリ
ジル)メチル−3一セフエム一4−カルボン酸ベタイン
)およびセフアゾリン(7一(1H−テトラゾール−1
−イル)アセタミド−3−(2−メチル−1,3,4−
チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸ナトリウム)の最少発育阻止濃度とを
表に示す。
参考例 1
7−(4−クロロ−3−オキソブチリルアミトつ−3−
アセトキシメチル−3−セフエム一4−カノ閾シ酸の製
造:ジケテン4,49の塩化メチレン10a溶液を一3
5℃に冷却しておき、これに塩素3.929を導入し1
5分間かきまぜた。
アセトキシメチル−3−セフエム一4−カノ閾シ酸の製
造:ジケテン4,49の塩化メチレン10a溶液を一3
5℃に冷却しておき、これに塩素3.929を導入し1
5分間かきまぜた。
別に7ーアミノセフアロスポラン酸10.99とトリエ
チルアミン8619を塩化メチレン100aに溶解し−
30℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を−30
℃をこえないように冷却かきまぜながら加えた。1時間
かけて徐々に液温を室温にまで上昇せしめ、減圧下に溶
媒を留去し残留分に酢酸エチルエステル100m1を加
えこれを10%リン酸水溶液100m1と激しくふりま
せた。
チルアミン8619を塩化メチレン100aに溶解し−
30℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を−30
℃をこえないように冷却かきまぜながら加えた。1時間
かけて徐々に液温を室温にまで上昇せしめ、減圧下に溶
媒を留去し残留分に酢酸エチルエステル100m1を加
えこれを10%リン酸水溶液100m1と激しくふりま
せた。
水層をとり食塩を飽和し酢酸エチルエステルで3回抽出
した。酢酸エチルエステル層を合し、飽和食塩水で洗浄
後乾燥し減圧下に20mZまでに濃縮し冷所に静置する
と結晶が析出し、これを淵取すると、標記の化合物が得
られた。収量6.390mp135−140℃(分解)
。
した。酢酸エチルエステル層を合し、飽和食塩水で洗浄
後乾燥し減圧下に20mZまでに濃縮し冷所に静置する
と結晶が析出し、これを淵取すると、標記の化合物が得
られた。収量6.390mp135−140℃(分解)
。
IR(CTn−イ直KBr):1790,1750,1
655。
655。
NMR(100MHz,d6−DMSO中δイ直):2
.00(S,COCH3),3.41および3.64(
ABq,J=18Hz,2−CH2),3.56(S,
COCH2CO),4.50(S,ClCH2−),4
.67および5.00(ABq,J=18Hz,3−C
H2)5.07(D,J=4.5Hz,6−H),5.
66(Dd,J=4.5および8Hz,7−H),9.
04(D,J=8Hz,C0NH)。
.00(S,COCH3),3.41および3.64(
ABq,J=18Hz,2−CH2),3.56(S,
COCH2CO),4.50(S,ClCH2−),4
.67および5.00(ABq,J=18Hz,3−C
H2)5.07(D,J=4.5Hz,6−H),5.
66(Dd,J=4.5および8Hz,7−H),9.
04(D,J=8Hz,C0NH)。
元素分析:Cl4Hl5CIN2O7Sに対する理論値
;C,43.O3:H,3.8l;N,7.l7。
;C,43.O3:H,3.8l;N,7.l7。
実測値:C,43.Ol;H,3.89;N,7.l8
O参考例 27−(4−ブロモ−3−オキソブチリルア
ミり−3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸の製造:ジケテン3.49の塩化メチレン101
ZI溶液を−30℃に冷却し、これに臭素6.49の塩
化メチレン10a溶液を滴下した。
O参考例 27−(4−ブロモ−3−オキソブチリルア
ミり−3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸の製造:ジケテン3.49の塩化メチレン101
ZI溶液を−30℃に冷却し、これに臭素6.49の塩
化メチレン10a溶液を滴下した。
別に7ーアミノセフアロスポラン酸10.99とトリエ
チルアミン8.19を塩化メチレン100m1に溶解し
−30℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を−3
0℃をこえないように冷却かきまぜながら加えた。1時
間かけて徐々に液温を室温にまで上昇せしめ、減圧下に
溶媒を留去し残留分に酢酸エチルエステル1001n1
を加えこれを10%リン酸水溶液100m1と激しくふ
りまぜた。
チルアミン8.19を塩化メチレン100m1に溶解し
−30℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を−3
0℃をこえないように冷却かきまぜながら加えた。1時
間かけて徐々に液温を室温にまで上昇せしめ、減圧下に
溶媒を留去し残留分に酢酸エチルエステル1001n1
を加えこれを10%リン酸水溶液100m1と激しくふ
りまぜた。
水層をとり食塩を飽和し酢酸エチルエステルで2回抽出
した。酢酸エチルエステル層を合し、飽和食塩水で洗浄
、乾燥、活囲炭処理し減圧下に乾固し残留分にエーテル
を加えて静置すると結晶化し、これを吸引戸取すると標
記の化合物が得られた。本品は結晶溶媒として酢酸エチ
ルエステル4分の1分子を含む。収量8IR(CI!L
−1値KBr);1780,1735,NMR(100
MHz,d6−DMSO中δ値);2.01(S,CH
3CO),3.54(M,2−CH2),3.62(S
,COCH2CO),4.37(S,Br,CH2CO
),4.67および5.01(ABq,J=14Hz,
3−CH2),5.08(D,J=4Hz,6−H),
5.66(Dd,J=4ぉよび8Hz,7−H),9.
04(D,J=8Hz,C0NH)。元素分析:Cl4
Hl5BlN2C7S″1/4C4H802に対する理
論値:C,39.4O;H,3.75;N,6.l3O
実測値;C,39.2O;H,3.63;N,6.O9
。
した。酢酸エチルエステル層を合し、飽和食塩水で洗浄
、乾燥、活囲炭処理し減圧下に乾固し残留分にエーテル
を加えて静置すると結晶化し、これを吸引戸取すると標
記の化合物が得られた。本品は結晶溶媒として酢酸エチ
ルエステル4分の1分子を含む。収量8IR(CI!L
−1値KBr);1780,1735,NMR(100
MHz,d6−DMSO中δ値);2.01(S,CH
3CO),3.54(M,2−CH2),3.62(S
,COCH2CO),4.37(S,Br,CH2CO
),4.67および5.01(ABq,J=14Hz,
3−CH2),5.08(D,J=4Hz,6−H),
5.66(Dd,J=4ぉよび8Hz,7−H),9.
04(D,J=8Hz,C0NH)。元素分析:Cl4
Hl5BlN2C7S″1/4C4H802に対する理
論値:C,39.4O;H,3.75;N,6.l3O
実測値;C,39.2O;H,3.63;N,6.O9
。
参考例 3
7−(4−ブロモ−3−オキソブチリルアミり一3−(
マンデルオキシメチル)−3−セフエム一4−カルボン
酸の製造:ジケテン1.349(0.013モル)の塩
化メチレン10a溶液を−30℃に冷却しておき、これ
に臭素3.149(0.014モル)の塩化メチレン1
0m1溶液を滴丁した。
マンデルオキシメチル)−3−セフエム一4−カルボン
酸の製造:ジケテン1.349(0.013モル)の塩
化メチレン10a溶液を−30℃に冷却しておき、これ
に臭素3.149(0.014モル)の塩化メチレン1
0m1溶液を滴丁した。
別に7ーアミノ一3−(マンデルオキシメチル)−3−
セフエム一4一カルボン酸3.69(0.01モル)と
トリエチルアミン2.8a(0.02モノリを塩化メチ
レン50m1に溶解し−20′Cに冷却しておき、これ
に上記の反応溶液を10分間にわたつて滴Tしついで冷
却装置をはずし液温を室温にあげ、更に30分間かきま
ぜた。減圧下に塩化メチレンを留去し、残留分に10%
リン酸30me,水100m1,テトラヒドロフラン2
0m1および酢酸エチルエステル250m1を加え激し
くふりまぜた。有機層を分取し、水洗乾燥後減圧下に溶
媒を留去し、残留分にエーテル200m1を加えて器壁
をこすると、標記の化合物が粉末として得られた。収量
4.59。IR(KBr,Cl値);3370,178
2,1736,1672,1648,15390NMR
(100MHz,d6−DMSO中δ値);3.24(
プロードS,2−CH2),3.63(S,CH2CO
),4.39(S,BrCH2−),4.77および5
.05(ABq,J=14Hz,3−CH2),5.6
8(Dd,J=5Hz,6−H),5.17(S,一C
H−),5.68(Dd,J=5および8Hz,7−H
),7.3−7.5(M,5H,C6H5−),9.0
2(D,J=8Hz,C0NH)。
セフエム一4一カルボン酸3.69(0.01モル)と
トリエチルアミン2.8a(0.02モノリを塩化メチ
レン50m1に溶解し−20′Cに冷却しておき、これ
に上記の反応溶液を10分間にわたつて滴Tしついで冷
却装置をはずし液温を室温にあげ、更に30分間かきま
ぜた。減圧下に塩化メチレンを留去し、残留分に10%
リン酸30me,水100m1,テトラヒドロフラン2
0m1および酢酸エチルエステル250m1を加え激し
くふりまぜた。有機層を分取し、水洗乾燥後減圧下に溶
媒を留去し、残留分にエーテル200m1を加えて器壁
をこすると、標記の化合物が粉末として得られた。収量
4.59。IR(KBr,Cl値);3370,178
2,1736,1672,1648,15390NMR
(100MHz,d6−DMSO中δ値);3.24(
プロードS,2−CH2),3.63(S,CH2CO
),4.39(S,BrCH2−),4.77および5
.05(ABq,J=14Hz,3−CH2),5.6
8(Dd,J=5Hz,6−H),5.17(S,一C
H−),5.68(Dd,J=5および8Hz,7−H
),7.3−7.5(M,5H,C6H5−),9.0
2(D,J=8Hz,C0NH)。
参考例 4
7−(4−クロル−3−オキソブチリルアミド)3−(
1−メチルテトラゾール−5−イノりチオメチノレ一3
−セフエム一4−カルボン酸の製造:ジケテン166.
59(1.98モル)の塩化メチレン830m1溶液を
、内温−25から−30℃にするよう冷却かきまぜなが
ら、これに塩素ガス1409(1.97モル)を100
分間にわたつて導入しついで同温度で30分間かきまぜ
た。
1−メチルテトラゾール−5−イノりチオメチノレ一3
−セフエム一4−カルボン酸の製造:ジケテン166.
