JPS5951446A - 荷電粒子ビ−ムの軌道の偏向を変化させる方法 - Google Patents
荷電粒子ビ−ムの軌道の偏向を変化させる方法Info
- Publication number
- JPS5951446A JPS5951446A JP58149516A JP14951683A JPS5951446A JP S5951446 A JPS5951446 A JP S5951446A JP 58149516 A JP58149516 A JP 58149516A JP 14951683 A JP14951683 A JP 14951683A JP S5951446 A JPS5951446 A JP S5951446A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- space
- magnetic field
- deflection
- trajectory
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1475—Scanning means magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/26—Arrangements for deflecting ray or beam
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
逸■Ω宜量
本発明は、例えば、イオン打込み器に利用される強烈な
イオンビームのような荷電粒子ビームの軌道を偏向させ
るための方法に関する。
イオンビームのような荷電粒子ビームの軌道を偏向させ
るための方法に関する。
ある密度、例えば1m^/dに達するか或いはそれを超
える同極性の重イオンビームは、何等かの特殊な予防手
段を行じなければイオンビームの分裂を引き起す粒子間
に働く非常に高い反発力のために状態を維持するのが困
難であることが知られている。このようなイオンビーム
は、ビームの極性と反対の極性の粒子の空間電荷、特に
正の重いイオンビームの場合の電子の空間電荷が最小の
ときのみ存在する。一般に、かかる電子は、ビーム内に
存在する。その理由は、ビームが移動する容器内を完全
な真空にすることはできず、イオン化された残留空気の
一部が必要な電子を供給するためである。
える同極性の重イオンビームは、何等かの特殊な予防手
段を行じなければイオンビームの分裂を引き起す粒子間
に働く非常に高い反発力のために状態を維持するのが困
難であることが知られている。このようなイオンビーム
は、ビームの極性と反対の極性の粒子の空間電荷、特に
正の重いイオンビームの場合の電子の空間電荷が最小の
ときのみ存在する。一般に、かかる電子は、ビーム内に
存在する。その理由は、ビームが移動する容器内を完全
な真空にすることはできず、イオン化された残留空気の
一部が必要な電子を供給するためである。
このような高密度、高質量のイオンビームの取扱いを可
能にするためには、逆極性の粒子の空間電荷によって補
償が崩れないようにすることが必然的に重要になり、こ
のことから、ビームを利用するべくビームの偏向するた
めには電界を利用することができないということになる
。かくて、現状では、ビームの軌道は磁界によって偏向
している。なぜならば、磁界は、十分な偏向を確保する
と共に、前述の補償を保持することが可能であるからで
ある。
能にするためには、逆極性の粒子の空間電荷によって補
償が崩れないようにすることが必然的に重要になり、こ
のことから、ビームを利用するべくビームの偏向するた
めには電界を利用することができないということになる
。かくて、現状では、ビームの軌道は磁界によって偏向
している。なぜならば、磁界は、十分な偏向を確保する
と共に、前述の補償を保持することが可能であるからで
ある。
このように、従来技術によると、磁界が時間の関数とし
て変化する領域を創り出し、ビームが通る軌道の曲率半
径を変化させることによって、ビームを偏向していた。
て変化する領域を創り出し、ビームが通る軌道の曲率半
径を変化させることによって、ビームを偏向していた。
これは、一般に、空隙を有し磁化コイルによって誘導さ
れる磁界が循環する磁気回路手段によって行い、磁化コ
イルに強さの変化する電流を流して可変磁界を作り出し
ていた。
れる磁界が循環する磁気回路手段によって行い、磁化コ
イルに強さの変化する電流を流して可変磁界を作り出し
ていた。
これらの公知の偏向方法は総て、可変磁界を作り出す磁
気材料内の、決して無視し得ないうず電流やヒステリシ
スによる損失や、磁界を変化する際の比較的高い無効電
力による損失等の重大な欠点がある。後者の欠点の例と
して、50Hzで約1゜の角度の、200keνのアン
チモニイオンビームを偏向する場合を例に挙げるならば
、長さ約0.2m、幅 0.2m 、厚さ0.1m 、
の空隙に相当する容積の磁化空間で、最大磁束密度10
00ガウス或いは0.1テスラの磁界を得るには、約5
,8 KVAの無効電力を消費しなければならない。こ
の量の規模の無効電力は、それを供給する電源回路の平
衡にとって大きな障害になる。
