JPS5952507B2 - 灯台管用補正フイルタ - Google Patents
灯台管用補正フイルタInfo
- Publication number
- JPS5952507B2 JPS5952507B2 JP58198405A JP19840583A JPS5952507B2 JP S5952507 B2 JPS5952507 B2 JP S5952507B2 JP 58198405 A JP58198405 A JP 58198405A JP 19840583 A JP19840583 A JP 19840583A JP S5952507 B2 JPS5952507 B2 JP S5952507B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- layer
- correction filter
- reflection
- barrier layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
- H01J9/2272—Devices for carrying out the processes, e.g. light houses
- H01J9/2273—Auxiliary lenses and filters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はカラーテレビジョン用受像管(以下、カラーT
V管と称す)の螢光体スクリーンを製造するための低損
失補正フィルタに関する。
V管と称す)の螢光体スクリーンを製造するための低損
失補正フィルタに関する。
該低損失補正フィルタはカラーTV管の螢光体スクリー
ンの製造に提供される板極管(以下、灯台管と称す)に
おいて使用される。
ンの製造に提供される板極管(以下、灯台管と称す)に
おいて使用される。
この場合、カラーTV管の面板に均一に分布される螢光
体層はシャドーマスクを通して照射され、面板上におい
て放射線の衝突によって螢光体素子の付着を誘引する化
学反応を開始する。
体層はシャドーマスクを通して照射され、面板上におい
て放射線の衝突によって螢光体素子の付着を誘引する化
学反応を開始する。
カラーTV管の動作中にシャドーマスクのアパチャーを
通過する電子によって衝突されるように螢光体素子を位
置決めするために、露出は完成したカラーTV管に生ず
る電子の軌導にビーム経路をまねるようにレンズを通し
て附加的に行われる。
通過する電子によって衝突されるように螢光体素子を位
置決めするために、露出は完成したカラーTV管に生ず
る電子の軌導にビーム経路をまねるようにレンズを通し
て附加的に行われる。
さらに、螢光体素子の広域分布に影響を与えるために、
補正フィルタは、位置に依存してビームを弱めるビーム
経路上に挿入される。
補正フィルタは、位置に依存してビームを弱めるビーム
経路上に挿入される。
従来技術
従来の補正フィルタは、ゼラチンで個められ層状にして
レンズ上に配置されたすす粒子の畜積物が多い。
レンズ上に配置されたすす粒子の畜積物が多い。
すすとゼラチンによるこの層はそこを通過する放射線の
位置依存による弱まりを生じ、レンズそれ自身上か又は
例えば台として供される別々のガラス板上に配置される
。
位置依存による弱まりを生じ、レンズそれ自身上か又は
例えば台として供される別々のガラス板上に配置される
。
他の従来の補正フィルタは、放射線の位置依存による弱
まりを達成するために、所望の弱められた放射線の位置
依存を得るように種々の互に間隔を持った関係に配置さ
れた薄いニッケル条片を障壁層として採用している。
まりを達成するために、所望の弱められた放射線の位置
依存を得るように種々の互に間隔を持った関係に配置さ
れた薄いニッケル条片を障壁層として採用している。
補正フィルタの後者の形式は実使用上強力でかつ保守が
容易なものである。
容易なものである。
従来の補正フィルタの最も重大な欠陥は伝搬可能な表面
が放射線の一部を反射することであり、さらにこのよう
な従来形の補正フィルタは障壁層における放射線吸収に
より発熱することである。
が放射線の一部を反射することであり、さらにこのよう
な従来形の補正フィルタは障壁層における放射線吸収に
より発熱することである。
発明の目的
本発明の目的は伝搬層領域内の反射を弱めることであり
補正フィルタの発熱を減することである。
補正フィルタの発熱を減することである。
発明の構成
この目的は、本発明によれば、通過層に光学的対反射被
覆が設けられ、障壁層の反射率が冷光反射器の場合と同
様に増大されることに帰する。
覆が設けられ、障壁層の反射率が冷光反射器の場合と同
様に増大されることに帰する。
