JPS5950558A - Static type memory device - Google Patents
Static type memory deviceInfo
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- JPS5950558A JPS5950558A JP57159613A JP15961382A JPS5950558A JP S5950558 A JPS5950558 A JP S5950558A JP 57159613 A JP57159613 A JP 57159613A JP 15961382 A JP15961382 A JP 15961382A JP S5950558 A JPS5950558 A JP S5950558A
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- JP
- Japan
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- memory cell
- data line
- data lines
- memory device
- load
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B10/00—Static random access memory [SRAM] devices
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体メモリ装置に係り、特に高速化及び動
作の安定化に優れた半導体スタティック型メモリ装置に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a semiconductor static type memory device that is excellent in speeding up and stabilizing operation.
第1図は、従来の半導体スタティック型メモリ装置のセ
ル・アレ一部とその周辺部分を示したものである。すな
わち、図において% Mx、t=Mrn、nはmxn個
のメモリセルであり、これらをマトリツクス状に規則的
に配列することで、n行m列から成るセル・アレーCA
が構成されている。(メモリセルM、アは、第X列第y
行のメモリセルに対応する。)′iまた、図において、
W1〜Wnはそれぞれ、第1行〜第n行のメモリセル毎
に共通接続されたワード線、W n s ” W n
nはそれぞれワード線W+”Wnを駆動するワード・ド
ライバ、dl。FIG. 1 shows a portion of a cell array and its peripheral portion of a conventional semiconductor static memory device. That is, in the figure, %Mx, t=Mrn, n is mxn memory cells, and by arranging them regularly in a matrix, a cell array CA consisting of n rows and m columns is created.
is configured. (Memory cell M, A is the
Corresponds to the row memory cells. )'i Also, in the figure,
W1 to Wn are word lines commonly connected to the memory cells in the first to nth rows, respectively;
n are word drivers, dl, driving word lines W+"Wn, respectively;
d1〜dm、(Imはそれぞれ添字に対応する列のメモ
リセル毎に共通接続されたデータ線% R111゜R1
2〜几+TIt、Rr++4はセルアレーの外に配置さ
れ、データ線d1 + d1〜dm、dmの各々に接続
されたデータ線の負荷抵抗、VDDは上記2m個の負荷
抵抗几IIs Rx2〜Rmx * Rmzに共通接続
すした電源線、SA1〜SAmは、それぞれ添字に対応
するデータ線の対に接続されたセンス・アンプ、CD、
CDはセンスアンプSAI〜S A mにそれぞれ接続
されたコモン・データ線、OBは、コモン・データac
D、CDに接続された出力バッファ、DOは、出力バッ
ファOBに接続される出力端子である。d1 to dm, (Im is the data line % commonly connected to each memory cell in the column corresponding to the subscript. R111°R1
2~TIt, Rr++4 is the load resistance of the data line arranged outside the cell array and connected to each of the data lines d1 + d1~dm, dm, and VDD is the load resistance of the above 2m load resistances Rx2~Rmx * Rmz The power supply lines SA1 to SAm commonly connected to the sense amplifiers, CD, and SAm connected to the data line pairs corresponding to the respective subscripts
CD is a common data line connected to sense amplifiers SAI to S A m, and OB is a common data line connected to sense amplifiers SAI to S A m.
The output buffers D and CD are connected, and DO is an output terminal connected to the output buffer OB.
次に、このメモリ装置の読み出し動作について簡単に説
明する。メモリ装置のアドレス入力端子(図示せず)に
与えられた信号によって、ワード線W1〜Wnのいずれ
か1本が、メモリセルの選択状態となる電位に設定され
、他は、メモリセルが非選択状態となる電位に設定され
る。これによって、各データ線の対には、選択されたワ
ード線に接続されたメモリセルの各々に保持されている
情報に対応して、信号が現われる。さらに、メモリ装置
のアドレス入力端子に与えられた信号によって、センス
アンプ8At〜SAmのうちいずれか1つが選択され、
その選択されたセンスアンプによって、該センスアンプ
に接続されたデータ線の対に現われた信号が増幅されて
、コモンデータIcD、CDに伝えられる。最後にコモ
ンデータgcD、CDの信号が出カバソファOBによっ
て、増幅、波形整形され、出力端子り。に信号が現われ
、読み出しが完了する。Next, a read operation of this memory device will be briefly explained. By a signal applied to an address input terminal (not shown) of the memory device, one of the word lines W1 to Wn is set to a potential that makes the memory cell selected, and the other word lines are set to a potential that makes the memory cell non-selected. The potential is set to the state. As a result, a signal appears on each pair of data lines corresponding to the information held in each of the memory cells connected to the selected word line. Further, one of the sense amplifiers 8At to SAm is selected by a signal applied to the address input terminal of the memory device,
The signal appearing on the pair of data lines connected to the sense amplifier is amplified by the selected sense amplifier and transmitted to the common data IcD, CD. Finally, the common data gcD and CD signals are amplified and waveform-shaped by the output sofa OB and output to the output terminal. A signal appears and reading is completed.