気材料内の、決して無視し得ないうず電流やヒステリシ
スによる損失や、磁界を変化する際の比較的高い無効電
力による損失等の重大な欠点がある。後者の欠点の例と
して、50Hzで約1゜の角度の、200keνのアン
チモニイオンビームを偏向する場合を例に挙げるならば
、長さ約0.2m、幅 0.2m 、厚さ0.1m 、
の空隙に相当する容積の磁化空間で、最大磁束密度10
00ガウス或いは0.1テスラの磁界を得るには、約5
,8 KVAの無効電力を消費しなければならない。こ
の量の規模の無効電力は、それを供給する電源回路の平
衡にとって大きな障害になる。
光肌q撞翌
本発明は、荷電粒子ビームの軌道の偏向を、磁界を利用
して変化させることを可能にする方法に関する。しかし
、本発明は、簡単でありながら効果的な手段を用いるこ
とで、ヒステリシス損、うず電流損或いは高い無効電力
消費による回路網の不平衡等に係る上述した従来技術の
欠点を解消することができる。
して変化させることを可能にする方法に関する。しかし
、本発明は、簡単でありながら効果的な手段を用いるこ
とで、ヒステリシス損、うず電流損或いは高い無効電力
消費による回路網の不平衡等に係る上述した従来技術の
欠点を解消することができる。
磁束密度がB (x+ y+ z)の磁界の容積V
の空間中を長さlにわたって通過させて荷電粒子ビーム
の軌道の偏向を変化させるために、本発明の方法では、
ビームの軌道に沿って算出された量38 dllを変え
て粒子ビームが空間Vを通過する間にビームが受ける偏
向特性を変えるようにビームに対して空間■を相対的に
変位させることを特徴としている。
の空間中を長さlにわたって通過させて荷電粒子ビーム
の軌道の偏向を変化させるために、本発明の方法では、
ビームの軌道に沿って算出された量38 dllを変え
て粒子ビームが空間Vを通過する間にビームが受ける偏
向特性を変えるようにビームに対して空間■を相対的に
変位させることを特徴としている。
体積■、長さl、軌道に対して直角な磁束密度Bの磁界
を通過する荷電粒子ビームの偏向角度αは、与えられた
エネルギーとイオンの種類により、この軌道に関して算
出した積分3B d7!の関数である。従来技術におい
ては、この角度は、時間の関数として、やはり時間の関
数である磁束密度Bを変化させて実現していた。本発明
によれば、角度αを変化させるために、積分SB cH
!が、荷電粒子ビームのとる軌道に沿って変化される。
を通過する荷電粒子ビームの偏向角度αは、与えられた
エネルギーとイオンの種類により、この軌道に関して算
出した積分3B d7!の関数である。従来技術におい
ては、この角度は、時間の関数として、やはり時間の関
数である磁束密度Bを変化させて実現していた。本発明
によれば、角度αを変化させるために、積分SB cH
!が、荷電粒子ビームのとる軌道に沿って変化される。
こうして、本発明によれば、ビームの偏向角度αは、体
積Vの空間に対してビームのとる位置の関数として得ら
れる。かくて、ビームに対して体積Vの空間を相対的に
変位させることにより、積分、5’B dll、の値を
変化させることが可能となり、求める偏向が得られる。
積Vの空間に対してビームのとる位置の関数として得ら
れる。かくて、ビームに対して体積Vの空間を相対的に
変位させることにより、積分、5’B dll、の値を
変化させることが可能となり、求める偏向が得られる。
注目すべきことは、本発明によれば、磁束密度B (x
、 y、 z)は、従来技術の場合と違って、時間
の関数ではなく、時間からは独立した磁化装置、例えば
永久磁石或いは一定のアンペアターンにより磁化された
磁気回路によって得られる。本発明の範囲を越えること
なく、本発明による方法の変更例を示すことができる。
、 y、 z)は、従来技術の場合と違って、時間
の関数ではなく、時間からは独立した磁化装置、例えば
永久磁石或いは一定のアンペアターンにより磁化された
磁気回路によって得られる。本発明の範囲を越えること
なく、本発明による方法の変更例を示すことができる。
第1の態様によれば、磁束密度は、例えば直方体の空間
V内一定で、この直方体がその二つの面とビームの方向
とに直角な軸のまわりで回転する。
V内一定で、この直方体がその二つの面とビームの方向
とに直角な軸のまわりで回転する。
第2の態様は、磁界が空間V内で一定ではなく、空間■
がビームに直角で磁界の方向に平行な軸のまわりで回転
する。
がビームに直角で磁界の方向に平行な軸のまわりで回転
する。
第3の態様では、空間Vが固定され、磁束密度は一定で
はなく、ビームが空間Vに進入する前に、空間Vに対し
て変位される。
はなく、ビームが空間Vに進入する前に、空間Vに対し
て変位される。
第4の態様では、空間Vはビームに直角な軸のまわりで
回転すると共に、空間Vが、実質的に等しい2つの隣接
領域を有し、それぞれの領域内の磁界の向きが前記回転
軸に平行で互いに反対の方向にある。
回転すると共に、空間Vが、実質的に等しい2つの隣接
領域を有し、それぞれの領域内の磁界の向きが前記回転
軸に平行で互いに反対の方向にある。
ス1側1
以下添付図面に従い本発明の実施例について詳述する。