光学的対反射被覆が提供されるか又は反射率が増大され
るかの波長帯域の選択は螢光体質にもとづき照射に使用
される全スペクトルの一部領域におけるスペクトル効率
に依存する。
るかの波長帯域の選択は螢光体質にもとづき照射に使用
される全スペクトルの一部領域におけるスペクトル効率
に依存する。
化学反応の始期において効果のない放射線スペクトルの
特定部分が補正フィルタを通過することを可能ならしめ
るが吸収はされない。
特定部分が補正フィルタを通過することを可能ならしめ
るが吸収はされない。
この特定なスペクトル領域に関して障壁層は伝搬可能で
あり通過層は反射する。
あり通過層は反射する。
実施例
第1図は灯台管の略断面図を示す。
ランプキャップ1の内部には光源2がホルダー3により
保持されている。
保持されている。
光源からの光は窓4および補正フィルタ6を通り一方の
面が平坦で他方の面が凸状の曲面をなすレンズ5に至る
。
面が平坦で他方の面が凸状の曲面をなすレンズ5に至る
。
レンズの投影は螢光体スクリーン8の螢光体層に成る点
では強められ成る点では弱められた照射を生じる。
では強められ成る点では弱められた照射を生じる。
このことは、レンズが、完成した受像管にて使用される
電子ビームの方向がシャドーマスク7を通過するような
方法すなわち電子経路を想定するような方法において設
定されねばならないという理由から、避けられないこと
である。
電子ビームの方向がシャドーマスク7を通過するような
方法すなわち電子経路を想定するような方法において設
定されねばならないという理由から、避けられないこと
である。
この過程にて発生する照度の差は補正フィルタにより補
償されねばならない。
償されねばならない。
いくつかの形式の灯台管では補正フィルタは直接レンズ
上に配置される。
上に配置される。
第2図に示されるパターンは従来の補正フィルタのもの
である。
である。
しかし、本発明では第3図ないし第6図に示すようなパ
ターンを提供する。
ターンを提供する。
第7図は補正フィルタの断面の一部を示す。
本発明によれば、放射線反射を弱める層12は、レンズ
5と同一である台10上で゛あって障壁層11の間に配
置される。
5と同一である台10上で゛あって障壁層11の間に配
置される。
いずれの層12とも放射線の通過を許容する材質により
作られるが、層の厚みは、層12の領域内では台10へ
の光学的適合が出来る限り改善され、一方、層11の領
域内では不整合によって反射に影響を与えるために適合
又は整合が出来るかぎり弱められるように寸法決定され
る。
作られるが、層の厚みは、層12の領域内では台10へ
の光学的適合が出来る限り改善され、一方、層11の領
域内では不整合によって反射に影響を与えるために適合
又は整合が出来るかぎり弱められるように寸法決定され
る。
第7図と比べて第8図は、放射線の通過を阻止する材質
により作られた障壁層即ちシールド13、を具備する補
正フィルタを示す。
により作られた障壁層即ちシールド13、を具備する補
正フィルタを示す。
これらは、例えば、強度に反射する従来形のニッケル条
片である。
片である。
番号10は上述したように台を示し、12は放射線の反
射を弱める層を示す。
射を弱める層を示す。
第9図は製造上特に有利な補正フィルタの構造を示し、
放射線の反射を弱める層12は連続的に配置される。
放射線の反射を弱める層12は連続的に配置される。
シールド13はこの層12上に配置される。
第10図は第9図と比べると層が連続的に設けられた補
正フィルタを示す。
正フィルタを示す。
台10上にシールド13が配置されその上に放射線反射
を弱める層12が配置される。
を弱める層12が配置される。
第11図に示す補正フィルタは、多重被覆層12を具備
する点以外は基本的に第10図のそれと対応する。
する点以外は基本的に第10図のそれと対応する。
層12の個々の被覆は、屈折率が確定的な材質とその厚
みにおいて、波長に依存する透過率が灯台管のスペクト
ルおよび螢光体層のスペクトルおよび螢光体層のスペク
トル感度に適合されるように設計される。
みにおいて、波長に依存する透過率が灯台管のスペクト
ルおよび螢光体層のスペクトルおよび螢光体層のスペク
トル感度に適合されるように設計される。
ここで番号10は台を示し番号13はシールドを示す。
第12図に示す配置は第7図に示す配置の変形で゛あり
、層11および12は多重被覆層をなし、これは第7図
に示す補正フィルタと比較してより改善された光学的適
合(整合)を可能にする。
、層11および12は多重被覆層をなし、これは第7図
に示す補正フィルタと比較してより改善された光学的適
合(整合)を可能にする。
第13図および第14図の補正フィルタに示されるよう