59(1.98モル)の塩化メチレン830m1溶液を
、内温−25から−30℃にするよう冷却かきまぜなが
ら、これに塩素ガス1409(1.97モル)を100
分間にわたつて導入しついで同温度で30分間かきまぜ
た。
別に7ーアミノ一3−(1−メチルテトラゾール−5一
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸50
09(1.52モル)とジブチルアミン3949(3.
05モノリを塩化メチレン31に溶解し−10から−2
0℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を30分間
にわたつて滴Tし、ついで同温度で40分間かきまぜた
。反応液を酢酸エチル61と10%リン酸61の混液に
加え、激しくかきまぜた。有機層を水洗乾燥後減圧乾固
し残留分をエーテルでほぐすと標記の化合物が粉末とし
て得られた。収量64490IR(KBr,CTIL−
1値):1783,1732,NMR(100MHz,
d6−DMSO中δ値);3.57および3.79(A
Bq,J=18Hz,2一CH2),3.56(S,C
OCH2CO),3.91(S,テトラゾール−CH3
),4.20および4.37(ABq,J=13Hz,
3−CH2),4.52(S,ClCH2),5.07
(D,J=5Hz,6一H),5.67(Dd,J=5
および8Hz,7一H),9.05(D,J=8HzF
−CONH−)c参考例 57−(4−ブロモ−3−オ
キソブチリルアミトつ一3−(1−メチルテトラゾール
−5−イル)チオメチノL?−3−セフエム一4−カル
ボン酸の製造:ジケテン1.039(0.01モル)の
塩化メチレン5m1溶液を−30℃に冷却しておき、こ
れに臭素2.249(0.01モル)の塩化メチレン5
m1溶液を滴下した。
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸50
09(1.52モル)とジブチルアミン3949(3.
05モノリを塩化メチレン31に溶解し−10から−2
0℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を30分間
にわたつて滴Tし、ついで同温度で40分間かきまぜた
。反応液を酢酸エチル61と10%リン酸61の混液に
加え、激しくかきまぜた。有機層を水洗乾燥後減圧乾固
し残留分をエーテルでほぐすと標記の化合物が粉末とし
て得られた。収量64490IR(KBr,CTIL−
1値):1783,1732,NMR(100MHz,
d6−DMSO中δ値);3.57および3.79(A
Bq,J=18Hz,2一CH2),3.56(S,C
OCH2CO),3.91(S,テトラゾール−CH3
),4.20および4.37(ABq,J=13Hz,
3−CH2),4.52(S,ClCH2),5.07
(D,J=5Hz,6一H),5.67(Dd,J=5
および8Hz,7一H),9.05(D,J=8HzF
−CONH−)c参考例 57−(4−ブロモ−3−オ
キソブチリルアミトつ一3−(1−メチルテトラゾール
−5−イル)チオメチノL?−3−セフエム一4−カル
ボン酸の製造:ジケテン1.039(0.01モル)の
塩化メチレン5m1溶液を−30℃に冷却しておき、こ
れに臭素2.249(0.01モル)の塩化メチレン5
m1溶液を滴下した。
別に7ーアミノ一3−(1−メチルテトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸3.
299(0.01モル)とトリエチルアミン2.029
を塩化メチレン20aに溶解し−20℃に冷却しておき
、これに上記の反応溶液を急速に滴Tしたら液温は0℃
になつた。徐々に液温を室温にまで上げ15分間かきま
ぜた。反応液を酢酸エチルエステル1501111と1
0%リン酸溶液100m1の混液に加え、激しくかきま
ぜた。有機層を水洗、乾燥後、減圧乾固し残留分をエー
テルでほぐすと標記の化合物が粉末として得られた。収
量4.190IR(KBr,CTfl−1値);178
0,1725,NMR(100MHz,d6−DMSO
中δイ直);3.59および3.81(ABq,J=1
8Hz,2−CH2),3.63(S,COCH2CO
),3.93(S,テトラゾール−CH3),4.21
および4.38(ABq,J=13Hz,3−CH2)
,4.38(S,BrCH2),5.07(D,J=5
Hz,6−H),5.67(Q,J=5および8Hz,
7−H),9.06(D,J=8Hz,C0NH)。
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸3.
299(0.01モル)とトリエチルアミン2.029
を塩化メチレン20aに溶解し−20℃に冷却しておき
、これに上記の反応溶液を急速に滴Tしたら液温は0℃
になつた。徐々に液温を室温にまで上げ15分間かきま
ぜた。反応液を酢酸エチルエステル1501111と1
0%リン酸溶液100m1の混液に加え、激しくかきま
ぜた。有機層を水洗、乾燥後、減圧乾固し残留分をエー
テルでほぐすと標記の化合物が粉末として得られた。収
量4.190IR(KBr,CTfl−1値);178
0,1725,NMR(100MHz,d6−DMSO
中δイ直);3.59および3.81(ABq,J=1
8Hz,2−CH2),3.63(S,COCH2CO
),3.93(S,テトラゾール−CH3),4.21
および4.38(ABq,J=13Hz,3−CH2)
,4.38(S,BrCH2),5.07(D,J=5
Hz,6−H),5.67(Q,J=5および8Hz,
7−H),9.06(D,J=8Hz,C0NH)。
参考例 67−(4−ブロモ−3−オキソブチリルアミ
ド)一3−(カルバモイルオキシメチル)−3−セフエ
ム一4−カルボン酸の製造:ジケテン0.1019の塩
化メチレン2m1溶液を30℃に冷却しておき、これに
臭素0.2089の四塩化炭素1.3m′溶液を滴下し
た。
ド)一3−(カルバモイルオキシメチル)−3−セフエ
ム一4−カルボン酸の製造:ジケテン0.1019の塩
化メチレン2m1溶液を30℃に冷却しておき、これに
臭素0.2089の四塩化炭素1.3m′溶液を滴下し
た。
別に7ーアミノ一3−(カルバモイルオキシメチル)−
3一セフエム一4−カルボン酸0.2739とトリエチ
ルアミン0.3039を塩化メチレン4m1に溶解し−
20゛Cに冷却しておき、これに上記の反応溶液を滴下
しついで冷却装置をはずし液温を室温にあげ更に30分
間かきまぜた。減圧下に塩化メチレンを留去し、残留分
に10%リン酸20mh,メチルエチルケトン30m1
および飽和食塩水5m1を加え激しくふりまぜた。有機
層を分取し、飽和食塩水5m1で洗浄乾燥後減圧下に溶
媒を留去し、残留分にエーテル5aを加えて器壁をこす
ると、標記の化合物が粉末として得られた。収量0.1
489。R(KBr,CTrL−1値):3390,3
00Q,1780,1740,1550,1400,1
3300UVλMax(水中ε値):262nm(0.
89×104)。
3一セフエム一4−カルボン酸0.2739とトリエチ
ルアミン0.3039を塩化メチレン4m1に溶解し−
20゛Cに冷却しておき、これに上記の反応溶液を滴下
しついで冷却装置をはずし液温を室温にあげ更に30分
間かきまぜた。減圧下に塩化メチレンを留去し、残留分
に10%リン酸20mh,メチルエチルケトン30m1
および飽和食塩水5m1を加え激しくふりまぜた。有機
層を分取し、飽和食塩水5m1で洗浄乾燥後減圧下に溶
媒を留去し、残留分にエーテル5aを加えて器壁をこす
ると、標記の化合物が粉末として得られた。収量0.1
489。R(KBr,CTrL−1値):3390,3
00Q,1780,1740,1550,1400,1
3300UVλMax(水中ε値):262nm(0.
89×104)。
NMR(100MHz,d6−DMSO中δイ直);3
.43および3.66(ABq,J=18Hz,2一C
H2),3,64(S,COCH2CO),4.40(
S,BrCH2),4.64および4.93(ABq,
J=13Hz,3−CH2),5.11(D,J=5H
z,6−H),5.68(Dd,J−5および9Hz,
7−H),6.5(プロードS,OCONH2),9.
04(D,J=9Hz,C0NH)。
.43および3.66(ABq,J=18Hz,2一C
H2),3,64(S,COCH2CO),4.40(
S,BrCH2),4.64および4.93(ABq,
J=13Hz,3−CH2),5.11(D,J=5H
z,6−H),5.68(Dd,J−5および9Hz,
7−H),6.5(プロードS,OCONH2),9.
04(D,J=9Hz,C0NH)。
元素分析;Cl3Hl4N3O7sBrに対する理論値
;C,35.79;H,3.23;N,9.6lO実測
値:C,35,84;H,3.25;N,8.26参考
例 7Jヨ黶i4−チオシアナート−3−オキソブチリル
アミド)−3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−
カルボン酸の製造:Jヨ黶i4−クロロ−3−オキソブチ
リルアミトつ△一3−アセトキシメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸0.399(1ミリモル)と口タンカ
リウム(1.5ミリモル)とをアセトニトリル10rI
f,に溶解し室温で16時間かきまぜた。
;C,35.79;H,3.23;N,9.6lO実測
値:C,35,84;H,3.25;N,8.26参考
例 7Jヨ黶i4−チオシアナート−3−オキソブチリル
アミド)−3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−
カルボン酸の製造:Jヨ黶i4−クロロ−3−オキソブチ
リルアミトつ△一3−アセトキシメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸0.399(1ミリモル)と口タンカ
リウム(1.5ミリモル)とをアセトニトリル10rI
f,に溶解し室温で16時間かきまぜた。
減圧下に溶媒を留去し残留分に飽和食塩水10m1を加
え50% 1リン酸で酸囲とし酢酸エチルエステルで抽
出した。拙出液を飽和食塩水で洗浄後乾燥し減圧下に溶
媒を留去し、残留分にエーテルを加えてほぐし、粉末を
炉取すると、標記の化合物が得られた。本品は結晶溶媒
としてエーテル2分の1分子を含む。収量0.399(
収率94%)。IR(C77L−1値KBr):23,
50(CN),1785,17300NMR(100M
Hz,d6−DMSO中δイ直);2,01(S,CO
CH3),3.42および3.66二(ABq,J=1
8Hz,2−CH2),3.62(S,COCH2CO
),4.37(S,SCH2CO),4.68および5
.00(ABq,J=12Hz,3一CH2),5.0
9(D,J=4.5Hz,6−H),5.67(Dd,
J=4.5および8Hz,7−H),】9.06(D,
J=8Hz,C0NH)。
え50% 1リン酸で酸囲とし酢酸エチルエステルで抽
出した。拙出液を飽和食塩水で洗浄後乾燥し減圧下に溶
媒を留去し、残留分にエーテルを加えてほぐし、粉末を
炉取すると、標記の化合物が得られた。本品は結晶溶媒
としてエーテル2分の1分子を含む。収量0.399(
収率94%)。IR(C77L−1値KBr):23,
50(CN),1785,17300NMR(100M
Hz,d6−DMSO中δイ直);2,01(S,CO
CH3),3.42および3.66二(ABq,J=1
8Hz,2−CH2),3.62(S,COCH2CO
),4.37(S,SCH2CO),4.68および5
.00(ABq,J=12Hz,3一CH2),5.0
9(D,J=4.5Hz,6−H),5.67(Dd,
J=4.5および8Hz,7−H),】9.06(D,
J=8Hz,C0NH)。
元素分析:Cl,Hl5N3O7S2・0.5(C2H
,)20に対する理論値;C,43.ll;H,3.5
2;N,9.5OO実測値;C,42.98;H,3.