しかし、本発明はそれら実施例に限定されるものではな
い。
い。
第1a図及び第1b図は、図中に示されたようにS極及
びN極を備えている2個のフェライト1及び2により磁
化された空間Vを示している。このような空間Vには、
矢印で示すような、一様の磁束密度Bの磁界が存在する
。本発明によれば、2個のフェライト1及び2は、それ
らの共面に対して直角でその対称中心を通る回転軸3の
まわりで一体となって回転する。回転軸3は、装置に進
入するビーム4の方向に直角である。2個のフェライト
が第1a図に実線で示す位置5を占める時、積分SB
d7!の値は最大となり、出口側におけるビームの軌道
は参照番号6で示す通りである。また、フェライト1及
び2が回転軸3のまわりで90゛回転して第1a図に破
線で示す位置7をとる時、ビームが空間Vを横切る長さ
lは最小となるので積分3B dj!はその最小値をと
る。この時の出口側におけるビームの軌道は参照番号8
で示す。このように、2個のフェライト1及び2よりな
る装置、即ち磁化空間Vを単に回転することにより、ビ
ームを偏向させることができ、この偏向は両極限の偏向
ビーム軌道6及び8の間の角度Δαの範囲内で変えるこ
とができる。
びN極を備えている2個のフェライト1及び2により磁
化された空間Vを示している。このような空間Vには、
矢印で示すような、一様の磁束密度Bの磁界が存在する
。本発明によれば、2個のフェライト1及び2は、それ
らの共面に対して直角でその対称中心を通る回転軸3の
まわりで一体となって回転する。回転軸3は、装置に進
入するビーム4の方向に直角である。2個のフェライト
が第1a図に実線で示す位置5を占める時、積分SB
d7!の値は最大となり、出口側におけるビームの軌道
は参照番号6で示す通りである。また、フェライト1及
び2が回転軸3のまわりで90゛回転して第1a図に破
線で示す位置7をとる時、ビームが空間Vを横切る長さ
lは最小となるので積分3B dj!はその最小値をと
る。この時の出口側におけるビームの軌道は参照番号8
で示す。このように、2個のフェライト1及び2よりな
る装置、即ち磁化空間Vを単に回転することにより、ビ
ームを偏向させることができ、この偏向は両極限の偏向
ビーム軌道6及び8の間の角度Δαの範囲内で変えるこ
とができる。
第2a図及び第2b図は本発明による方法の他の実施態
様を示すが、ここでは、磁化空間Vを、入射するビーム
4に直角で磁界の方向に平行な回転軸3のまわりで回転
する。第2a図に立面図で、第2b図に線A−Aに沿っ
た断面で示されたこの装置は、主に、固定磁気回路10
より構成されており、この磁気回路10は好ましくは環
状断面を有し、nlアンペアターンの起磁力に対応して
一定の電流■を巻回数nのコイル11cに流している。
様を示すが、ここでは、磁化空間Vを、入射するビーム
4に直角で磁界の方向に平行な回転軸3のまわりで回転
する。第2a図に立面図で、第2b図に線A−Aに沿っ
た断面で示されたこの装置は、主に、固定磁気回路10
より構成されており、この磁気回路10は好ましくは環
状断面を有し、nlアンペアターンの起磁力に対応して
一定の電流■を巻回数nのコイル11cに流している。
この磁気回路10は、第2a図の平面に位置する回転軸
3のまわりで一体に回転可能に配置された磁極片14及
び15に備わる2つの傾斜した面12及び13をにより
画成された空隙11を有する。空隙11の形状は矢印で
示す如き磁界Bが得られるようになっている。しかしな
がら、空隙11間の空間V内では磁束密度Bは一定では
ない。その理由は、磁界の強さは空隙の局所的な厚さに
反比例するからである。換言すれば、第2a図に示す磁
極片14及び15の位置では、空隙の左の外側では磁束
密度は最小であり、空隙の右の内側では最大となる。空
間v内で偏向を変えられる荷電粒子ビームは、回転軸3
に対して中心をはずれて4の位置を通過するので、磁極
片14.15を回転軸3のまわりで回転するだけでビー
ム4から見た磁界の強さを変化させることができ、かく
て、ビーム4を様々な度合で偏向させることができる。
3のまわりで一体に回転可能に配置された磁極片14及
び15に備わる2つの傾斜した面12及び13をにより
画成された空隙11を有する。空隙11の形状は矢印で
示す如き磁界Bが得られるようになっている。しかしな
がら、空隙11間の空間V内では磁束密度Bは一定では
ない。その理由は、磁界の強さは空隙の局所的な厚さに
反比例するからである。換言すれば、第2a図に示す磁
極片14及び15の位置では、空隙の左の外側では磁束
密度は最小であり、空隙の右の内側では最大となる。空
間v内で偏向を変えられる荷電粒子ビームは、回転軸3
に対して中心をはずれて4の位置を通過するので、磁極
片14.15を回転軸3のまわりで回転するだけでビー
ム4から見た磁界の強さを変化させることができ、かく
て、ビーム4を様々な度合で偏向させることができる。
第2b図は、空間Vにおけるビーム4の、最小の磁束密
度に対応する最小偏向軌道16と、最大磁の東密度に対
応する最大偏向軌道17を示す。最小偏向軌道16と最
大の偏向軌道17は、軌道の偏向の変化の両極限を規定
する角度Δαのだけ角方向に離隔しており、第2a図及