に、層12は層11の上方又は下方に連続的に伸長する
。
に、層12は層11の上方又は下方に連続的に伸長する
。
このような構成は製造工程を簡単化する効果を有する。
第15図に示すグラフは、螢光体により利用される「有
効相対スペクトル照射j WR3Bと同時に[スペクト
ル照射J SBを示す。
効相対スペクトル照射j WR3Bと同時に[スペクト
ル照射J SBを示す。
SBおよびWR3Bは波長λ上にナノミリメートル(n
m)単位でプロットされる。
m)単位でプロットされる。
照射用として通常使用される形式の水銀灯によって発せ
られる光のスペクトルから短波長成分のみ螢光体層と反
応する。
られる光のスペクトルから短波長成分のみ螢光体層と反
応する。
面板に螢光体の付着を生ずる化学反応は490nmの波
長を越える長波長成分によっては助成されず、この成分
は不必要な発熱のみ生じ、実際の動作上この発熱は面板
の被覆時に擾乱作用を有し、これは長時間の冷却時間が
製造段階のタイミングサイクル上に遅延作用を有するか
らである。
長を越える長波長成分によっては助成されず、この成分
は不必要な発熱のみ生じ、実際の動作上この発熱は面板
の被覆時に擾乱作用を有し、これは長時間の冷却時間が
製造段階のタイミングサイクル上に遅延作用を有するか
らである。
上述のものにも拘らず所定の製造割合に到達するために
相応する照射装置、すなわち、いわゆる「灯台管」が取
付けられる。
相応する照射装置、すなわち、いわゆる「灯台管」が取
付けられる。
このような附加的な賦与は本発明を採用することにより
補正フィルタにおいて吸収を弱めるときに回避すること
ができる。
補正フィルタにおいて吸収を弱めるときに回避すること
ができる。
効果的な波長帯域として320ないし49Qnmの範囲
において、障壁層は反射層として作用し得るが、螢光体
に影響のない490nm以上の放射線の通過は可能であ
る。
において、障壁層は反射層として作用し得るが、螢光体
に影響のない490nm以上の放射線の通過は可能であ
る。
従って、化学的作用によるスペクトル範囲(冷光反射板
原理)のみで反射される。
原理)のみで反射される。
本発明によれば、障壁層が設けられない補正フィルタの
表面領域はそこの放射線反射を弱める層12により被覆
される。
表面領域はそこの放射線反射を弱める層12により被覆
される。
例えば、有効波長帯域320ないし490nm内で透過
率は最大限に増大される。
率は最大限に増大される。
49Qnmを越える波長に対しては、反射は吸収を最少
にする方向で加えられる。
にする方向で加えられる。
これは、光学機器の分野で知られる蒸気沈積により光学
的対反射被覆により達成される。
的対反射被覆により達成される。
本発明の採用により生ずる有用な効果は第1に、補正フ
ィルタを同一発熱状態に維持することにより光学的対反
射被覆によって、さらされる時間が減じられ、さらに放
射線(光)が螢光体層上に衝突することを可能ならしめ
、第2に、反射の改善により吸収が減しられることによ
って、冷却時間の減少にもとづき補正フィルタにおける
発熱が減少する。
ィルタを同一発熱状態に維持することにより光学的対反
射被覆によって、さらされる時間が減じられ、さらに放
射線(光)が螢光体層上に衝突することを可能ならしめ
、第2に、反射の改善により吸収が減しられることによ
って、冷却時間の減少にもとづき補正フィルタにおける
発熱が減少する。
実験によれば、本発明によって冷却時間としては放射時
間のわずかな時間のみ必要とされ、従来の補正フィルタ
が使用される場合に対し、冷却時間と放射時間の比は約
1:1である。
間のわずかな時間のみ必要とされ、従来の補正フィルタ
が使用される場合に対し、冷却時間と放射時間の比は約
1:1である。
第1図は、照射装置(灯台管)の略断面図、第2図は、
条片パターンを備える補正フィルタの部分図、第3図な
いし第6図は、本発明による補正フィルタの一実施例を
示すパターンの部分図、第7図ないし第14図は、第3
図ないし第6図に示すパターンの部分断面図、および第
15図は、スペクトル照射SBおよび有効相対スペクト
ル照射対波長^を示すグラフである。 (符号の説明)、1・・・ランプキャップ、2・・・光
源、3・・・ホルダー、4・・・窓、5・・・レンズ、
6・・・補正フィルタ、7・・・シャドーマスク、8・
・・螢光体スクリーン、10・・・台、11・・・障壁
層、12・・・層、13・・・シールド。
条片パターンを備える補正フィルタの部分図、第3図な
いし第6図は、本発明による補正フィルタの一実施例を
示すパターンの部分図、第7図ないし第14図は、第3
図ないし第6図に示すパターンの部分断面図、および第