次に、読み出し時に、データ線に信号が発生する機構に
ついて簡単に説明する。第2区1は、第1図の一部分に
ついて、メモリセルの具体的例の1つを挙げて示したも
のである。図中、点線で囲まれた部分がメモリセルで、
これが第1図のMl、。Next, the mechanism by which a signal is generated on the data line during reading will be briefly described. The second section 1 shows one specific example of a memory cell in a part of FIG. 1. In the figure, the area surrounded by dotted lines is the memory cell.
This is Ml in Figure 1.
〜M m 、 nの1つに対応する。第2図において、
Wは第1図のWl、−Wnの1つに、dは第1図のdl
−dmの1つに、dは第1図のd、−dmの1つに、P
、Iは第1図の几11〜几mlの1つに、几2は第1図
のR1□〜Rm2の1つに、それぞれ対応している。ま
た、第2図において、メモリセルは、6個の電界効果ト
ランジスタ(以下FETと略す)T1〜T6から構成さ
れており、Tl及びT2のソースは共通に電源■8に接
続され、T1のゲートはT2のドレインに接続され、T
2のゲートはT1のドレインに接続され、T3のソース
はT1のドレインに接続され、T3のゲートはワード線
Wに接続され、T3のドレインはデータ線dに接続され
、T4のソースはT2のドレインに接続され、T4のゲ
ートはワード線Wに接続され、T4のドレインはデータ
線dに接続され、T5のソースとゲートは共通にT1の
ドレインに接続され、T6のソースとゲートは共通にT
2のドレインに接続され、T5のドレインと、T6のド
レインは共通に電源VDに接続されている。また、デー
タ線d、dは、それぞれ抵抗Rs、几2を介して電源V
DDに接続されている。なお、メモリセルにおいて、T
5.T6は負荷として動作しているため、これらを抵抗
で置き換えても、ここで述べるメモリ・セルの動作には
本質的に変わるところがない。~M m , corresponds to one of n. In Figure 2,
W is one of Wl, -Wn in Figure 1, d is dl in Figure 1
-dm, d in Figure 1, -dm, P
, I correspond to one of the boxes 11 to ml in FIG. 1, and the box 2 corresponds to one of R1□ to Rm2 in FIG. 1, respectively. In addition, in FIG. 2, the memory cell is composed of six field effect transistors (hereinafter abbreviated as FET) T1 to T6, the sources of Tl and T2 are commonly connected to the power supply 8, and the gate of T1 is is connected to the drain of T2, and T
The gate of T2 is connected to the drain of T1, the source of T3 is connected to the drain of T1, the gate of T3 is connected to the word line W, the drain of T3 is connected to the data line d, and the source of T4 is connected to the drain of T2. The gate of T4 is connected to the word line W, the drain of T4 is connected to the data line d, the source and gate of T5 are commonly connected to the drain of T1, and the source and gate of T6 are commonly connected to the drain of T1. T
The drain of T5 and the drain of T6 are commonly connected to the power supply VD. Further, the data lines d and d are connected to the power supply V through resistors Rs and 2, respectively.
Connected to DD. Note that in the memory cell, T
5. Since T6 operates as a load, replacing them with resistors does not essentially change the operation of the memory cell described here.
第2図において、メモリセルは、フリップフロップを構
成しており、TI、T2のいずれか一方はオン状態に保
たれ、他方はオフ状態に保たれる。In FIG. 2, the memory cells constitute a flip-flop, and one of TI and T2 is kept in an on state, and the other is kept in an off state.