び第2b図の装置によってビームはこの範囲内で偏向を
変化させられる。 第3a図及び第3b図の装置は、本
発明の一部を構成しな0 い機械的又は電気的手段による公知の方法により得られ
たビームの偏向を更に増大させるものである。この装置
は、全体に静的である特徴を有し、第2a図及び第2b
図の場合と同様に、コイルIlcで形成される固定磁気
回路10を有している。この磁気回路10は、コイルl
lcに強さIの電流が流されて、nIチアンアターンの
起磁力を与える。
度に対応する最小偏向軌道16と、最大磁の東密度に対
応する最大偏向軌道17を示す。最小偏向軌道16と最
大の偏向軌道17は、軌道の偏向の変化の両極限を規定
する角度Δαのだけ角方向に離隔しており、第2a図及
び第2b図の装置によってビームはこの範囲内で偏向を
変化させられる。 第3a図及び第3b図の装置は、本
発明の一部を構成しな0 い機械的又は電気的手段による公知の方法により得られ
たビームの偏向を更に増大させるものである。この装置
は、全体に静的である特徴を有し、第2a図及び第2b
図の場合と同様に、コイルIlcで形成される固定磁気
回路10を有している。この磁気回路10は、コイルl
lcに強さIの電流が流されて、nIチアンアターンの
起磁力を与える。
前述の例と同様に、磁気回路10は空隙11を備えてお
り、この空隙11は、磁極片14.15によって画成さ
れており、磁極片14.15は傾斜した平坦な面12、
I3により限定され、かつ、空隙11内の磁界の方向は
矢印で示す通りであり、その強さは不均一で空隙11の
一端から他端に向って変化している。
り、この空隙11は、磁極片14.15によって画成さ
れており、磁極片14.15は傾斜した平坦な面12、
I3により限定され、かつ、空隙11内の磁界の方向は
矢印で示す通りであり、その強さは不均一で空隙11の
一端から他端に向って変化している。
前述の装置と比較して異なる点で重要なことは、第3a
図及び第3b図の装置では、磁極片14.15は固定さ
れており、また、ビーム4が第3a図の面内で数度に限
られた角度α1の間で変位することである。しかし、ビ
ームの極限偏向軌道16.17の間の角度α2は最初の
偏向角度α1よりも大きいので、ビームの偏向はこの装
置内で増加される。かくし1 て、ビーム4は、第3a図及び第3b図の装置に進入す
る以前に数度の角度α1で振られると、装置かう出るビ
ームは、ビームの極限偏向軌道16ト17(7)間を振
れ、従って、角度α、の前述の偏向角よりも遥かに大き
い角度α2だけ変位される(α2は通常α、の10倍以
上になる)。
図及び第3b図の装置では、磁極片14.15は固定さ
れており、また、ビーム4が第3a図の面内で数度に限
られた角度α1の間で変位することである。しかし、ビ
ームの極限偏向軌道16.17の間の角度α2は最初の
偏向角度α1よりも大きいので、ビームの偏向はこの装
置内で増加される。かくし1 て、ビーム4は、第3a図及び第3b図の装置に進入す
る以前に数度の角度α1で振られると、装置かう出るビ
ームは、ビームの極限偏向軌道16ト17(7)間を振
れ、従って、角度α、の前述の偏向角よりも遥かに大き
い角度α2だけ変位される(α2は通常α、の10倍以
上になる)。
この装置は、公知の機械的或いは物理的手段によって予
め僅かに最初の偏向された荷電ビームの偏向を、自動的
により大きくしたいときに利用することができる。
め僅かに最初の偏向された荷電ビームの偏向を、自動的
により大きくしたいときに利用することができる。
第4a図及び第4b図に示す装置は、本発明による他の
実施態様を示すが、回転軸3のまわりで回転する空間V
内に、第4a図に示すように等容積で同じ磁束密度Bで
反対向きの磁界が作用している2つの隣接する領域20
.21がある。これは、例えば4個のフェライト磁石の
S極とN極を第4a図に示すように配置することにより
簡単に得ることができる。第4a図に示す面において荷
電粒子ビーム4がこの装置に進入するときに起こること
について述べると、ビームが領JI3i20.21でそ
れぞれ反対の2 方向に偏向するので、4個のフェライト22.23.2
4.25の装置の第1の位置では極限軌道16をとり、
フェライト磁石を回転軸3のまわりで半回転して同じ位
置にすると極限軌道17をとることは明白である。そし
て、空間Vがその中間の位置にあるときは、ビームの軌
道は極限軌道16と17の間を通過する。
実施態様を示すが、回転軸3のまわりで回転する空間V
内に、第4a図に示すように等容積で同じ磁束密度Bで
反対向きの磁界が作用している2つの隣接する領域20
.21がある。これは、例えば4個のフェライト磁石の
S極とN極を第4a図に示すように配置することにより
簡単に得ることができる。第4a図に示す面において荷
電粒子ビーム4がこの装置に進入するときに起こること
について述べると、ビームが領JI3i20.21でそ
れぞれ反対の2 方向に偏向するので、4個のフェライト22.23.2
4.25の装置の第1の位置では極限軌道16をとり、
フェライト磁石を回転軸3のまわりで半回転して同じ位
置にすると極限軌道17をとることは明白である。そし