15図は、スペクトル照射SBおよび有効相対スペクト
ル照射対波長^を示すグラフである。 (符号の説明)、1・・・ランプキャップ、2・・・光
源、3・・・ホルダー、4・・・窓、5・・・レンズ、
6・・・補正フィルタ、7・・・シャドーマスク、8・
・・螢光体スクリーン、10・・・台、11・・・障壁
層、12・・・層、13・・・シールド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 カラーテレビジョン用受像管の製造に使用する灯台
管用補正フィルタであって、該補正フィルタの表面に所
定のパターンを有する障壁層が部分的に設けられ該障壁
層の設けられない部分の表面は光の通過を可能にするも
のにおいて、該障壁層の設けられない部分の表面が少な
くとも放射線の反射を弱める層により被覆され障壁層と
して設けられる部分の表面が放射線の反射を増大する層
により被覆されることを特徴とする灯台管用補正フィル
タ。 2 放射線反射を弱める層および放射線反射を増大する
層が放射線の所定の帯域の通過を許容又は禁止する材質
から成り、これらの層は薄いフィルム層が使用されその
厚みは該所定の波長帯域の通過を許容又は禁止するよう
に寸法設定される特許請求の範囲第1項記載の補正フィ
ルタ。 3 該障壁層が放射線の通過を許容しない材質から成り
放射線反射を弱める層が放射線の通過を許容する材質か
ら成り、これらの層の厚みが所定の波長帯域において最
少の反射に作用するように寸法決定される特許請求の範
囲第1項記載の補正フィルタ。 4 放射線反射を弱める層が放射線の通過を許容する材
質からなり該障壁層の上方又は下方に伸長する特許請求
の範囲第3項記載の補正フィルタ。 5 少なくとも放射線反射を弱める層および障壁層のい
ずれかが数層の被覆からなる特許請求の範囲第1〜4項
のいずれかに記載の補正フィルタ。 6 該障壁層の個々の被覆が最大反射のために使用され
た放射線の波長帯域において阻止を生ずるような厚みを
有する特許請求の範囲第5項記載の補正フィルタ。 7 放射線反射を弱める層の被覆が使用された放射線の
波長帯域において減じられた反射のために所定の透光性
を生ずるような厚みを有する特許請求の範囲第5項記載
の補正フィルタ。 8 放射線を弱める層が該障壁層が配置された表面上に
閉鎖表面を形成するように拡大される特許請求の範囲第
5項記載の補正フィルタ。 9 放射線を弱める層が該障壁層上に広がる閉鎖表面を
形成するように拡大される特許請求の範囲第5項記載の
補正フィルタ。 10 少なくとも放射線反射を弱める層および障壁層ま
たは個々の被覆が異なる屈折率を有する材質からなる特
許請求の範囲第1〜9項のいずれかに記載の補正フィル
タ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE32395590 | 1982-10-26 | ||
| DE19823239559 DE3239559A1 (de) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | Verlustarmes korrekturfilter zur herstellung von leuchtschirmen fuer farbbildroehren |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994327A JPS5994327A (ja) | 1984-05-31 |
| JPS5952507B2 true JPS5952507B2 (ja) | 1984-12-20 |
Family
ID=6176608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58198405A Expired JPS5952507B2 (ja) | 1982-10-26 | 1983-10-25 | 灯台管用補正フイルタ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4634224A (ja) |
| EP (1) | EP0107181B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5952507B2 (ja) |
| CA (1) | CA1239438A (ja) |
| DE (2) | DE3239559A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6376202A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-06 | 株式会社アイ・ライテイング・システム | 投光器 |