ここで、説明を簡単にするために、T1がオン状態にあ
り、T2がオフ状態にあるとする。このとき、T1のド
レインはローレベル、T2のドレインはハイレベルとな
っている。ワード線Wが非選択状態(ローレベル)にあ
るとき、T3.’I”4はいずれもオフ状態となり、デ
ータ線d、dの電位は電源VDDの値に等しく保たれて
いる。なおここではVDDは電源、該電源の電源線及び
該電源の電位を表わすのに共通に使用する。ワード線W
が選択状態()・イレベル)となると、T3はオン状態
に変化し、■DD−+R1→d→T3→T1の経路で、
読み出し電流Inが流れる。ワード線Wが選択状態に変
化してから充分時間が経過した後では、データ線dの電
位はVDD Iyt−Rtまで下がる。このとき、デ
ータ線dの電位はVDDのままであるので、工R−R1
の大きさの信号電圧がセンス・アンプに伝えられる。一
方、データ線に充分な信号電圧が現われるのに必要な時
間は次のように考えることができる。データ、1jic
l、dには、T3.T4のドレイン・ゲート間の容量や
配線容量等が存在する。ここで、これらの容量をまとめ
て、第2図に示すようにcd、 cdと表現することに
する。Here, to simplify the explanation, it is assumed that T1 is in the on state and T2 is in the off state. At this time, the drain of T1 is at low level and the drain of T2 is at high level. When the word line W is in a non-selected state (low level), T3. 'I'4 are both in the off state, and the potential of the data lines d and d is kept equal to the value of the power supply VDD. Here, VDD represents the power supply, the power line of the power supply, and the potential of the power supply. Commonly used for word line W
When becomes the selected state ()/I level), T3 changes to the on state and follows the path of ■DD-+R1 → d → T3 → T1,
A read current In flows. After a sufficient period of time has passed since the word line W changed to the selected state, the potential of the data line d drops to VDD Iyt-Rt. At this time, the potential of the data line d remains at VDD, so the line R-R1
A signal voltage with a magnitude of is transmitted to the sense amplifier. On the other hand, the time required for a sufficient signal voltage to appear on the data line can be considered as follows. data, 1jic
T3. There is a capacitance between the drain and gate of T4, a wiring capacitance, etc. Here, these capacitances are collectively expressed as cd and cd, as shown in FIG.
簡単のために、ワード線Wが非選択状態から選択状態に
変化するのに必要な時間は充分短かく、また、データ線
dの電位が変化している間、読み出し電流の大きさは、
一定値IRであるものとする◎このとき、ワード線Wが
選択状態へ変化した時点から後のデータ線dの電位は、
時間とともに第3図のように変化する。この電位変化の
時定数はCd−R□で与えられ、データ線の電位が最終
状態までの変化分の2分の1だけ変化するのに要する時
間はtn2×cd−几1 ;0,69 XCd−Rtで
与えられる。(tnは自然対数を示す。)従って、メモ
リ装置の高速化を実現するためには、cd−R1?:小
さくすることが不可欠である。For simplicity, the time required for the word line W to change from the unselected state to the selected state is sufficiently short, and while the potential of the data line d is changing, the magnitude of the read current is as follows.
Assume that the constant value IR is ◎At this time, the potential of the data line d after the time when the word line W changes to the selected state is:
It changes over time as shown in Figure 3. The time constant of this potential change is given by Cd-R□, and the time required for the data line potential to change by half of the change to the final state is tn2×cd-几1; 0,69 XCd −Rt. (tn indicates the natural logarithm.) Therefore, in order to realize high-speed memory devices, CD-R1? : It is essential to make it small.
一般に半導体メモリ装置においては、チップ・サイズ及
び集Alt度が所与のものとすると、許容されるメモリ
セルサイズがほぼ決まる。また、セルアレーの太きさも
決まるので、データ線の容量cdは、デバイスの容量や
配線幅から決まる配線容量によって、はぼ決まる。従っ
て、データ腺信号の高速化をはかるためには、データ線
の負荷抵抗R1k小さくしなければならない。In general, in a semiconductor memory device, if the chip size and concentration level are given, the allowable memory cell size is approximately determined. Furthermore, since the thickness of the cell array is also determined, the capacitance cd of the data line is largely determined by the wiring capacitance determined from the device capacitance and the wiring width. Therefore, in order to increase the speed of the data line signal, it is necessary to reduce the load resistance R1k of the data line.