て、空間Vがその中間の位置にあるときは、ビームの軌
道は極限軌道16と17の間を通過する。
上記のごとく図面を参照して詳述した総ての実施例にお
いて、荷電粒子ビームの軌道の偏向の変化は、空間V内
のビームからみた積分、5’B dJを変化する磁気装
置によって得ることができ、その際、磁界は永久磁石あ
るいは定電流電磁気回路によって得ることができるので
、無効電力消費も、ヒステリシス損もうず電流損も一切
無い。
いて、荷電粒子ビームの軌道の偏向の変化は、空間V内
のビームからみた積分、5’B dJを変化する磁気装
置によって得ることができ、その際、磁界は永久磁石あ
るいは定電流電磁気回路によって得ることができるので
、無効電力消費も、ヒステリシス損もうず電流損も一切
無い。
第1a図及び第1b図は、直方体の空間Vを用いて荷電
粒子ビームの偏向を変化させる実施例を示すそれぞれ平
面図及び立面図である。 第2a図は、密度の変化する空間の回転によって3 荷電粒子ビームの軌道の偏向を変化させる、本発明によ
る方法の実施態様のひとつを示す図である。 第2b図は、第2a図に示した装置の線A−Aに沿って
の断面図である。 第3a図及び第3b図は、空間■が固定され、その空間
V内で磁束密度が一定ではなく、ビームは空間Vに進入
する前にビームが空間■に対して変位させられる、走査
を拡大するための装置のそれぞれ立面図及び平面図であ
る。 第4a図及び第4b図は、磁界が互いに反対の向きにな
っている実質的に等しい2つの隣接した領域を有する、
本発明による偏向方法を実施する装置のそれぞれ立面図
及び平面図である。 (主な参照番号) 1.2:フェライト磁石、 3:回転軸、 4:ビーム、11c:コイル
、 11:空隙、12.13.14.15:磁極
片、 6.8.16.17:偏向ビーム、 4 20、227領域。 出願人 コミサリア タ レネルジー アトミック 代理人 弁理士 新居止音 5 FIG、 1b 23
粒子ビームの偏向を変化させる実施例を示すそれぞれ平
面図及び立面図である。 第2a図は、密度の変化する空間の回転によって3 荷電粒子ビームの軌道の偏向を変化させる、本発明によ
る方法の実施態様のひとつを示す図である。 第2b図は、第2a図に示した装置の線A−Aに沿って
の断面図である。 第3a図及び第3b図は、空間■が固定され、その空間
V内で磁束密度が一定ではなく、ビームは空間Vに進入
する前にビームが空間■に対して変位させられる、走査
を拡大するための装置のそれぞれ立面図及び平面図であ
る。 第4a図及び第4b図は、磁界が互いに反対の向きにな
っている実質的に等しい2つの隣接した領域を有する、
本発明による偏向方法を実施する装置のそれぞれ立面図
及び平面図である。 (主な参照番号) 1.2:フェライト磁石、 3:回転軸、 4:ビーム、11c:コイル
、 11:空隙、12.13.14.15:磁極
片、 6.8.16.17:偏向ビーム、 4 20、227領域。 出願人 コミサリア タ レネルジー アトミック 代理人 弁理士 新居止音 5 FIG、 1b 23
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11荷電粒子ビームを、磁束密度B (x、 y、
z)の磁界の体積■の空間の中を長さlにわたって
通過させて、荷電粒子ビームの軌道の偏向を変化する方
法にして、ビームの軌道に沿って算出した、5’B d
J量を変化させて空間Vを通過するときビームが受ける
軌道の偏向特性を変えるようにビームに対して空間Vを
相対的に変位させることを特徴とする、荷電粒子ビーム
の軌道の偏向を変化させる方法。 (2)前記磁界は少なくとも1個の永久磁石により形成
される特許請求範囲第1項記載の方法。 (3)前記磁界は、一定の量のアンペアターンで磁化さ
れる、前記空間■を画成する空隙を有する磁気回路によ
って形成される特許請求範囲第1項記載の方法。 (4)前記磁界は、直方体に形成された空間V内で磁束
密度が一定で、該空間は、該空間の2面とビームの方向
に直角な軸のまわりで回転する特許請求範囲第1項記載
の方法。 (5)前記磁界は、空間V内で磁束密度が一定ではなく
、該空間Vは、ビームに直角で磁界に平行な軸のまわり
で回転する特許請求範囲第1項記載の方法。 (6)前記空間Vは固定されており、磁束密度は一定で
はなく、ビームは該空間■に進入する以前に該空間Vに
対して変位される特許請求範囲第1項記載の方法。 (7)前記空間Vは、ビームに直角な軸のまわりで回転
し、互いに反対の極性の、回転軸に平行な磁界を有する
、2つの実質的に等しい隣接した領域を有する特許請求
範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8214204 | 1982-08-17 | ||
| FR8214204A FR2532112A1 (fr) | 1982-08-17 | 1982-08-17 | Procede pour faire varier en fonction du temps la trajectoire d'un faisceau de particules chargees |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5951446A true JPS5951446A (ja) | 1984-03-24 |