| JPS6446909U (ja) * | 1987-09-17 | 1989-03-23 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2999034A (en) * | 1960-10-21 | 1961-09-05 | Wenczler & Heidenhain | Method of manufacture of line plates, scales, and the like |
| US4004851A (en) * | 1965-08-24 | 1977-01-25 | Hirokazu Negishi | Optical device with means for reducing internal reflections |
| US3463574A (en) * | 1967-06-26 | 1969-08-26 | Perkin Elmer Corp | Multilayer antireflection coating for low index materials |
| US3528725A (en) * | 1967-08-30 | 1970-09-15 | Libbey Owens Ford Glass Co | Color temperature correction light transmitting filter |
| JPS53135348A (en) * | 1977-04-30 | 1978-11-25 | Toshiba Corp | Etching method for multilayer film |
| US4157215A (en) * | 1978-04-24 | 1979-06-05 | Rca Corporation | Photodeposition of CRT screen structures using cermet IC filter |
| DE3027704C2 (de) * | 1980-07-22 | 1984-03-22 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines Korrekturfilters für die Belichtung der Leuchtschirme von Farbbildröhren |
-
1982
- 1982-10-26 DE DE19823239559 patent/DE3239559A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-10-20 EP EP83110460A patent/EP0107181B1/de not_active Expired
- 1983-10-20 DE DE8383110460T patent/DE3380045D1/de not_active Expired
- 1983-10-24 US US06/544,827 patent/US4634224A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-10-25 CA CA000439630A patent/CA1239438A/en not_active Expired
- 1983-10-25 JP JP58198405A patent/JPS5952507B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6376202A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-06 | 株式会社アイ・ライテイング・システム | 投光器 |
| JPS6446909U (ja) * | 1987-09-17 | 1989-03-23 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1239438A (en) | 1988-07-19 |
| DE3239559A1 (de) | 1984-04-26 |
| US4634224A (en) | 1987-01-06 |
| DE3380045D1 (en) | 1989-07-13 |
| EP0107181B1 (de) | 1989-06-07 |
| EP0107181A3 (en) | 1987-05-06 |
| JPS5994327A (ja) | 1984-05-31 |
| EP0107181A2 (de) | 1984-05-02 |
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