ところが、非常に高速なメモリ装置を実現しようとする
場合、これに対応して几t’?r小さくするとデータ線
の配線抵抗が無視できない大きさとなり、問題となる。However, when trying to realize a very high-speed memory device, it is necessary to If r is made small, the wiring resistance of the data line becomes too large to be ignored, which becomes a problem.
例えばk GaAS を基板材料とするスタティック・
メモリ装置では、アクセス時間’t 1 [I S以下
にすることができるが、このような高速のメモリ装置に
おいては、データ線の信号が変化する時間(前述のよう
に0.69Cd−Rx)は、例えばQ、3ns以下とい
う短いものが要求される。このようなメモリ装置におい
て、データ線の容量を、例えばIFFとした場合、R1
の大きさは約400Ω以下でなくてはならない。一方、
データ線の配線のシート抵抗を例えば、0,1Ω、配線
幅’r2μm5配線長をIMとした場合、データ線の配
線抵抗は50Ωとなる。これは、几!の大きさの10%
以上となり、無視できない大きさとなる。For example, static
In a memory device, the access time can be reduced to less than 't 1 [IS], but in such a high-speed memory device, the time for the data line signal to change (0.69Cd-Rx as described above) is , for example, Q, is required to be short, 3 ns or less. In such a memory device, if the capacitance of the data line is, for example, IFF, then R1
must be approximately 400Ω or less. on the other hand,
For example, if the sheet resistance of the data line wiring is 0.1Ω, the wiring width is 2 μm, and the wiring length is IM, the wiring resistance of the data line is 50Ω. This is Rin! 10% of the size of
This is a size that cannot be ignored.
第4図は第1図のメモリ・セル・アレーから、1列分を
取り出して示したものである。第4図において、データ
線d、dにはメモリ・セルM1〜Mnが接続され、デー
タ線d、dのMt側の端には、負荷抵抗Rt 、 YL
zを介して電源線VDDが接続され、d、60Mn側の
端にはセンス・アンプが接続される。第4図において、
dは第1図のdl、、dmの1つに、dはd、、、、d
mの1つに、R1はR11〜fLm4の1つに、R2は
R12〜R+ m2の1つにそれぞれ対応している。デ
ータ線d、d上で、抵抗& 、 Rzが接続される点か
ら、メモリセルMlが接続される点までの長さtll、
メモリセルMnが接続される点までの長さftnとし、
各メモリセルのデータ線方向の長さk Lmy とす
ると、tnはtl よりも(” 1)Xtmyだけ長
くなる。第2図の説明で述べたように、読み出し動作時
において、読み出し電流は、vDn−+Rt→d→メモ
リセルの経路で流れるため、メモリセルMlを読み出す
場合には、tlによる配線抵抗rw1が、また、メモリ
セルMnを読み出す場合には、tnによる配線抵抗rw
nが、それぞれ問題となる。第5図(a)はメモリセル
Mlの読み出し時、第5図の)はメモリセルMnの読み
出し時の電流経路を模式的に示したものである。同図(
a)に示すように、メモリセルMlの読み出し時には、
読み出し電流IRがVDD−+R1→rw!→メモリセ
ルの経路で流れるため、データ線に発生する信号振幅は
、I R・(Rt +rw+ )となる。一方、同図(
b)に示すように、メモリセルMnの読み出し時には、
読み出し電流IRが、VDD−+几1−Jp r wn
→メモリセルの経路で流れるため、データ線に発生する
信号振幅は、IR・(几1+rwn)となる。従って、
第1行目のメモリセルMlを読み出す時と、第n行目の
メモリセルMnを読み出す時では、読み出し信号の振幅
が、IR・(rwn −rwl )だけ異なったものと
なる。また、第1行目のメモリセルMxk読み出す際の
データ線電位の変化の時定数はCcl ・(Rt +
rwt )であるが、第n行目ツメモリセルMnを読み
出す際の時定数はcd・(R1+rwn)となる。この
ようにメモリセルがデータ線に接続されている位置によ
って、データ線信号の読み出し速度が異なることは、高
速なメモリ装置を実現する上での障害となる。FIG. 4 shows one column extracted from the memory cell array of FIG. 1. In FIG. 4, memory cells M1 to Mn are connected to data lines d and d, and load resistors Rt and YL are connected to the ends of data lines d and d on the Mt side.
