JPS5948252B2

JPS5948252B2 - ケ−ソン据付工法

Info

Publication number: JPS5948252B2
Application number: JP9149581A
Authority: JP
Inventors: 義治渡; 兼二高木; 一片山
Original assignee: GOYO KENSETSU
Current assignee: GOYO KENSETSU
Priority date: 1981-06-16
Filing date: 1981-06-16
Publication date: 1984-11-26
Also published as: JPS57209332A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は水底に造成した捨石基礎上にケーソンを据付け
るケーソン据付工法に関する。

一般に海底へのケーソン据付工事においては捨石基礎が
用いられているところである。

この捨石基礎の施工は通常ガツト船等により海上より捨
石を投入した後、捨石基礎の上面を均一に均す必要があ
る。

その捨石基礎表面の均し方法としては従来、潜水夫によ
る手作業の均し工法、スクリードによる均し工法がある
が、潜水夫による手作業の均し工法ば潜水作業時間に制
限があり、しかも手作業で捨石を一個づつ移動させるも
のであるため能率的でなく、また潜水夫が不足しつつあ
る現在、その人員確保が困難となっており、特に工期の
短縮を計らなければならない大規模工事においては施工
が困難である等の問題がある。

また、近年海岸線の開発が進み波浪や水深の面で海象条
件の悪い場所での工事が要求されつつあり、潜水夫によ
る均し作業が不可能な工事計画がなされつつある。

またスクリードによる均し工法は、捨石基礎表面に水平
ホッパーを移動させつつ小石を敷設して水平方向に均す
方法であるが、これは大規模に均す事が必要であるため
機械が大型化し、かつ捨石が大きくなるに従って機械の
大きさも幾何級数的に大きくなって高価となる。

また均した後が必ずしも満足できず補助工法が必要であ
り、しかも準備工事が大規模で大型工事にしか使用し得
す装置類等のための投資額が大きく、使用効率が悪いた
め経済的に不利とならざるを得す、更に投入管理を誤る
ともどり作業が生じる等の問題があった。

本発明は上述のような各種従来工法の問題にかんがみ、
特に大水深地域における大型のケーソンの設置に際して
、大形の捨石を使用する場合に捨石基礎表面の手作業も
しくは機械力による均し作業を簡略化し、かつ安定した
ケーソンの据付けがなし得られるケーソン据付工法の提
供を目的としたもので゛ありその要旨とするところはケ
ーソンの底面の少くとも周縁部に仮受用の突部を形成し
て中央部分を凹溝を連続もしくは不連続に設け、その凹
溝内にモルタル等注排孔の下端を開口させ、該ケーソン
の底面に気密性膜をたるませて張設し、前記注排孔より
吸気して該膜をケーソン底部の空間内に密着させておき
、該ケーソンを、基礎地盤上に捨石を投下して所望高さ
に造成し、その上面に数箇所に前記ケーソン底面の仮受
用突部に対応させてケーソン仮受部を形成した捨石基礎
上に設置し、その後前記注排孔より膜内にモルタルを注
入してケーソンの底面を捨石基礎間の空隙を埋ることを
特徴としてなるケーソン据付工法に存する。

次に本発明の実施の一例を図面について説明する。

まず第１図に示すように従来と同様にガツト船等を使用
して水底の基礎地盤上に捨石１を投入する。

この捨石の投入に際しては所望の捨石基礎の断面形状に
近い形状に造成されるように投入管理を行う。

このようにして投入された捨石基礎２の表面の数箇所に
ケーソン仮受部３を形成する。

この仮受部３は設置されるケーソンＡの据付は高さに合
わせて、その高さを精度よく設定するものであり、その
ケーソン仮受部の形成は例えば第２図イに示すように捨
石１を必要な分だけ均してケーソン仮受部３としてもよ
くまた第２図口に示すように砂袋５を役人造成した捨石
基礎２の表面に積み上げてもよく、更に第２図ハに示す
ように杭４を使用してもよく、この場合膜の立設は捨石
投入前にあらかじめ地盤中に打ち込んでおいてもよく投
入後に打ち込んでもよいものである。

これらのケーソン仮受部３の形成作業はいずれも潜水夫
によって行い、常法によりその高さを測定して十数ｃｍ
程度の誤差範囲に精度よく仕上げる。

このようにして突設したケーソン仮受部３上にケーソン
Ａの底面を仮受けさせるのであるがこのケーソンＡは第
３図〜第４図に示すようにその底面に仮受用の突部６が
一体に形成されている。

この突部６は少くともそのケーソン底面の周縁部に連続
して形成し、底面中央部分を凹ませた空間ａが形成され
ている。

更にケーソン底面のその凹ませた部分に断面が略半円形
状の凹溝７が形成されている。

この凹溝７は格子状配置に複数本を連続させて設けられ
ている。

なお格子状の外に連続することなく、並列配置に設けて
もよいものである。

そして、この凹溝７の複数箇所にモルタル、空気等の注
排孔８の下端が開口されている。

この注排孔８はケーソンＡの縦壁９内を通りケーソンＡ
の上端に開口されている。

そしてかかる構造のケーソンＡには第７図に示すように
底面全体を覆って気密性の膜１０を装着している。

この膜１０は少くともケーソン底部の空間ａの内面に沿
って密着され得る程度にたるませて装着し、その周縁部
をケーソン底面の周縁に固着しておくものである。

また、この膜１０はケーソンＡをコンクリート成型と同
時に装着するものであり、第５図に示すようにケーソン
型枠１１の底面１１ａに膜１０を敷設した後コンクリー
トを打設する。