74;N,9.44O実施例 1 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾ
リン′−′4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシメ
チル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造
:Jヨ黶i4−チオシアナート−3−オキソブチリルアミ
ド)−3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸1.6539と炭酸水素ナトリウム0.3369
を水10r111とテトラヒドロフラン10m1からな
る混液に溶解し室温でかきまぜておき、この混液にヒド
ロキシルアミン塩酸塩0.2789を加えさらに3時間
かきまぜた。
,)20に対する理論値;C,43.ll;H,3.5
2;N,9.5OO実測値;C,42.98;H,3.
74;N,9.44O実施例 1 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾ
リン′−′4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシメ
チル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造
:Jヨ黶i4−チオシアナート−3−オキソブチリルアミ
ド)−3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸1.6539と炭酸水素ナトリウム0.3369
を水10r111とテトラヒドロフラン10m1からな
る混液に溶解し室温でかきまぜておき、この混液にヒド
ロキシルアミン塩酸塩0.2789を加えさらに3時間
かきまぜた。
この反応液を15時間氷室に静置した後減圧Tに濃縮し
テトラヒドロフランを留去した。残留分に炭酸水素ナト
リウム0.3369を加えて得られる混液をポリスチレ
ン樹脂(アンバーライトXAD−2,ロームアンドハー
ス社商品名)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展
開した。目的の生成吻を含む分画液を集めて凍結乾燥す
ると標記の化合物が得られた。収量0.3829。IR
(KBr,CTIL−イ直):1765,1610,1
390,12400NMR(100MHz,重水中δ値
);2.17(S,CH3CO),3.41および3.
73(ABq,J=18Hz,2−CH2),3.79
(S,CH2CO)ラ5.17(D,J=4.5Hz,
6−H),5.76(D,J=4.5Hz,7−H),
6、74(S,チアゾリン5−H)。
テトラヒドロフランを留去した。残留分に炭酸水素ナト
リウム0.3369を加えて得られる混液をポリスチレ
ン樹脂(アンバーライトXAD−2,ロームアンドハー
ス社商品名)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展
開した。目的の生成吻を含む分画液を集めて凍結乾燥す
ると標記の化合物が得られた。収量0.3829。IR
(KBr,CTIL−イ直):1765,1610,1
390,12400NMR(100MHz,重水中δ値
);2.17(S,CH3CO),3.41および3.
73(ABq,J=18Hz,2−CH2),3.79
(S,CH2CO)ラ5.17(D,J=4.5Hz,
6−H),5.76(D,J=4.5Hz,7−H),
6、74(S,チアゾリン5−H)。
UVλMax(水中ε値);260nm(1.147×
104)。
104)。
元素分析:Cl5Hl5N4O7s2Na・1.5H2
0に対する理論値:C,37.73;H,3.8O;N
,ll.73。
0に対する理論値:C,37.73;H,3.8O;N
,ll.73。
実測値;C,37.5O;H,3.85;N,ll.2
9O実施例 2 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸の製造:Jヨ黶i4−ク
ロル−3−オキソブチリルアミド)一3−アセトキシメ
チル−3−セフエム一4−カルボン酸3.99およびチ
オシアン酸カリウム1.09をジメチルアセタミド10
m1に溶解し室温に15時間静置した。
9O実施例 2 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸の製造:Jヨ黶i4−ク
ロル−3−オキソブチリルアミド)一3−アセトキシメ
チル−3−セフエム一4−カルボン酸3.99およびチ
オシアン酸カリウム1.09をジメチルアセタミド10
m1に溶解し室温に15時間静置した。
この混液にヒドロ千シルアミン塩酸塩0.79を加えた
後これを57℃で2時間加温した。冷後この反応液にエ
チルエーテル40m1を加えると油状物が析出した。上
澄液を傾斜して除去した残りの部分を酢酸エチルエステ
ル100m1と混合し器壁をこすると油状物は粉末化し
た。これを吸引炉取すると標記の化合物の粗粉末6.0
9が得られた。上記粉末19を10%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液50meに溶解し、吸引済過し、済液を酢酸で
PH3とし減圧下に約2m1になるまで濃縮し氷庫に静
置した。
後これを57℃で2時間加温した。冷後この反応液にエ
チルエーテル40m1を加えると油状物が析出した。上
澄液を傾斜して除去した残りの部分を酢酸エチルエステ
ル100m1と混合し器壁をこすると油状物は粉末化し
た。これを吸引炉取すると標記の化合物の粗粉末6.0
9が得られた。上記粉末19を10%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液50meに溶解し、吸引済過し、済液を酢酸で
PH3とし減圧下に約2m1になるまで濃縮し氷庫に静
置した。
析出した結晶注粉末を戸取し乾燥すると標記の化合物の
純品0.519が得られた。IR(KBr,(1−Jモ
V!−1値):1785,1775,1725,166
5,1540,1385。NMR(100MHz,d6
−DMSO中δ値);2.03(S,CH3CO),3
.24および3.52(ABq,J=18Hz,2−C
H2),3.59(S,CH2CO),4.75および
4.98(ABq,J=12Hz,3−CH2),4.
98(D,J=4.5Hz,6−H),5.58(Dd
,J=4.5および8.0Hz,7−H),6.68(
S,チアゾリン5−H),7,6(プロードS,=NH
)。実施例 37−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキ
シ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−ア
セトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸の製造
:Jヨ黶i4−クロロ−3−オキソブチリルアミド)一3
−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸0
.399、ヒドロキシルアミン塩酸塩0.07f1およ
び酢酸ナトリウム0.0829をジメチルアセタミド2
m2に浴かし室温で5時間静置した。
純品0.519が得られた。IR(KBr,(1−Jモ
V!−1値):1785,1775,1725,166
5,1540,1385。NMR(100MHz,d6
−DMSO中δ値);2.03(S,CH3CO),3
.24および3.52(ABq,J=18Hz,2−C
H2),3.59(S,CH2CO),4.75および
4.98(ABq,J=12Hz,3−CH2),4.
98(D,J=4.5Hz,6−H),5.58(Dd
,J=4.5および8.0Hz,7−H),6.68(
S,チアゾリン5−H),7,6(プロードS,=NH
)。実施例 37−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキ
シ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−ア
セトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸の製造
:Jヨ黶i4−クロロ−3−オキソブチリルアミド)一3
−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸0
.399、ヒドロキシルアミン塩酸塩0.07f1およ
び酢酸ナトリウム0.0829をジメチルアセタミド2
m2に浴かし室温で5時間静置した。
これにチオシアン酸カリウム0.19を加えた混液を6
0℃に1時間加温した。冷後この反応液にエチルエーテ
ル4m1を加えると油状物が析出した。上澄液を傾斜し
て除いた残りの部分に酢酸エチルエステル10m1を加
え器壁をこすると油状物は粉末化した。これを吸引沢取
すると標記の化合物が得られた。収量0.5290本品
は各種クロマトグラフイ一で検定の結果前記実施例2で
得られた標品と良く一致した。実施例 4 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾ
リン一4−イル)アセタミド〕−3一(2−メチル−1
,3,4−チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:上記実
施例2で得られた7一〔2−(2−イミノ−3−ヒドロ
キシ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−
アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸0.
759,2−メチル−1,3,4−チアジアゾール一5
−チオール0.219および炭酸水素ナトリウム0.2
579をPH6.4のリン酸緩衝液20m1に溶解し5
7℃に加温し、15時間かきませた。
0℃に1時間加温した。冷後この反応液にエチルエーテ
ル4m1を加えると油状物が析出した。上澄液を傾斜し
て除いた残りの部分に酢酸エチルエステル10m1を加
え器壁をこすると油状物は粉末化した。これを吸引沢取
すると標記の化合物が得られた。収量0.5290本品
は各種クロマトグラフイ一で検定の結果前記実施例2で
得られた標品と良く一致した。実施例 4 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾ
リン一4−イル)アセタミド〕−3一(2−メチル−1
,3,4−チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:上記実
施例2で得られた7一〔2−(2−イミノ−3−ヒドロ
キシ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−
アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸0.
759,2−メチル−1,3,4−チアジアゾール一5
−チオール0.219および炭酸水素ナトリウム0.2
579をPH6.4のリン酸緩衝液20m1に溶解し5
7℃に加温し、15時間かきませた。
適量の10%炭酸水素ナトリウム溶液を加えてPH7.