A power supply line VDD is connected through z, and a sense amplifier is connected to the end on the 60Mn side. In Figure 4,
d is one of dl, , dm in Fig. 1, d is d, , , d
m, R1 corresponds to one of R11 to fLm4, and R2 corresponds to one of R12 to R+m2. On the data lines d and d, the length tll from the point where the resistors & , Rz are connected to the point where the memory cell Ml is connected,
The length to the point where the memory cell Mn is connected is ftn,
Assuming that the length of each memory cell in the data line direction is kLmy, tn is longer than tl by (1) -+Rt→d→memory cell, so when reading the memory cell Ml, the wiring resistance rw1 due to tl, and when reading the memory cell Mn, the wiring resistance rw due to tn.
Each n becomes a problem. FIG. 5(a) schematically shows the current path when reading from the memory cell Ml, and FIG. 5(a) schematically shows the current path when reading from the memory cell Mn. Same figure (
As shown in a), when reading the memory cell Ml,
Read current IR is VDD-+R1→rw! →Since it flows through the path of the memory cell, the signal amplitude generated on the data line is I R·(Rt +rw+). On the other hand, the same figure (
As shown in b), when reading the memory cell Mn,
The read current IR is VDD-+几1-Jp r wn
→Since it flows through the path of the memory cell, the signal amplitude generated on the data line is IR·(几1+rwn). Therefore,
The amplitude of the read signal differs by IR·(rwn − rwl ) when reading the memory cell Ml in the first row and when reading the memory cell Mn in the nth row. Further, the time constant of change in data line potential when reading memory cell Mxk in the first row is Ccl ・(Rt +
rwt ), but the time constant when reading out the nth row memory cell Mn is cd·(R1+rwn). The fact that the reading speed of the data line signal differs depending on the position where the memory cell is connected to the data line becomes an obstacle in realizing a high-speed memory device.
本発明は以上のような欠点を克服するためになされたも
ので、その目的は、データ線の配線抵抗の影響を軽減し
、回路の高速化、及び動作の安定性向上がはかれる半導
体スタティック型メモリ装置を提供することにある。The present invention has been made to overcome the above drawbacks, and its purpose is to provide a semiconductor static type memory that reduces the influence of wiring resistance of data lines, increases circuit speed, and improves operational stability. The goal is to provide equipment.
この目的を達成するため本発明においては、電源線及び
負荷抵抗をメモリセル・アレー内に配置して、負荷抵抗
が接続されている点からメモリセルが接続されている点
までのデータ線の長さの最大値を小さくしたことを特徴
とする。この結果、メモリセルの接続位置によるデータ
線の配線抵抗士の影響が軽減され、その分だけ、読み出
し動作の高速化及び動作の安定化が向上することになる
。To achieve this objective, the present invention arranges the power supply line and the load resistor within the memory cell array, and lengthens the data line from the point where the load resistor is connected to the point where the memory cell is connected. It is characterized by a small maximum value. As a result, the influence of the wiring resistance of the data line due to the connection position of the memory cell is reduced, and the speed of the read operation and the stability of the operation are improved accordingly.
第6図は本発明の一実施例の構成を示し、これは各デー
タ線に1個の負荷素子を接続した場合の実施例である。FIG. 6 shows the configuration of an embodiment of the present invention, and this is an embodiment in which one load element is connected to each data line.