このとき型枠底面１１ａの上面に部分的にたるみ部分１
２を折り畳んでおいてもよいものである。

また、この膜１０は第６図に示すように不透気性層１０
ａと不織布その他連続気泡のスポンジ材等からなる透気
性弾性層１０ｂとからなるものを使用し、透気性弾性層
１０ｂを下側にしてケーソン底面に装置し、ケーソン製
作後ドック内で注水浮上させ脱型する場合ケーソン底面
への水回りを良くし、脱型を容易ならしめるとともに曳
航の際等において膜１０の損傷を防止せしめるようにし
ている。

なお、膜１０の装着はケーソン成型時の他ケーソン成型
後において装着させてもよいものである。

このようにして膜１０を装着したケーソンＡを水面上に
浮上させて所望の設置箇所に曳航するのであるがその際
、前述した注排孔８を通して内部の空気を吸引し、ケー
ソン底面と膜１０間を真空化し、これによって膜１０を
空間ａの内面に密着させた状態にしておく、この場合膜
１０のたるみは凹溝７内に吸収される。

この状態で前述した捨石基礎２のケーソン仮受部３上に
ケーソンの仮受用の突部６を当接させて設置する。

その後、注排孔８の減圧状態を解除し、その中央部分の
注排孔８′よりモルタル１３を注入する。

そして注排孔８はモルタル注入検査用として使用する。

このようにしてモルタル注入を行うことによって第８図
に示すようにケーソンＡの底面と膜１０間にモルタル１
３が充填され、膜１０は押し拡げられ捨石基礎２の上面
に密着し、ケーソンＡと捨石基礎２間の空隙はモルタル
１３により、完全に埋められ、ケーソンＡ及び後にケー
ソン膜内に充填する土砂の重量は均等に捨石基礎表面に
て支持されることとなる。

本発明のケーソン据付工法は上述のように構成され、ケ
ーソンの設置前の工程として、従来はいずれも捨石基礎
の表面全面を均しており、しかもその均しは荒均し、本
均しの作業が行われていたところであるが本発明は部分
的にケーソン仮受部を設けるのみでよいため、潜水作業
が著しく簡略化されるとともに複数工程の均し作業が不
要となり、更に大がかりな均しのための装置も必要でな
くなり、潜水夫等の特殊技能者も多く要することなく海
象条件の悪い箇所でも能率良く作業ができ、しかも大規
模な工事であっても短期間の施工が可能となったもので
ある。

また捨石基礎へのケーソンの設置はまず数箇所の仮受部
上に設置されるものであるため、その仮受部の高さ精度
が容易に得られ、従ってケーソンは精度の高さ位置に設
置が可能となり、しかもケーソン底面と捨石基礎間はモ
ルタルが充填されるため両者の完全密着が可能となり安
定性は極めて高いものとなし得ることとなり、更にモル
タルの注入は気密性膜内になされるため流失がなく、確
実なモルタル充填がなし得られ、据付後の信頼性か゛向
上されたものである。

更にケーソン底面には上方に凹ませた空間を形成し、し
かも凹溝を設けその凹溝内に注排孔を開口させ、その注
排孔を通して減圧するようにしたことによって曳航中に
おいて膜のたれ下りがなく、しかも膜は空間及び凹溝内
にたるみなく収容され、従って作業中の破損も生じない
ものである。

更にまた凹溝はモルタル充填後において生じるレイタン
スが上昇してこれに集中し、従ってその処理も可能であ
りコンクリートの性状が向上される等の種々の効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施工程を示すものであり、第１図は投
入された捨石基礎の断面図、第２図イ〜ハはそれぞれ仮
受部の別々の例を示す断面図、第３図はケーソンの断面
図、第４図開底面図、第５図は同成型状態の部分断面図
、第６図は膜の部分拡大断面図、第７図は換装着状態の
部分断面図、第８図はモルタル注入後の状態の断面図で
ある。１・・・・・・捨石、２・・・・・・捨石基礎、３・・
・・・・ケーソン仮受部、４・・・・・・杭、５・・・
・・・砂袋、６・・・・・・突部、７・・・・・・凹溝
、８・・・・・・注排孔、９・・・・・・縦壁、１０・
・・・・・膜、１０ａ・・・・・・不透気性層、１０ｂ
・・・・・・透気性弾性層、１１・・・・・・ケーソン
型枠、ｌｌａ・・・・・・底面、１２・・・・・・たる
み部分、１３・・・・・・モルタル、Ａ・・・・・・ケ
ーソン、ａ・・・・・・空間。

Claims

【特許請求の範囲】

１ケーソンの底面の少くとも周縁部に仮受用の突部を
形成し、中央部分を凹ませて底部に空間を形成し、その
凹ませたケーソン底面に複数の凹溝を連続もしくは不連
続に設け、その凹溝内にモルタル等注排孔の下端を開口
させ、該ケーソンの底面に気密性膜をたるませて張設し
前記注排孔より吸気して該膜をケーソン底部の空間内に
密着させておき、該ケーソンを、基礎地盤上に捨石を投
下して所望高さに造成し、その上面の数箇所に前記ケー
ソン底面の仮受用突部に対応させてケーソン仮受部を形
成した捨石基礎上に設置し、その後前記注排孔より膜内
にモルタルを注入してケーソンの底面と捨石基礎間の空
隙を埋ることを特徴としてなるケーソン据付工法。