Oにした後、この反応溶液をポリスチレン樹脂(アンバ
ーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附
し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍
乾すると標記の化合物が得られた。収量0.18590
IR(?−1KBr);1765,1605,1550
,1385,13550NMR(100MHz,重水中
δ値);2.78(S,チアジアゾール2−CH3),
3.44および3,84(ABq,J=18Hz,2−
CH2),3.79(S,CH2CO),4.01およ
び4.55(ABq,J=14.0Hz,3−CH2)
,5.12(D,J−4.5Hz,6−H),5.72
(D,J=4.5Hz,7−H),6。
Oにした後、この反応溶液をポリスチレン樹脂(アンバ
ーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附
し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍
乾すると標記の化合物が得られた。収量0.18590
IR(?−1KBr);1765,1605,1550
,1385,13550NMR(100MHz,重水中
δ値);2.78(S,チアジアゾール2−CH3),
3.44および3,84(ABq,J=18Hz,2−
CH2),3.79(S,CH2CO),4.01およ
び4.55(ABq,J=14.0Hz,3−CH2)
,5.12(D,J−4.5Hz,6−H),5.72
(D,J=4.5Hz,7−H),6。
73(S,チアゾリン5−H)。
15.55。
実測値;C,35.32:H,3.O7;元素分析:C
l6Hl5N6O5s4Na−H2Oに対する理論値;
C,35.55;H,3.l7;N,N,l5.46。
6−251.56 実施例 5 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4Sーチア
ゾリン−4−イル)アセタミド〕−3一(1−メチルテ
トラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4
−カルボン酸ナトリウムの製造:Jヨ黶i4−ブロモ−3
−オキソブチリルアミりニー3−(1−メチルテトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸1.09およびチオシアン酸カリウム0.376
9をジメチルアセタミド2m1に溶解した混液を室温で
2時間かきまぜた。
l6Hl5N6O5s4Na−H2Oに対する理論値;
C,35.55;H,3.l7;N,N,l5.46。
6−251.56 実施例 5 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4Sーチア
ゾリン−4−イル)アセタミド〕−3一(1−メチルテ
トラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4
−カルボン酸ナトリウムの製造:Jヨ黶i4−ブロモ−3
−オキソブチリルアミりニー3−(1−メチルテトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸1.09およびチオシアン酸カリウム0.376
9をジメチルアセタミド2m1に溶解した混液を室温で
2時間かきまぜた。
これにヒドロキシルアミン塩酸塩0.141を加えて6
0℃に加温し1.5時間かきまぜた。この反応液を酢酸
エチルエステル20m1とかきまぜると沈澱が生じた。
これを吸引炉取し炭酸水素ナトリウム0.59の水10
mL溶液に浴解しポリスチレン樹脂(アンバーライトX
AD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開
した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標
記の化合物が得られた。収量0.34590IR(KB
r,cTn−1値):1765,1675,1605,
1390,13550NMR(100MHz,重水中δ
値);3.47および3.83(ABq,J=18Hz
,2−CH2),3.77(S,CH2CO),4.0
7(S,テトラゾール1−CH3),4.07および4
.38(ABq,J=13Hz,3−CH2,5.l2
(D,J=4.5Hz,6−H),5.70(D,J=
4.5Hz27−H),6.72(S,チアゾリン5−
H)。
0℃に加温し1.5時間かきまぜた。この反応液を酢酸
エチルエステル20m1とかきまぜると沈澱が生じた。
これを吸引炉取し炭酸水素ナトリウム0.59の水10
mL溶液に浴解しポリスチレン樹脂(アンバーライトX
AD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開
した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標
記の化合物が得られた。収量0.34590IR(KB
r,cTn−1値):1765,1675,1605,
1390,13550NMR(100MHz,重水中δ
値);3.47および3.83(ABq,J=18Hz
,2−CH2),3.77(S,CH2CO),4.0
7(S,テトラゾール1−CH3),4.07および4
.38(ABq,J=13Hz,3−CH2,5.l2
(D,J=4.5Hz,6−H),5.70(D,J=
4.5Hz27−H),6.72(S,チアゾリン5−
H)。
Uvλ111aX(水中ε値);267nm(1・32
5×104)。元素分析:Cl5Hl5N3O5s3N
a・2H20に対する理論値;C,33.2l;H,3
.53;N,2O.65。
5×104)。元素分析:Cl5Hl5N3O5s3N
a・2H20に対する理論値;C,33.2l;H,3
.53;N,2O.65。
実測値:C,33.37;H,3.24;N,2O.4
9O実施例 6 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4チアゾリ
ン−4−]ル)アセタミド〕−3一(5−メチル−1,
3,4−オキサジアゾール−2ーイル)チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:Jヨ黶
k2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾリン
一4−イノリアセタミド〕−3−アセトキシメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸1.09,5−メチル−1
,3,4−オキサジアゾール−2−チオール・カリウム
塩0.3129および炭酸水素ナトリウム0.3369
をPH6.4のリン酸緩 〕衝液20m1に溶解し55
℃に加温し12時間かきまぜた。
9O実施例 6 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4チアゾリ
ン−4−]ル)アセタミド〕−3一(5−メチル−1,
3,4−オキサジアゾール−2ーイル)チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:Jヨ黶
k2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾリン
一4−イノリアセタミド〕−3−アセトキシメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸1.09,5−メチル−1
,3,4−オキサジアゾール−2−チオール・カリウム
塩0.3129および炭酸水素ナトリウム0.3369
をPH6.4のリン酸緩 〕衝液20m1に溶解し55
℃に加温し12時間かきまぜた。
冷後この反応液をポリスチレン樹脂(アンバーライトX
AD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開
した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標
記の化合物が得られた。収量0.2190IR(KBr
,CTIL−1値);1770,1680,1600,
1485,1390,1360。
AD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開
した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標
記の化合物が得られた。収量0.2190IR(KBr
,CTIL−1値);1770,1680,1600,
1485,1390,1360。
NMR(100MHz,重水中δ値);2,60(8,
オキサジアゾール5−CH3),3.44および3.8
8(ABq,J=18Hz,2−CH2),3.78(
S,CH2CO),3.95および4.57(ABq,
J=13Hz,3−CH2),5.12(D,J−4.
5Hz,6−H),5.71(D,J一4.5Hz,7
−H),6.74(S,チアゾリン5−H)。実施例
7 Jヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾ
リン−4−イル)アセタミド]−3一(1H−1,2,
3−トリアゾール−4−イル)チオメチノレ一3−セフ
エム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:5−アミノ−
1,2,3−チアジアゾール0.3!!を1規定水酸化
ナトリウム水溶液に溶解し、100℃に10分間加温し
た。
オキサジアゾール5−CH3),3.44および3.8
8(ABq,J=18Hz,2−CH2),3.78(
S,CH2CO),3.95および4.57(ABq,
J=13Hz,3−CH2),5.12(D,J−4.
5Hz,6−H),5.71(D,J一4.5Hz,7
−H),6.74(S,チアゾリン5−H)。実施例
7 Jヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾ
リン−4−イル)アセタミド]−3一(1H−1,2,
3−トリアゾール−4−イル)チオメチノレ一3−セフ
エム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:5−アミノ−
1,2,3−チアジアゾール0.3!!を1規定水酸化
ナトリウム水溶液に溶解し、100℃に10分間加温し
た。
冷後この混液に炭酸ガスを吹き込んで飽和させ、7一〔
2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−
4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシメチル−3−
セフエム一4−カルボン酸1.09およびPH6.4の
リン酸緩衝液20dを加えて得られる混液を73℃に2
.5時間加温した。冷後この反応液をポリスチレン樹ガ
旨(アンバーライトXAD−2)のカラムタロマトグラ
フイ一に附し水で展開した。目的の生 5成物を含む分
画液を集めて凍乾すると標記の化合物が得られた。収量
0.28590R(KBr,?−1値):1770,1
610,1400,13600NMR(100MHz,
重水中δ値);3.33および3.78(ABq,J=
18Hz,2−CH2),3.75(S,CH2CO)
,3.63および4.22(ABq,J=4.0Hz,
3−CH2),5.06(D,J=4、0Hz,6−H
),5.62(D,J=4.0Hz,7−H),6.7
0(S,チアゾリン5−H),7.94(S,トリアゾ
ール5−H)。
2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−
4−イル)アセタミド〕−3−アセトキシメチル−3−
セフエム一4−カルボン酸1.09およびPH6.4の
リン酸緩衝液20dを加えて得られる混液を73℃に2
.5時間加温した。冷後この反応液をポリスチレン樹ガ
旨(アンバーライトXAD−2)のカラムタロマトグラ
フイ一に附し水で展開した。目的の生 5成物を含む分
画液を集めて凍乾すると標記の化合物が得られた。収量
0.28590R(KBr,?−1値):1770,1
610,1400,13600NMR(100MHz,
重水中δ値);3.33および3.78(ABq,J=
18Hz,2−CH2),3.75(S,CH2CO)
,3.63および4.22(ABq,J=4.0Hz,
3−CH2),5.06(D,J=4、0Hz,6−H
),5.62(D,J=4.0Hz,7−H),6.7
0(S,チアゾリン5−H),7.94(S,トリアゾ
ール5−H)。
元素分析:C,5Hl4N7O5s3Na・0.5H2
0に対する理論値;C,36.OO;H,3.O2;N
,l9.59O実測値;C,35.65;H,3.5l
:N,l9.67O実施例 8 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3一(3−ヒドロキシ
メチル−4−メチル−1,2,4一トリアゾ=ル一5−
イノリチオメチル一3−セフニム一4−カルボン酸ナト
リウムの製造:Jヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒドロキ
シ−4一チアゾリン一4−イル)アセタミド]−3−ア
セトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸1。
0に対する理論値;C,36.OO;H,3.O2;N
,l9.59O実測値;C,35.65;H,3.5l
:N,l9.67O実施例 8 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3一(3−ヒドロキシ
メチル−4−メチル−1,2,4一トリアゾ=ル一5−
イノリチオメチル一3−セフニム一4−カルボン酸ナト
リウムの製造:Jヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒドロキ
シ−4一チアゾリン一4−イル)アセタミド]−3−ア
セトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸1。
0g,3−ヒドロキシメチル−4−メチル−12,4−
トリアゾール−5−チオール0.39および炭酸水素ナ
トリウム0.3369をPH6.4のリン酸緩衝液20
m1に溶解し、7『Cに加温2時間かきまぜた。
トリアゾール−5−チオール0.39および炭酸水素ナ
トリウム0.3369をPH6.4のリン酸緩衝液20
m1に溶解し、7『Cに加温2時間かきまぜた。
この反応液をポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD
−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し、目的の生成
物を含む分画液を捕集した。これには目的生成物と共に
3−ヒドロキシメチルー4−メチル−1,2,4−トリ
アゾール−5−チオールが混入していたので、この分画
液を凍乾し粉末とし、再び水10m1に溶解し、この溶
液をデキストランゲル(セフアデツクスLH−20,フ
アルマシア社商品名)のカラムクロマトグフフイ一に附
し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍
乾すると標記の化合物が得られた。収量0.2890I
R(KBr,?−1値);1770,1675,160
5,1390,13600NMR(100MHz,重水
中δ値):3.39および3.85(ABq,J=18
Hz,2−CH2),3.74(S,トリアゾール4−
CH3),3。
−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し、目的の生成
物を含む分画液を捕集した。これには目的生成物と共に
3−ヒドロキシメチルー4−メチル−1,2,4−トリ
アゾール−5−チオールが混入していたので、この分画
液を凍乾し粉末とし、再び水10m1に溶解し、この溶
液をデキストランゲル(セフアデツクスLH−20,フ
アルマシア社商品名)のカラムクロマトグフフイ一に附
し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍
乾すると標記の化合物が得られた。収量0.2890I
R(KBr,?−1値);1770,1675,160
5,1390,13600NMR(100MHz,重水
中δ値):3.39および3.85(ABq,J=18
Hz,2−CH2),3.74(S,トリアゾール4−
CH3),3。
77(S,CH2CO),3.76?よび4.35(A
Bq,J−14Hz,3−CH2),4.81(S,ト
リアゾール3−YllOH),5.08(D,J=4.