Family
ID=9276907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58149516A Pending JPS5951446A (ja) | 1982-08-17 | 1983-08-16 | 荷電粒子ビ−ムの軌道の偏向を変化させる方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4564763A (ja) |
| EP (1) | EP0103502A1 (ja) |
| JP (1) | JPS5951446A (ja) |
| FR (1) | FR2532112A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4980562A (en) * | 1986-04-09 | 1990-12-25 | Varian Associates, Inc. | Method and apparatus for high efficiency scanning in an ion implanter |
| US4922106A (en) * | 1986-04-09 | 1990-05-01 | Varian Associates, Inc. | Ion beam scanning method and apparatus |
| US4745281A (en) * | 1986-08-25 | 1988-05-17 | Eclipse Ion Technology, Inc. | Ion beam fast parallel scanning having dipole magnetic lens with nonuniform field |
| NL8801208A (nl) * | 1988-05-09 | 1989-12-01 | Philips Nv | Geladen deeltjes bundel apparaat. |
| US5053627A (en) * | 1990-03-01 | 1991-10-01 | Ibis Technology Corporation | Apparatus for ion implantation |
| US5311028A (en) * | 1990-08-29 | 1994-05-10 | Nissin Electric Co., Ltd. | System and method for producing oscillating magnetic fields in working gaps useful for irradiating a surface with atomic and molecular ions |
| US6677599B2 (en) * | 2000-03-27 | 2004-01-13 | Applied Materials, Inc. | System and method for uniformly implanting a wafer with an ion beam |
| AU2001270133A1 (en) | 2000-06-22 | 2002-01-02 | Proteros, Llc | Ion implantation uniformity correction using beam current control |
| JP4987554B2 (ja) * | 2007-04-26 | 2012-07-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| FR2978600B1 (fr) | 2011-07-25 | 2014-02-07 | Soitec Silicon On Insulator | Procede et dispositif de fabrication de couche de materiau semi-conducteur |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3021445A (en) * | 1959-07-24 | 1962-02-13 | Bbc Brown Boveri & Cie | Electron lens |
| FR2043973A5 (ja) * | 1969-05-05 | 1971-02-19 | Thomson Csf | |
| US3671737A (en) * | 1969-05-07 | 1972-06-20 | Bell & Howell Co | Method for focusing a double focusing mass spectrometer |
| SU693474A1 (ru) * | 1976-09-27 | 1979-10-25 | Предприятие П/Я М-5174 | Магнитостатическа линза |