この実施例は、負荷抵抗R11゜R12〜Rmt 、
Rmz と電源線VDDがメモリセル・アレーCA内に
配置されている点を除けば、第1図の構成と同じである
。本実施例においては、負荷抵抗Rtt r Rt2〜
Rmt * mz (D各々はセルアレーCAの略中央
、すなわちデータ線の各々に共通接続されたn個のメモ
リセルをほぼ等しく組分けする位置(データ線のほぼ中
点)でデータ線の各々に接続されている。また、電源線
VDDもセルアレーCAの略中央でデータ線と直交する
方向に配置され、負荷抵抗Rtt r R12〜Rmt
+ Rmz に共通接続されている。この結果、デー
タ線抵抗による影響は、第1図の従来構成による場合と
比較して、約2分の1に低減される。これは、データ線
上において、負荷抵抗が接続されている点から、メモリ
セルが接続されている点までの距離の最大値が、本構成
の場合、第1図の構成の約2分の1となるからである。In this embodiment, the load resistance R11°R12~Rmt,
The configuration is the same as that of FIG. 1 except that Rmz and power supply line VDD are arranged within memory cell array CA. In this embodiment, the load resistance Rttr Rt2~
Rmt * mz (D is connected to each data line at approximately the center of the cell array CA, that is, at a position where n memory cells commonly connected to each data line are approximately equally grouped (approximately the midpoint of the data lines) In addition, the power supply line VDD is also arranged approximately at the center of the cell array CA in a direction perpendicular to the data line, and the load resistance Rtt r R12 to Rmt
+ Rmz is commonly connected. As a result, the influence of data line resistance is reduced to about one half compared to the conventional configuration shown in FIG. This means that on the data line, the maximum distance from the point where the load resistor is connected to the point where the memory cell is connected is approximately half of that in the configuration shown in Figure 1 in this configuration. Because it will be.
第6図では各データ線に1個の負荷素子を接続した場合
の実施例を示したが、つぎに複数個の負荷素子を接続し
た場合の実施例を示す。Although FIG. 6 shows an embodiment in which one load element is connected to each data line, an embodiment in which a plurality of load elements are connected will be shown next.
第7図は本発明の他の実施例の構成を示し、各データ線
に3個の負荷素子を接続した場合の実施例である。図に
おいて、Rxyl (X = 1〜3゜y=1〜m)
はデータ線d、と電源線VDD間に接続されたデータ線
の負荷抵抗、Rxy2(X = 1〜3、y=l 〜m
)はデータ線d、と電源線VDD間に接続されたデータ
線の負荷抵抗を示す・第7図の回路の動作を第8図を用
いて説明する。FIG. 7 shows the configuration of another embodiment of the present invention, and is an embodiment in which three load elements are connected to each data line. In the figure, Rxyl (X = 1~3°y = 1~m)
is the load resistance of the data line connected between the data line d and the power supply line VDD, Rxy2 (X = 1 to 3, y = l to m
) indicates the load resistance of the data line connected between the data line d and the power supply line VDD.The operation of the circuit shown in FIG. 7 will be explained using FIG. 8.
第8図は、第7図のメモリ・セル・アレーCAから、1
列分を取り出して示したものである。第8図において、
デlり線d、dにはメモリ・セルMl−Mnが接続され
、データ線のM、側の端にはセンス・アンプが接続され
、データ線dには、3個の負荷抵抗、R11R211R
31が接続され、R111,R1211Rs1′J!!
:介シテ、電源VDD7>3接続され、データ線dには
、3個の負荷抵抗、R12、R22。FIG. 8 shows one memory cell array CA from FIG.
This is a diagram showing the extracted columns. In Figure 8,
Memory cells Ml-Mn are connected to the differential lines d and d, a sense amplifier is connected to the M side end of the data line, and three load resistors, R11R211R, are connected to the data line d.
31 is connected, R111, R1211Rs1'J! !
: Intermediate, power supply VDD7>3 is connected, and data line d has three load resistors, R12 and R22.
R32が接続され、R12e R22、R32を介して
、電源線VDDが接続されている。第8図において、d
は第7図の61〜6mの1つに、dは61〜6mの1つ
に、Rxt* R211R31はそれぞれ、′BJ1ヌ
1゜Rxmt m R211P′Rzm+ + R13
11〜R3mtの1つに−Rt 21 R2z 、 R
a 2は−それぞれ−Rxx2〜Rrm2+R212〜
R2mz + R312〜RI3 rr+zの1つに対
応している。データ線d、d上、負荷抵抗R11,Rt
zが接続される点から、第1行目のメモリセルMlが接
続される点までの長さをt、”、負荷抵抗R2□。R32 is connected, and the power supply line VDD is connected via R12e, R22, and R32. In Figure 8, d
is one of 61 to 6m in Fig. 7, d is one of 61 to 6m, and Rxt* R211R31 is 'BJ1nu1゜Rxmt m R211P'Rzm+ + R13, respectively.