5Hz,6−H),5.66(D,J=4.5Hz,7
一H),6.73(S,チアゾリン5−H)。
Bq,J−14Hz,3−CH2),4.81(S,ト
リアゾール3−YllOH),5.08(D,J=4.
5Hz,6−H),5.66(D,J=4.5Hz,7
一H),6.73(S,チアゾリン5−H)。
実施例 97−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−
4ーチアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3一(1−
メチルテトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸の製造:Jヨ黶i4−ブロモ−3−
オキソブリルアミド)一3−(1−メチルテトラゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン
酸4.09,チオシアン酸カリウム1.59およびヒド
ロキシルアミン塩酸塩0.569をジメチルアセタミド
10m1に溶解し60℃に加温し60分間かきまぜた。
4ーチアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3一(1−
メチルテトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸の製造:Jヨ黶i4−ブロモ−3−
オキソブリルアミド)一3−(1−メチルテトラゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン
酸4.09,チオシアン酸カリウム1.59およびヒド
ロキシルアミン塩酸塩0.569をジメチルアセタミド
10m1に溶解し60℃に加温し60分間かきまぜた。
冷後この反応液をエチルエーテル40mZとまぜると油
状物が析出した。上澄液を傾斜して除去し残りの部分に
酢酸エチルエステル100m1を加え器壁をこすると油
状物は粉末化した。この粉末を吸引済取し(5.29)
、炭酸水素ナトリウム2.29の水溶液25m1に溶解
しポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD−2)のカ
ラムクロマトグラフイ一に附し水で展開した。目的の生
成物を含む分画液を捕集し減圧下に10m1になるまで
濃縮し酢酸を加えてPH3とし再び減圧下に5aになる
まで濃縮し静置した。析出した結晶を淵取し水から再結
晶すると標記の化合物が得られた。Mp2OO−220
℃(分解)。
状物が析出した。上澄液を傾斜して除去し残りの部分に
酢酸エチルエステル100m1を加え器壁をこすると油
状物は粉末化した。この粉末を吸引済取し(5.29)
、炭酸水素ナトリウム2.29の水溶液25m1に溶解
しポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD−2)のカ
ラムクロマトグラフイ一に附し水で展開した。目的の生
成物を含む分画液を捕集し減圧下に10m1になるまで
濃縮し酢酸を加えてPH3とし再び減圧下に5aになる
まで濃縮し静置した。析出した結晶を淵取し水から再結
晶すると標記の化合物が得られた。Mp2OO−220
℃(分解)。
IR(KBr,CTIL−1値);1785,1660
,″Zl63O,l55O,l385。
,″Zl63O,l55O,l385。
NMR(100MHz,CF3C00H中δ値);3.
87(S,2−CH2),4,10(S,CH2CO)
,4.21(S,テトラゾール1−CH3),4.23
および4.76(ABq,J=14Hz,3−CH2)
,5.27(D,J−4.5Hz,6−H),5.88
(Dd,J=4.5および8.0Hz,7−H),6.
81(S,チアゾリン5−H),8.09(D,J・=
8.0Hz,C0NH)。
87(S,2−CH2),4,10(S,CH2CO)
,4.21(S,テトラゾール1−CH3),4.23
および4.76(ABq,J=14Hz,3−CH2)
,5.27(D,J−4.5Hz,6−H),5.88
(Dd,J=4.5および8.0Hz,7−H),6.
81(S,チアゾリン5−H),8.09(D,J・=
8.0Hz,C0NH)。
元素分析:Cl5Hl6N8O5S3・1/2H20に
対する理論値;C,36.5O;H,3.47;N,2
2.7OO実測値;C,36.68;H,3,37;N
,22.7lO実施例 10 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3一(4−カルボキサ
ミドピリジニウム)メチル−3ーセフエム一4−カルボ
ン酸ベタインの製造:Jヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒ
ドロキシ−4一チアゾリン一4−イル)アセタミド〕−
3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
2.09,イソニコチン酸アミド1f!,ヨウ化ナトリ
ウム4.09および炭酸水素ナトリウム0.1649を
PH6.4のリン酸緩衝液40m1に溶解し5『Cに加
温し15時間かきよぜた。
対する理論値;C,36.5O;H,3.47;N,2
2.7OO実測値;C,36.68;H,3,37;N
,22.7lO実施例 10 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3一(4−カルボキサ
ミドピリジニウム)メチル−3ーセフエム一4−カルボ
ン酸ベタインの製造:Jヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒ
ドロキシ−4一チアゾリン一4−イル)アセタミド〕−
3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
2.09,イソニコチン酸アミド1f!,ヨウ化ナトリ
ウム4.09および炭酸水素ナトリウム0.1649を
PH6.4のリン酸緩衝液40m1に溶解し5『Cに加
温し15時間かきよぜた。
冷後この反応液をポリスチレン樹脂(アンバーライトX
AD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開
した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標
記の1L合物が得られた。収量0.25490IR(K
Br,?−1値);1775,1690,1620,1
395,13600NMR(100MHz,重水中δ値
);3.21および3.70(ABq,J=18Hz,
2−CH2)3.74(S,CH2CO),5.21(
D,J=4.0Hz,6−H),5.43および5.6
9(ABq,J=14Hz,3−CH2),5.75(
D,J=〔14Hz,7−H),6,72(S,チアゾ
リン5一H),8.40および9.15(各D,J=6
Hz,ピリジンαおよびβ−H)。
AD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開
した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標
記の1L合物が得られた。収量0.25490IR(K
Br,?−1値);1775,1690,1620,1
395,13600NMR(100MHz,重水中δ値
);3.21および3.70(ABq,J=18Hz,
2−CH2)3.74(S,CH2CO),5.21(
D,J=4.0Hz,6−H),5.43および5.6
9(ABq,J=14Hz,3−CH2),5.75(
D,J=〔14Hz,7−H),6,72(S,チアゾ
リン5一H),8.40および9.15(各D,J=6
Hz,ピリジンαおよびβ−H)。
実施例 11
7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロ千シ一4−チアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3一(マンカレオキシ
メチル一3−セフエム一4−カルボン酸の製造:Jヨ黶
i4−ブロモ−3−オキソブチリルアミリー3−(マン
デルオキシメチル)−3−セフエムー4−カルボン酸5
.39およびチオシアン酸カリウム1.09をジメチル
アセタミド10m1に溶解し室温に15時間静置した。
リン−4−イル)アセタミド〕−3一(マンカレオキシ
メチル一3−セフエム一4−カルボン酸の製造:Jヨ黶
i4−ブロモ−3−オキソブチリルアミリー3−(マン
デルオキシメチル)−3−セフエムー4−カルボン酸5
.39およびチオシアン酸カリウム1.09をジメチル
アセタミド10m1に溶解し室温に15時間静置した。
この混液にヒドロキシルアミン塩酸塩0.79を加えた
後これを60℃で2時間加温した。冷後この反応液にエ
チルエーテル40m1を加えると油状物が析出した。上
澄液を傾斜して除去した残りの部分をエチルエーテル1
00m1と混合し器壁をこすると油状物は粉末化した。
これを吸引濾取すると標記の化合物の粗粉末5.89が
得られた。上記粉末のうち19をとり10%炭酸水素ナ
トリウム水溶液50m1に溶解し、吸引沢過し沢液を酢
酸でPH3とし減圧下に約2m1になるまで濃縮し氷庫
に静置した。析出した結晶註粉末を済取し乾燥すると標
記の化合物の純品0.629が得られた。IR(KBr
,(177!−1値);17760NMR(100MH
z,d6−DMSO−D2O中δイ直);3.30およ
び3.61(ABq,Jl8Hz,2−CH2),3.
45(S,CH2CO),4。
後これを60℃で2時間加温した。冷後この反応液にエ
チルエーテル40m1を加えると油状物が析出した。上
澄液を傾斜して除去した残りの部分をエチルエーテル1
00m1と混合し器壁をこすると油状物は粉末化した。
これを吸引濾取すると標記の化合物の粗粉末5.89が
得られた。上記粉末のうち19をとり10%炭酸水素ナ
トリウム水溶液50m1に溶解し、吸引沢過し沢液を酢
酸でPH3とし減圧下に約2m1になるまで濃縮し氷庫
に静置した。析出した結晶註粉末を済取し乾燥すると標
記の化合物の純品0.629が得られた。IR(KBr
,(177!−1値);17760NMR(100MH
z,d6−DMSO−D2O中δイ直);3.30およ
び3.61(ABq,Jl8Hz,2−CH2),3.
45(S,CH2CO),4。
8−5.4(M,2H,3−CH2),4.90(D,
J−5Hz,6−H),5.20(S,Ph−CH(0
H)−),5.52(D,J=5Hz,7−H),6.
68(S,チアゾリン5−H),7。
J−5Hz,6−H),5.20(S,Ph−CH(0
H)−),5.52(D,J=5Hz,7−H),6.