| FR2412939A1 (fr) * | 1977-12-23 | 1979-07-20 | Anvar | Implanteur d'ions a fort courant |
-
1982
- 1982-08-17 FR FR8214204A patent/FR2532112A1/fr active Granted
-
1983
- 1983-07-26 US US06/517,394 patent/US4564763A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-08-09 EP EP83401633A patent/EP0103502A1/fr not_active Withdrawn
- 1983-08-16 JP JP58149516A patent/JPS5951446A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0103502A1 (fr) | 1984-03-21 |
| FR2532112B1 (ja) | 1985-04-26 |
| FR2532112A1 (fr) | 1984-02-24 |
| US4564763A (en) | 1986-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4549155A (en) | Permanent magnet multipole with adjustable strength | |
| US4162954A (en) | Planar magnetron sputtering device | |
| US5886609A (en) | Single dipole permanent magnet structure with linear gradient magnetic field intensity | |
| US5635889A (en) | Dipole permanent magnet structure | |
| JP2667832B2 (ja) | 偏向マグネット | |
| KR100442990B1 (ko) | 중첩정적및시변자계를생성하는시스템및방법 | |
| US5117212A (en) | Electromagnet for charged-particle apparatus | |
| US4429229A (en) | Variable strength focusing of permanent magnet quadrupoles while eliminating x-y coupling | |
| ATE97536T1 (de) | Ionenquelle fuer positive wasserstoffionen. | |
| US4564763A (en) | Process and apparatus for varying the deflection of the path of a charged particle beam | |
| US4859976A (en) | Periodic permanent magnet structures | |
| US4633208A (en) | Magnetic multi-pole arrangement of the nth order | |
| US4761584A (en) | Strong permanent magnet-assisted electromagnetic undulator | |
| US4597847A (en) | Non-magnetic sputtering target | |
| US3831121A (en) | Focusing magnet | |
| USH1615H (en) | Magnetic fields for chiron wigglers | |
| US4887058A (en) | Periodic permanent magnet structures | |
| US3681599A (en) | Sector-type charged particle energy analyzer | |
| JPS6288246A (ja) | 荷電粒子ビ−ム偏向用電磁石 | |
| US5034590A (en) | Electron gun arrangement for use in the electron beam evaporation process | |
| GB787692A (en) | Improvements in or relating to electron discharge apparatus of the travelling wave type | |
| SU693474A1 (ru) | Магнитостатическа линза | |
| RU2063108C1 (ru) | Многополюсная магнитная линза | |
| JPS5846163B2 (ja) | 永久磁石を用いた連続磁場可変装置 | |
| JP2004206995A (ja) | 偏向電磁石、荷電粒子輸送路、および円形加速装置 |