11 to one of R3mt -Rt 21 R2z , R
a 2 is −respectively −Rxx2~Rrm2+R212~
It corresponds to one of R2mz + R312 to RI3 rr+z. On data lines d and d, load resistance R11, Rt
The length from the point where z is connected to the point where the first row memory cell Ml is connected is t,'' and the load resistance R2□.
R22が接続される点から、負荷抵抗R1t、 R,t
□が接続される点までの長さk12″、負荷抵抗RI3
. 。From the point where R22 is connected, the load resistance R1t, R,t
Length k12'' to the point where □ is connected, load resistance RI3
.. .
R32が接続される点から、負荷抵抗R12111(+
22が接続される点までの長さをA3“、負荷抵抗R3
1m■3□が接続される点から、第n行目のメモリセル
Mnが接続される点までの長さk14″とする。また、
11”、A2“、 t、”、 A4“に対応するデータ
線の配線抵抗e rWl” I rW2″l rW3/
/ I rW4〃とするO
簡単のために、A1”= lz’= As“=t4″=
t。From the point where R32 is connected, the load resistance R12111 (+
The length to the point where 22 is connected is A3'', the load resistance R3
The length from the point where 1m■3□ is connected to the point where the nth row memory cell Mn is connected is k14''. Also,
Wiring resistance of data lines corresponding to 11", A2", t, ", A4" e rWl" I rW2"l rW3/
/ I rW4〃O For simplicity, A1"= lz'= As"=t4"=
t.
R+tt = R12= R21= R24= Rsx
= R8223R,とすると−rWl””rW2“=
rW3“::rW4“:1と書くことができる。第n行
目のメモリセルMnの読み出し時に、読み出し電流IF
が、データ線dからメモリセルMnに流入するとすると
、Mnがdに接続されている点Nnに現われる信号振幅
は、−とする。)。第1図の構成では、同様の仮定のと
き、これに相当する信号振幅はほぼ(R+r)IPであ
り、また、第6図の構成では、はぼ(R+−)IFであ
るので、第7図の構成は配線抵抗の影響を低減するのに
効果があることがわかる。R+tt=R12=R21=R24=Rsx
= R8223R, then -rWl""rW2"=
It can be written as rW3"::rW4":1. When reading the nth row memory cell Mn, the read current IF
, flows into the memory cell Mn from the data line d, the signal amplitude appearing at the point Nn where Mn is connected to d is -. ). In the configuration of FIG. 1, under the same assumption, the corresponding signal amplitude is approximately (R+r)IP, and in the configuration of FIG. 6, it is approximately (R+-)IF, so It can be seen that the configuration shown in the figure is effective in reducing the influence of wiring resistance.
第7図において、同一のデータ線に接続される負荷抵抗
は3個としたが、この抵抗の数を2個以上の任意の数と
しても、本発明で得られる効果には本質的に異なるとこ
ろがない。In FIG. 7, the number of load resistors connected to the same data line is three, but even if the number of resistors is set to any number greater than or equal to two, the effects obtained by the present invention will be essentially different. do not have.
なお、上述の説明において、データ線に接続される負荷
素子は抵抗としたが、これは、同等の機能をもつもの、
例えば、ゲートとソースを接続したFET等を用いても
、本発明で得られる効果には本質的に変わることがない
。また、データ線に接続されるセンス・アンプは、信号
の増幅機能と、データ線対の選択機能の両方を持つとし
たが、これは、後者のみの機能を持つ、スイッチのよう
なものを用いたとしても、本発明を実施して得られる効
果には変わるところがない。Note that in the above explanation, the load element connected to the data line is a resistor, but this can be replaced by a resistor with the same function,
For example, even if a FET with a gate and source connected is used, the effects obtained by the present invention will not essentially change. Also, the sense amplifier connected to the data line has both the signal amplification function and the data line pair selection function, but this uses something like a switch that has only the latter function. Even if there is, there is no change in the effects obtained by implementing the present invention.
以上説明した如く本発明によれば、メモリセルの接続位
置によるデータ線の配線抵抗による影ルψが軽減される
ので、データ線信号のレベル変動を抑えることができ、
より高速で、動作の安定なメモリ装置が実現できる。As explained above, according to the present invention, the influence ψ caused by the wiring resistance of the data line due to the connection position of the memory cell is reduced, so it is possible to suppress the level fluctuation of the data line signal.