68(S,チアゾリン5−H),7。
2−7.6(M,5H9C6H5−)。
実施例 12
7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3一含窒素複素環チオ
メチル−3−セフエム一4−カルボン酸〔1,11−ベ
タインまたは−ナトリウムの製造:斗記の一般的製造法
(1),(2)および(3)に従つて、7一〔2−(2
−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾリン一4−イル
)アセタミド〕−3−アセトキシメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸または7一〔2−(2−イミノ−3−
ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノりアセタミド〕
−3一マンデルオキシメチル一3−セフエム一4−カル
ボン酸と当該含窒素複素環チオールとを反応させ次の表
の化合物腐1〜34を製造しその代表的な物囲を表に示
した。
リン−4−イル)アセタミド〕−3一含窒素複素環チオ
メチル−3−セフエム一4−カルボン酸〔1,11−ベ
タインまたは−ナトリウムの製造:斗記の一般的製造法
(1),(2)および(3)に従つて、7一〔2−(2
−イミノ−3−ヒドロキシ−4一チアゾリン一4−イル
)アセタミド〕−3−アセトキシメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸または7一〔2−(2−イミノ−3−
ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノりアセタミド〕
−3一マンデルオキシメチル一3−セフエム一4−カル
ボン酸と当該含窒素複素環チオールとを反応させ次の表
の化合物腐1〜34を製造しその代表的な物囲を表に示
した。
一般的製造法(1):Jヨ黶k2−(2−イミノ−3一ヒ
ドロキシ一4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−
3−アセトキシメチル−3−セフエムー4−カルボン酸
0.8569(2ミリモル),含窒素複素環チオール(
2.2ミリモル)および炭酸水素ナトリウム0.336
9(4ミリモル)をPH6,4のリン酸緩衝溶液40m
1に溶解し、これを60−65℃に加温し7一8時間か
きまぜた。
ドロキシ一4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−
3−アセトキシメチル−3−セフエムー4−カルボン酸
0.8569(2ミリモル),含窒素複素環チオール(
2.2ミリモル)および炭酸水素ナトリウム0.336
9(4ミリモル)をPH6,4のリン酸緩衝溶液40m
1に溶解し、これを60−65℃に加温し7一8時間か
きまぜた。
この反応液を減圧下に約20m1までに濃縮し、必要な
場合10%炭酸水素ナトリウムまたは10%リン酸でP
H6.5に修正した後、これをポリスチレン樹脂(アン
バーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ一に
附し、水,5%エタノールおよび10%エタノールで順
次展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて減圧下
にアルコールを留去し、残留分を凍結乾燥すると表記の
化合物、7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4
−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3一含窒素複
素環チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸一ベタ
インまたは−ナトリウムが得られた。一般的製造法(2
):Jヨ黶k2−(2−イミノ−3一ヒドロキシ一4−チ
アゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(マンデルオ
キシメチル)−3一セフエム一4−カルボン酸19(2
ミリモル),含窒素複素環チオール(2ミリモノりおよ
び炭酸水素ナトリウム0.251(3ミリモル)を水1
5m1に溶解し、60℃で1時間かきまぜた。冷後10
%炭酸水素ナトリウムてPH6とし、これをデキストラ
ンゲル(セフアデツクスLH−20)の力 jラムクロ
マトグラフイ一に附し水で展開した。目的の生成物を含
む分画液を集めて凍乾すると表記の化合物、7一〔2−
(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−
イル)アセタミド〕一3一含窒素複素環チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸一ベタインまたは−ナトリ
ウムが得られた。一般的製造法 (3): (1) 7ーアセトアセタミド一3−アセトキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸10.79.゛(30
ミリモル),含窒素複素猿チオール(30ミリモル)お
よび炭酸水素ナトリウム5.049(60ミリモノリを
水40meに溶解し、この溶液のPHを10(:!l)
水酸化ナトリウムで7.0にし60−65℃に4時間か
きまぜながら加温した。
場合10%炭酸水素ナトリウムまたは10%リン酸でP
H6.5に修正した後、これをポリスチレン樹脂(アン
バーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ一に
附し、水,5%エタノールおよび10%エタノールで順
次展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて減圧下
にアルコールを留去し、残留分を凍結乾燥すると表記の
化合物、7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4
−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3一含窒素複
素環チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸一ベタ
インまたは−ナトリウムが得られた。一般的製造法(2
):Jヨ黶k2−(2−イミノ−3一ヒドロキシ一4−チ
アゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−(マンデルオ
キシメチル)−3一セフエム一4−カルボン酸19(2
ミリモル),含窒素複素環チオール(2ミリモノりおよ
び炭酸水素ナトリウム0.251(3ミリモル)を水1
5m1に溶解し、60℃で1時間かきまぜた。冷後10
%炭酸水素ナトリウムてPH6とし、これをデキストラ
ンゲル(セフアデツクスLH−20)の力 jラムクロ
マトグラフイ一に附し水で展開した。目的の生成物を含
む分画液を集めて凍乾すると表記の化合物、7一〔2−
(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−
イル)アセタミド〕一3一含窒素複素環チオメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸一ベタインまたは−ナトリ
ウムが得られた。一般的製造法 (3): (1) 7ーアセトアセタミド一3−アセトキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸10.79.゛(30
ミリモル),含窒素複素猿チオール(30ミリモル)お
よび炭酸水素ナトリウム5.049(60ミリモノリを
水40meに溶解し、この溶液のPHを10(:!l)
水酸化ナトリウムで7.0にし60−65℃に4時間か
きまぜながら加温した。
4冷後これにヒドロキシルアミン・塩酸塩2.319(
33ミリモル)を加え、ついで1規定塩酸の適量を加え
てPH3.6にした混液を一夜室温に放置した。
33ミリモル)を加え、ついで1規定塩酸の適量を加え
てPH3.6にした混液を一夜室温に放置した。
析出した結晶を淵取しアセトンで洗い乾燥すると、7ー
アミノ一3一含窒素複素環チオメチル−3−セフエム一
4−カルボン酸が得られた。(2)ジケテン1.039
(13ミリモル)の塩化メチレン5m1溶液を−30℃
に冷却しておき、これに1モル(重量比)塩素一四塩化
炭素溶液159(15ミリモル)または臭素2.249
(14ミリモル)の塩化メチレン5m1溶液を滴下した
。
アミノ一3一含窒素複素環チオメチル−3−セフエム一
4−カルボン酸が得られた。(2)ジケテン1.039
(13ミリモル)の塩化メチレン5m1溶液を−30℃
に冷却しておき、これに1モル(重量比)塩素一四塩化
炭素溶液159(15ミリモル)または臭素2.249
(14ミリモル)の塩化メチレン5m1溶液を滴下した
。
別に7ーアミノ一3一含窒素複素環チオメチル−3−セ
フエム一4−カルボン酸(10ミリモル)とトリエチル
アミン2.029(20ミリモノりを塩化メチレン20
m1に溶解し一20℃に冷却しておき、これに上記の反
応溶液を急速に滴下した。この時殆んどの場合発熱が認
められ液温はO℃近くになつた。徐々に液温を室温にま
で上げ15分間かきまぜた。反応液を酢酸エチル150
m1と10%リン酸溶液100m1に加え、激しくかき
まぜた。有機層を分取し、水洗、乾燥後乾固し残留分を
エーテルでほぐすと7一(4−クロロ(塩素を用いた時
)一またはブロモ(臭素を用いた時)−3−オキソブチ
リルアミド)−3一含窒素複素環チオメチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸が粉末として得られた。3) 7
一(4−クロロ−またはブロモ−3−オキソブチリルア
ミド)−3一含窒素複素環チオメチル−3−セフエム一
4−カルボン酸(8ミリモル)とチオシアン酸カリウム
0.7769(8ミリモル)をジメチルアセタミド10
m1に溶解し室温に12時間放置した。
フエム一4−カルボン酸(10ミリモル)とトリエチル
アミン2.029(20ミリモノりを塩化メチレン20
m1に溶解し一20℃に冷却しておき、これに上記の反
応溶液を急速に滴下した。この時殆んどの場合発熱が認
められ液温はO℃近くになつた。徐々に液温を室温にま
で上げ15分間かきまぜた。反応液を酢酸エチル150
m1と10%リン酸溶液100m1に加え、激しくかき
まぜた。有機層を分取し、水洗、乾燥後乾固し残留分を
エーテルでほぐすと7一(4−クロロ(塩素を用いた時
)一またはブロモ(臭素を用いた時)−3−オキソブチ
リルアミド)−3一含窒素複素環チオメチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸が粉末として得られた。3) 7
一(4−クロロ−またはブロモ−3−オキソブチリルア
ミド)−3一含窒素複素環チオメチル−3−セフエム一
4−カルボン酸(8ミリモル)とチオシアン酸カリウム
0.7769(8ミリモル)をジメチルアセタミド10
m1に溶解し室温に12時間放置した。
この反応液にヒドロキシルアミン塩酸塩0.569(8
ミリモル)を加えた混液を6『Cに加温し60分かきま
ぜた。冷後この反Lも液にエチルエーテル40mLを加
えてふりまぜた後、上澄液を傾斜して除いた残りの部分
に酢酸エチルエステル100m1を加えて器壁をこすり
粉末を得た。この粉末を吸弓淵取し、10%炭酸水素ナ
トリウム20m1に溶解し、これをポリスチレン樹脂(
アンバーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ
一に附し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を捕
集し、凍乾すると表記の化合物、7一〔2一(2−イミ
ノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノりアセ
タミド〕−3一含窒素複素環チオメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸ベタインまたは−ナトリウムが得られ
た。実施例 137−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロ
キシ−4一チアゾリン一4−イル)アセタミド〕−3一
(カノL//託イルオキシメチル)−3−セフエム一4
−ガげン酸ナトリウムの製造:Jヨ黶i4−ブロモ−3−
オキソブチリルアミド)一3−(カルバモイルオキシメ
チル)−3−セフエム一4−カルボン酸0,0889お
よびチオシrン酸カリウム0.0199をジメチルアセ
タミド0.5m1に溶解し室温で1時間かきまぜた。
ミリモル)を加えた混液を6『Cに加温し60分かきま
ぜた。冷後この反Lも液にエチルエーテル40mLを加
えてふりまぜた後、上澄液を傾斜して除いた残りの部分
に酢酸エチルエステル100m1を加えて器壁をこすり
粉末を得た。この粉末を吸弓淵取し、10%炭酸水素ナ
トリウム20m1に溶解し、これをポリスチレン樹脂(
アンバーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ
一に附し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を捕
集し、凍乾すると表記の化合物、7一〔2一(2−イミ
ノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノりアセ
タミド〕−3一含窒素複素環チオメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸ベタインまたは−ナトリウムが得られ
た。実施例 137−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロ
キシ−4一チアゾリン一4−イル)アセタミド〕−3一
(カノL//託イルオキシメチル)−3−セフエム一4
−ガげン酸ナトリウムの製造:Jヨ黶i4−ブロモ−3−
オキソブチリルアミド)一3−(カルバモイルオキシメ
チル)−3−セフエム一4−カルボン酸0,0889お
よびチオシrン酸カリウム0.0199をジメチルアセ
タミド0.5m1に溶解し室温で1時間かきまぜた。
これにヒドロキシルアミン塩酸塩0.0149を加えて
、60℃に加温し1時間かきまぜた。この反応液iこエ
ーテル10m1を加えてかきまぜた後上澄液を傾斜して
除き、残りの部分にエーテル10TLIを加えてかきま
ぜると粉末が生じた。この粉末を吸引淵取し10%炭酸
水素ナトリウム溶液に溶解しポリスチレン樹脂(アンバ
ーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附
し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍
乾すると標記 5の化合物が得られた。収量0.031
0IR(KBr!r1値);3400,1760,17
10,1600,1400,1330。
、60℃に加温し1時間かきまぜた。この反応液iこエ
ーテル10m1を加えてかきまぜた後上澄液を傾斜して
除き、残りの部分にエーテル10TLIを加えてかきま
ぜると粉末が生じた。この粉末を吸引淵取し10%炭酸
水素ナトリウム溶液に溶解しポリスチレン樹脂(アンバ
ーライトXAD−2)のカラムクロマトグラフイ一に附
し水で展開した。目的の生成物を含む分画液を集めて凍
乾すると標記 5の化合物が得られた。収量0.031
0IR(KBr!r1値);3400,1760,17
10,1600,1400,1330。
NMR(100MHz,d6−DMSO中δ値):3.