A memory device with higher speed and stable operation can be realized.
第1図は従来のメモリ装置のセル・アレ一部とその周辺
部分を示す図、第2図〜第5図は第1図の動作とその欠
点を説明するための図、第6図、第7図はそれぞれ本発
明の一実施例を示す図、第8図は第7図の動作を説明す
るための図である。
M・・・メモリセル、 CA・・・メモリセル・アレー
、W・・・ワードm、WD・・・ワード線ドライバ%
VDn・・・電源線、d、d・・・データ線、R・・・
負荷抵抗、CD。
CD・・・コモン・データ線、SA・・・センス・アン
プ、篤 j 図
χ ? 何
Y33図
I4図
葛5図
((1−) (J))
I 6 目
I
曾
fh
=
完 7 図
Wl
茅 8 図FIG. 1 is a diagram showing a part of a cell array and its peripheral parts of a conventional memory device, FIGS. 2 to 5 are diagrams for explaining the operation of FIG. 1 and its drawbacks, and FIGS. 7 is a diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of FIG. 7. M...Memory cell, CA...Memory cell array, W...Word m, WD...Word line driver%
VDn...power line, d, d...data line, R...
Load resistance, CD. CD...Common data line, SA...Sense amplifier, Atsushi j Figure χ? What Y33 Figure I4 Figure Kuzu 5 Figure ((1-) (J)) I 6th I 曾fh = Complete 7 Figure Wl Kaya 8 Figure
Claims (1)
置されてなるメモリ・セル・アレーと、このアレー内の
所定方向にある複数の上記メモリ・セルにそれぞれが共
通接続された複数のデータ線と、上記メモリ・セル・ア
レー内で上記データ線の各々に少なくとも1個が接続さ
れた複数個の負荷素子と、上記複数個の負荷素子に接続
され、上記所定の方向とほぼ直交する方向に延在する少
なくとも1個の電源線とからなることを特徴とするスタ
ティック型メモリ装置。 2、上記負荷素子が、上記データ線の各々に共通接続さ
れた複数の上記メモリ・セルをほぼ等しく組分けする位
置で、上記データ線の各々に接続されていることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のスタティック型メモ
リ装置。 3、上記負荷素子が上記データ線の各々に互いに異なる
位置で複数個づつ接続されると共に、上記電源線は上記
データ線の各々に接続された上記負荷素子を異なる位置
毎に共通接続した複数の電源線からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のスタティック型メモリ装
置。 4、上記データ線の各々に接続された複数個の上記負荷
素子は、該データ線に共通接続された複数の上記メモリ
・セルをほぼ等しく組分けする位置で接続されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のスタティッ
ク型メモリ装置。[Claims] 1. A memory cell array in which a plurality of static memory cells are regularly arranged, and a plurality of the memory cells in a predetermined direction within this array are each commonly connected. a plurality of load elements, at least one of which is connected to each of the data lines in the memory cell array; and a plurality of load elements connected to the plurality of load elements and arranged in the predetermined direction. and at least one power supply line extending in a direction substantially perpendicular to the static memory device. 2. The load element is connected to each of the data lines at a position that substantially equally groups the plurality of memory cells commonly connected to each of the data lines. A static memory device according to scope 1. 3. A plurality of the load elements are connected to each of the data lines at different positions, and the power supply line has a plurality of load elements connected to each of the data lines at different positions. A static memory device according to claim 1, characterized in that the static memory device comprises a power supply line. 4. The plurality of load elements connected to each of the data lines are connected at positions that substantially equally group the plurality of memory cells commonly connected to the data line. A static memory device according to claim 3.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57159613A JPS5950558A (en) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | Static type memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57159613A JPS5950558A (en) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | Static type memory device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5950558A true JPS5950558A (en) | 1984-03-23 |
Family
ID=15697534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57159613A Pending JPS5950558A (en) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | Static type memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950558A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6416162U (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-26 | ||
| JPH03112767U (en) * | 1990-03-06 | 1991-11-18 |
-
1982
- 1982-09-16 JP JP57159613A patent/JPS5950558A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6416162U (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-26 | ||
| JPH03112767U (en) * | 1990-03-06 | 1991-11-18 |
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