12および3.43(ABq,J=18Hz,21・一
CH2),3.47および3.66(ABq,J=14
Hz,CH2C0),4.70および4.87(ABq
,J=13Hz,3−CH2),4.91(D,J=5
Hz,6−H),5.50(Dd,J=5および9Hz
,7−H),6.47(プロードS,OCONH2),
6.68(S,チアゾリン5−H),7一8(プロード
,1H,HN=)。NMR(100MHz,重水中δ値
):3.46および3.77(ABq,J=18Hz,
2−CH2),3.85(S,CH2CO),4.80
および5.00(ABq,J=12Hz,3−CH2)
,5.24(D,J=5Hz,6−H),5.81(D
,J=5Hz,7−H),6.82(S,チアゾリン5
一H)。
12および3.43(ABq,J=18Hz,21・一
CH2),3.47および3.66(ABq,J=14
Hz,CH2C0),4.70および4.87(ABq
,J=13Hz,3−CH2),4.91(D,J=5
Hz,6−H),5.50(Dd,J=5および9Hz
,7−H),6.47(プロードS,OCONH2),
6.68(S,チアゾリン5−H),7一8(プロード
,1H,HN=)。NMR(100MHz,重水中δ値
):3.46および3.77(ABq,J=18Hz,
2−CH2),3.85(S,CH2CO),4.80
および5.00(ABq,J=12Hz,3−CH2)
,5.24(D,J=5Hz,6−H),5.81(D
,J=5Hz,7−H),6.82(S,チアゾリン5
一H)。
UλMax(水中ε値);264nm(1.27X10
4)。
4)。
元素分析:C,4Hl4N5O,s2Na・2H,0に
対する理論値:C,34.5O:H,3.72:N,l
4.37O実測値:C,34.58,H,3.83;N
,l3.75。
対する理論値:C,34.5O:H,3.72:N,l
4.37O実測値:C,34.58,H,3.83;N
,l3.75。
実施例 14
7−〔2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−
4−イノ(ハ)アセタミド〕−3−(カルバモイノ囚ヰ
シメチル)−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム
の製造:(1) 7一(4−クロロ−3−オキソブチリ
ルアミド)−3−(カルバモイルオキシメチル)−3一
セフエム一4−カルボン酸:ジケテン37.89の塩化
メチレン190m1溶液を−60℃に冷却しておき、こ
れに塩素ガス31.9f1を導入した。
4−イノ(ハ)アセタミド〕−3−(カルバモイノ囚ヰ
シメチル)−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム
の製造:(1) 7一(4−クロロ−3−オキソブチリ
ルアミド)−3−(カルバモイルオキシメチル)−3一
セフエム一4−カルボン酸:ジケテン37.89の塩化
メチレン190m1溶液を−60℃に冷却しておき、こ
れに塩素ガス31.9f1を導入した。
別に7ーアミノ一3一(カルバモイルオキシメチル)−
3−セフエムー4−カノレボン酸82.09とトリエチ
ノレアミン66.89とをジメチルホルムアミド300
m1と塩化メチレン300m1とからなる混液に溶解し
−25℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を−1
8℃を越えない速度で滴下しついで同温度で30分間か
きまぜた。この反応液にメチルエチルケトン1000m
2,酢酸エチル600m1,リン酸200f1および水
750m1を加えかきまぜた後食塩を飽和するまで加え
た。有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄乾燥後溶媒を留
去し、残留分に酢酸エチル50鮮を加えてかきまぜると
副題の化合物が結晶として得られた。収量79.690
R(KBr,Ofn−1値):1773,1720,1
600,1540,1410,13350NMR(10
0MHz,d6−DMSO中δイ直);3.42および
3.66(ABq,J=18Hz,2一CH2),3.
60(S,COCH2CO),4.56(8,C1CH
2),4,64および4.94(ABq,J=13Hz
,3−CH2),5.12(D,J=5Hz,6−H)
,5.68(Dd,J=5および8Hz,7−H),6
.52(プロードS,CONH2),9.02(D,J
=8Hz,C0NH)。
3−セフエムー4−カノレボン酸82.09とトリエチ
ノレアミン66.89とをジメチルホルムアミド300
m1と塩化メチレン300m1とからなる混液に溶解し
−25℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を−1
8℃を越えない速度で滴下しついで同温度で30分間か
きまぜた。この反応液にメチルエチルケトン1000m
2,酢酸エチル600m1,リン酸200f1および水
750m1を加えかきまぜた後食塩を飽和するまで加え
た。有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄乾燥後溶媒を留
去し、残留分に酢酸エチル50鮮を加えてかきまぜると
副題の化合物が結晶として得られた。収量79.690
R(KBr,Ofn−1値):1773,1720,1
600,1540,1410,13350NMR(10
0MHz,d6−DMSO中δイ直);3.42および
3.66(ABq,J=18Hz,2一CH2),3.
60(S,COCH2CO),4.56(8,C1CH
2),4,64および4.94(ABq,J=13Hz
,3−CH2),5.12(D,J=5Hz,6−H)
,5.68(Dd,J=5および8Hz,7−H),6
.52(プロードS,CONH2),9.02(D,J
=8Hz,C0NH)。
(2)上記で得られた7一(4−クロロ−3−オキソブ
チリルアミド)−3−(カルバモイルオキシメチル)−
3−セフエム一4−カルボン酸3.131とチオシアン
酸カリウム0.7769をジメチルアセタミド10m1
に溶解し室温に12時間放置した。
チリルアミド)−3−(カルバモイルオキシメチル)−
3−セフエム一4−カルボン酸3.131とチオシアン
酸カリウム0.7769をジメチルアセタミド10m1
に溶解し室温に12時間放置した。
この反応液にヒドロキシルアミン塩酸塩0.569を加
えた混液を66℃に加温し60分かきまぜた。冷後この
反応液にエチルエーテル40m1を加えてふりまぜた後
、上澄液を傾斜して除いた残りの部分に酢酸エチル10
0m1を加えて器壁をこすり粉末を得た。この粉末を吸
引淵取し、10%炭酸水素ナトリウム20111に溶解
し、これをポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD−
2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開した。
目的の生成物を含む分画液を捕集し、凍乾すると標記の
化合物が得られた。収量1.0810このものはIRお
よびNMRスペクトルにぉいて実施例13で得られた標
品と良く一致した。
えた混液を66℃に加温し60分かきまぜた。冷後この
反応液にエチルエーテル40m1を加えてふりまぜた後
、上澄液を傾斜して除いた残りの部分に酢酸エチル10
0m1を加えて器壁をこすり粉末を得た。この粉末を吸
引淵取し、10%炭酸水素ナトリウム20111に溶解
し、これをポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD−
2)のカラムクロマトグラフイ一に附し水で展開した。
目的の生成物を含む分画液を捕集し、凍乾すると標記の
化合物が得られた。収量1.0810このものはIRお
よびNMRスペクトルにぉいて実施例13で得られた標
品と良く一致した。
実施例 157−C2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−イノりアセタミド〕−3−メチ
ノμ3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:
ジケテン1.19の塩化メチレン5rn1溶液を−30
℃に冷却し、これに臭素2.29の塩化メチ.レン3m
1溶液を滴Tした。
−4−チアゾリン−4−イノりアセタミド〕−3−メチ
ノμ3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:
ジケテン1.19の塩化メチレン5rn1溶液を−30
℃に冷却し、これに臭素2.29の塩化メチ.レン3m
1溶液を滴Tした。
別に7ーアミノ一3一メチル一3−セフエム一4−カル
ボン酸2.1gとジブチルアミン4.09を塩化メチレ
ン60rn1に溶解してO℃に冷却しておき、これに上
記の反応溶液を加えた。反応温度がO℃をこえないよう
に冷,却しながら30分間かきまぜた。冷却をやめて放
置し、液温を室温にもどした。減圧下に溶媒を留去し残
留分に酢酸エチルエステル40m1と10%リン酸水溶
液30r111を加凡た。酢酸エチルエステル層を分け
とつて飽和食塩水各40m1で3回洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧Tに酢酸エチルエステルを留去
して残留分にエーテルを加えると沈殿が生じ、これを吸
引沢取すると7ー(4−ブロモ−3−オキソブチリルア
ミド)−3一メチル一3−セフエム一4−カルボン酸の
粉末1.29が得られた。この粉末をジメチルアセタミ
ド2m1に溶解したのちチオシアン酸カリウム0.20
9を加え、さらにヒドロキシルアミン塩酸塩0.149
を加えて6『Cで2時間加温した。冷後この反応液にエ
チルエーテル10m1を加えると油状物が析出した。上
澄液を傾斜して除去した残りの部分を酢酸エチルエステ
ル20m1と混合して器壁をこすると油状物は粉末化し
た。これを吸引沢取すると粗粉末が得られるので、この
粗粉末を10%炭酸水素ナトリウム水溶液5m1に溶解
しポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD−2)のカ
ラムクロマトグラフイ一に付したのち水で展開した。目
的の生成物を含む分画液を減圧下に濃縮したのちこの溶
液をセフアデツクスLH−20のカラムクロマトグラフ
イ一に付して水で展開した。け的の生成物を含む分画液
を集めて凍乾すると標記化合物が得られた。収量0.4
490IR(KBr2CTIL−1値);1760,1
575,1405,13600NMR(100MHz,
重水中δ値);1.99(S,3−メチル),3.24
および3.63(ABq,J=18Hz,2−CH2)
,3.79(S,CH2CO),5.12(D,J=4
.5Hz,6−H),5.67(D,J=4.5Hz,
7−H),6.75(S,チアゾリン5−H)。
ボン酸2.1gとジブチルアミン4.09を塩化メチレ
ン60rn1に溶解してO℃に冷却しておき、これに上
記の反応溶液を加えた。反応温度がO℃をこえないよう
に冷,却しながら30分間かきまぜた。冷却をやめて放
置し、液温を室温にもどした。減圧下に溶媒を留去し残
留分に酢酸エチルエステル40m1と10%リン酸水溶
液30r111を加凡た。酢酸エチルエステル層を分け
とつて飽和食塩水各40m1で3回洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧Tに酢酸エチルエステルを留去
して残留分にエーテルを加えると沈殿が生じ、これを吸
引沢取すると7ー(4−ブロモ−3−オキソブチリルア
ミド)−3一メチル一3−セフエム一4−カルボン酸の
粉末1.29が得られた。この粉末をジメチルアセタミ
ド2m1に溶解したのちチオシアン酸カリウム0.20
9を加え、さらにヒドロキシルアミン塩酸塩0.149
を加えて6『Cで2時間加温した。冷後この反応液にエ
チルエーテル10m1を加えると油状物が析出した。上
澄液を傾斜して除去した残りの部分を酢酸エチルエステ
ル20m1と混合して器壁をこすると油状物は粉末化し
た。これを吸引沢取すると粗粉末が得られるので、この
粗粉末を10%炭酸水素ナトリウム水溶液5m1に溶解
しポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD−2)のカ
ラムクロマトグラフイ一に付したのち水で展開した。目
的の生成物を含む分画液を減圧下に濃縮したのちこの溶
液をセフアデツクスLH−20のカラムクロマトグラフ
イ一に付して水で展開した。け的の生成物を含む分画液
を集めて凍乾すると標記化合物が得られた。収量0.4
490IR(KBr2CTIL−1値);1760,1
575,1405,13600NMR(100MHz,
重水中δ値);1.99(S,3−メチル),3.24
および3.63(ABq,J=18Hz,2−CH2)
,3.79(S,CH2CO),5.12(D,J=4
.5Hz,6−H),5.67(D,J=4.5Hz,
7−H),6.75(S,チアゾリン5−H)。
元素分析:Cl3Hl3N4O5s2Na・2.5H2
0に対する理論値;C,35.7O;H,4.l5;N
,l2.8l。
0に対する理論値;C,35.7O;H,4.l5;N
,l2.8l。
実測値;C,35.98:H,4.Ol;N,l2.6
2O実施例 16 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾ
リン−4−イル)アセタミド]−3−ヒドロキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:前
記実施例3で得られた7一〔2−(2−イミノ−3−ヒ
ドロキシ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−
3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
0.8569を炭酸水素ナトリウム0.1681,リン
酸緩衝液(PH7.2)24m1,リパーゼ(サイケン
100,大阪細閉研究所製)0.99の混合物中に加え
、35℃に16時間保つ。
2O実施例 16 7−〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾ
リン−4−イル)アセタミド]−3−ヒドロキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウムの製造:前
記実施例3で得られた7一〔2−(2−イミノ−3−ヒ
ドロキシ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−
3−アセトキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸
0.8569を炭酸水素ナトリウム0.1681,リン
酸緩衝液(PH7.2)24m1,リパーゼ(サイケン
100,大阪細閉研究所製)0.99の混合物中に加え
、35℃に16時間保つ。
この反応液をポリスチレン樹脂(アンバーライトXAD
−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し、水で展開し
た。得られた分画液を濃縮後、再び上記のポリスチレン
樹脂のカラムクロマトグラフイ一に附して水で展開した
。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標記化
合物が得られた。収量0.52090R(KBr,C7
TL−1値);1670,1590,1390,135
0,1060,10250NMR(90MHz,重水中
δ値);3.43および3.77(ABq,J=18H
z,2−CH2),3.75(S,CH2CO),4.
30(S,CH2OH),5.13(D,J=4Hz,
6−H),5.67(D,J=4Hz,7−H),6.
70(S,チアゾリン5−H)。
−2)のカラムクロマトグラフイ一に附し、水で展開し
た。得られた分画液を濃縮後、再び上記のポリスチレン
樹脂のカラムクロマトグラフイ一に附して水で展開した
。目的の生成物を含む分画液を集めて凍乾すると標記化
合物が得られた。収量0.52090R(KBr,C7
TL−1値);1670,1590,1390,135
0,1060,10250NMR(90MHz,重水中
δ値);3.43および3.77(ABq,J=18H
z,2−CH2),3.75(S,CH2CO),4.
30(S,CH2OH),5.13(D,J=4Hz,
6−H),5.67(D,J=4Hz,7−H),6.
70(S,チアゾリン5−H)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、水酸基、アシロキシ基、カルバ
モイルオキシ基、第4級アンモニウム基または式−SR
^1(R^1は少くとも窒素原子を含有する複数環基を
示す。 )で表わされる基を示す。〕で表わされるセフアロスポ
リン誘導体。2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、水酸基、アシロキシ基、カルバ
モイルオキシ基、第4級アンモニウム基または式−SR
^1(R^1は少くとも窒素原子を含有する複素環基を
示す)で表わされる基を示す。 〕で表わされる化合物とヒドロキシルアミンを反応させ
ることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ 〔式中の記号は前記と同意義。 〕で表わされるセフアロスポリン誘導体の製造法。3
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、水酸基、アシロキシ基、カルバ
モイルオキシ基、第4級アンモニウム基または式−SR
^1(R^1は少くとも窒素原子を含有する複素環基を
示す)で表わされる基を、Yはハロゲン原子を示す。 〕で表わされる化合物とチオシアン酸およびヒドロキシ
ルアミンとを反応させることを特徴とする一般式▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中の記号は前記と同意義。 〕で表わされるセフアロスポリン誘導体の製造法。
Priority Applications (24)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51037374A JPS5946237B2 (ja) | 1976-04-02 | 1976-04-02 | セフアロスポリン誘導体およびその製造法 |
| MX775580U MX4409E (es) | 1976-04-02 | 1977-03-25 | Procedimiento para preparar derivados de cefalosporina |
| GR53093A GR66409B (ja) | 1976-04-02 | 1977-03-26 | |
| NO771111A NO153259C (no) | 1976-04-02 | 1977-03-29 | Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk virksomme cefalosporinderivater |
| AU23723/77A AU510278B2 (en) | 1976-04-02 | 1977-03-29 | Cephalosporin derivatives |
| CH397277A CH631717A5 (de) | 1976-04-02 | 1977-03-30 | Verfahren zur herstellung von cephalosporinderivaten. |
| SE7703689A SE433354B (sv) | 1976-04-02 | 1977-03-30 | Forfarande for framstellning av cefalosporinderivat |
| NL7703474A NL7703474A (nl) | 1976-04-02 | 1977-03-30 | Cefalosporine-derivaat, werkwijze voor het berei- den ervan, werkwijze voor het bereiden van een farmaceutisch preparaat met toepassing ervan als- mede zo verkregen gevormd preparaat. |
| DE2714419A DE2714419C2 (de) | 1976-04-02 | 1977-03-31 | Cephalosporinderivate, Verfahren zu deren Herstellung und Arzneimittel |
| BE1008055A BE853073A (fr) | 1976-04-02 | 1977-03-31 | Cephalosporines |
| US05/783,230 US4172891A (en) | 1976-04-02 | 1977-03-31 | Cephalosporins |
| FR7709744A FR2361403A1 (fr) | 1976-04-02 | 1977-03-31 | 7-12-(2-imino-3-hydroxy-4-thiazolin-4-ml)-acetamido) antibiotiques |
| GB13688/77A GB1525687A (en) | 1976-04-02 | 1977-03-31 | Cephalosporin derivatives |
| ZA00771993A ZA771993B (en) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Cephalosporins |
| CA275,315A CA1127149A (en) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Cephalosporins |
| PH19619A PH13024A (en) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Cephalosporins |
| ES457473A ES457473A1 (es) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Un procedimiento para preparar derivados de cefalosporina. |
| FI771023A FI66006C (fi) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Foerfarande foer framstaellning av 7-(2-(2-imino-3-hydroxi-4-tiazolin-4-yl)-acetamido)cefalosporiner anvaendbara saosom anibiotika |
| DK144577A DK144577A (da) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Cephalosporinderivater og fremgangsmade til fremstilling deraf |
| HU77TA1433A HU179596B (en) | 1976-04-02 | 1977-04-01 | Process for preparing 7-acetamido-3-methyl-cef-3-eme-4-carboxylic acid derivatives |
| PT66392A PT66392B (en) | 1976-04-02 | 1977-04-02 | Cephalosporin |
| AT234677A AT351677B (de) | 1976-04-02 | 1977-04-04 | Verfahren zur herstellung von neuen cephalos- porinderivaten |
| FR7800580A FR2369282A1 (fr) | 1976-04-02 | 1978-01-10 | Derives halogenes de 3-carbamoyloxycephalosporines |
| US06/044,215 US4239758A (en) | 1976-04-02 | 1979-05-31 | Cephalosporins |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51037374A JPS5946237B2 (ja) | 1976-04-02 | 1976-04-02 | セフアロスポリン誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52122389A JPS52122389A (en) | 1977-10-14 |
| JPS5946237B2 true JPS5946237B2 (ja) | 1984-11-10 |
Family
ID=12495730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51037374A Expired JPS5946237B2 (ja) | 1976-04-02 | 1976-04-02 | セフアロスポリン誘導体およびその製造法 |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4172891A (ja) |
| JP (1) | JPS5946237B2 (ja) |
| AT (1) | AT351677B (ja) |
| AU (1) | AU510278B2 (ja) |
| BE (1) | BE853073A (ja) |
| CA (1) | CA1127149A (ja) |
| CH (1) | CH631717A5 (ja) |
| DE (1) | DE2714419C2 (ja) |
| DK (1) | DK144577A (ja) |
| ES (1) | ES457473A1 (ja) |
| FI (1) | FI66006C (ja) |
| FR (2) | FR2361403A1 (ja) |
| GB (1) | GB1525687A (ja) |
| GR (1) | GR66409B (ja) |
| HU (1) | HU179596B (ja) |
| MX (1) | MX4409E (ja) |
| NL (1) | NL7703474A (ja) |
| NO (1) | NO153259C (ja) |
| PH (1) | PH13024A (ja) |
| PT (1) | PT66392B (ja) |
| SE (1) | SE433354B (ja) |
| ZA (1) | ZA771993B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5946237B2 (ja) * | 1976-04-02 | 1984-11-10 | 武田薬品工業株式会社 | セフアロスポリン誘導体およびその製造法 |
| IL61458A0 (en) * | 1979-12-07 | 1980-12-31 | Erba Farmitalia | N-substituted thiazolyl derivatives of oximino-substituted cephalosporins, their preparation and pharmalceutical compositions containing them |
| IT1148888B (it) * | 1980-07-15 | 1986-12-03 | Schiena Ricerche Di | Composti antibiotici |
| NZ198350A (en) * | 1980-09-25 | 1985-02-28 | Toyama Chemical Co Ltd | Cephalosporins and intermediates;pharmaceutical compositions |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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