JPS5953087B2 - 有機溶剤含有ガスの浄化装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機溶剤含有ガスの浄化装置に関し、詳述すれ
ば、有機溶剤含有ガスを、活性炭充填層を介して貫流さ
せることにより浄化するための装置に関する。

有機溶剤含有ガス（以後、「排ガス」と略称する。

）を浄化するためのものであって、活性炭を使用する装
置として、吸着装置内において固定された活性炭の充填
層を排ガスが流通する固定床式と、排ガスにより活性炭
粒子が流動した状態の活性炭流動膨張層を流通する流動
床式のものがある。

固定床式排ガス浄化装置においては、排ガスは活性炭の
粒子間の緻密な間隙を流れるから、比較的低濃度の溶剤
を含む排ガスでも高い吸着除去効率を示す。

勿論、高濃度排ガスにおいても高い吸着除去効率を示し
、従来有機溶剤の回収には専ら固定床式が採用されてい
る。

しかし、固定床式であるが為に、溶剤の吸着に伴なって
、排ガス入口に近い活性炭より順次吸着飽和に達し、ガ
ス流れ方向に一定の吸着量分布（吸着帯と呼ぶ）が形成
され、吸着帯が活性炭層出口に達した時に破過がおこる
。

従って、所要の破過濃度以上に達した時点で、吸着飽和
に達していない部分も含めて全量の活性炭を取替えるか
、再生する必要がある。

他方、流動床式排ガス装置においては、活性炭層は、排
ガスの流れにより流動させられるので、活性炭の粒子間
の空隙が多くなり、圧損失は固定床式の場合より小さい
が、ガスと活性炭の接触が十分でなく、従って十分な吸
着除去効率が期待出来ない。

更に、活性炭粒子は混合されるので、固定床式の場合の
如きの吸着量分布が形成されず、これも除去効率が上ら
ない要因になる。

従って、これを補う意味で、活性炭の粒径を細くし、か
つ、流動床を多段に構成し、各段毎に吸着分布をつけて
使用するのが通例である。

なお、多段流動床の場合、各段の活性炭は溢流により一
部ずつ排ガスと向流に移動し、吸着量の多い活性炭が排
出されるので、吸着処理の連続処理には適している。

このように、固定床式排ガス処理装置においては、吸着
材の性能の利用率が低く、装置が大規模になり、再生に
おいても脱離ガス量が多くなり、不経済で、流動床式の
場合は吸着除去効率が低く、更に均一な流動条件が得に
くく、活性炭の摩耗が著しいなどの欠点を有する。

従って、本発明は前述の諸欠点を除去するためになされ
たものであって、中空基に上方より供給され、下方より
排出される活性炭が重力の作用により下方へ隔壁状をな
してほぼ連続的又は間歇的に移動する間に、中空基に下
方より導入された処理すべき排ガスが上方へ流れるに従
い、隔壁状をなす活性炭をジグザグ状に貫流することに
より、排ガスに含まれる溶剤を活性炭に吸着させる一方
浄化された空気を中空基の上方より排気するように構成
された排ガス浄化装置を供するのを主目的゛とするもの
である。

本発明によれば、中空基の下方より排出された活性炭は
、人口ガス濃度に平衡な吸着量（吸着飽和）に達してお
り、活性炭の吸着性能が有効に利用されている。

これらの使用済活性炭は、適宜の再生方法により、脱離
再生された後、活性炭供給口へ循環し再使用される。

尚、中空基の活性炭排出口から供給口に至る循環路に活
性炭再生装置を設けることも出来、排ガス浄化装置と活
性炭再生装置とを一基の中空基に設けることも出来る。

いづれにしても、本発明による装置は、塗装ブース、コ
ーテイング機、印刷機用ドライヤー、樹脂成型機、ドラ
イクリーニング、金属洗滌など有機溶剤を使用し、そこ
から揮散される排ガス、或いは、従来の排ガス浄化装置
において未回収で大気に放出されていた排ガスの最終処
理に適しているものである。

以下、本発明の実施態様を添付図面を参照しながら詳述
する。

第１図は、本発明の一実施例による排ガス浄化装置の縦
断面図であって、供給ゾーンＡ、吸着ゾーンＢ及び排出
ゾーンＣを有する中空基１０が図示されている。

塔１０は、如何なる形状の断面を有するものでも良いが
、円形断面のものが好ましい。

塔１０の内部には、供給ゾーンＡと吸着ゾーンＢ及び吸
着ゾーンＢと排出ゾーンＣとを夫々仕切るために仕切板
１１と１２とが塔１０の上端近傍及び下端近傍に設けら
れている。

吸着ゾーンＢは仕切板１１，１２と塔１０の内壁とによ
り形成されていて、その内部には、互いに直径の異った
内外金網筒１３と１４とが収納されている。

これらの内外金網筒１３，１４は放射方向に等距離へだ
てて配置されて、両筒１３，１４の間に環状の活性炭移
動室１５を形成する一方、仕切板１１゜１２との間を塔
１０に対して同心的に延在している。

活性炭移動室１５の環状上端及び環状下端は夫々仕切板
１１，１２を介して供給ゾーンＡと排出ゾーンＣに連通
しているが、そのためには、各仕切板１１．１２を外金
網筒１４の直径に対応する開口を有する環状板と内金網
筒１３の直径に対応する円盤とで構成しても良い。

外金網筒１４と塔１０の内壁との間に形成されている環
状空間は、図示の実施例においては、二枚の環状隔壁１
６と１７により圧室１８，１９゜２０に分割されており
、上室１８は塔１０の壁に設けた排気口２１を介して大
気に連通され、王室２０は同様に塔１０の壁に設けた導
入口２２を介して排ガス源（図示せず）に連通している
。

尚、排ガスが高温とか、粉じん類を含有し、そのまま本
発明による装置で処理するのが望ましくない場合は、排
ガス源と導入口２２との間に、冷却又は除しんなとの前
処理装置２３を設けることも出来る。

内金網筒１３の内部は円盤隔離壁２５により上下王室２
６と２７に分割されている。

隔壁２５を設ける位置は、環状隔壁１６と１７が位置す
る夫々の平面の間でなければならない。

この隔壁２５は、導入口２２から下室２０を介して金網
筒１３の内部へ流入した排ガスが中室１９へ流入するこ
となく上方へ流入し、上室１８を介して排気口２１から
流出するのを防ぐためのものである。

換言すれば、隔壁２５は、環状隔壁１６と１７と協働し
て、導入口２２より導入された排ガスが、下室２０から
順次下室２７、中室１９、上室２６を経て上室１８へと
、移動室１５に充填された活性炭層を貫流して排気口２
１へ至るガス通路を形成し、この間、活性炭層を排気ガ
スが四回貫流し、四段吸着処理としての機能を果してい
る。

尚、内金網筒１３と隔壁２５の周縁との接合個所の両側
、及び外金網筒１４と環状隔壁１６，１７の各内周縁と
の接合個所の両側に、夫り連撃部２６ａ及び１６ａ、１
７ａを設ければ、導入された排ガスが下室２０から上室
２６へ、中室１９から上室１８へと、活性炭と十分な接
触を保たずにショートパスするのを防ぐことが出来る。

各連撃部２６ａ、１６ａ、１７ａは、対応する金網筒１
３．１４に所定巾の環状の非孔部を設けて形成するか、
又は、所定巾の非孔性板材を巻回させることによって形
成しても良いが、この巾は、内外金網筒１３と１４の内
間隙、即ち、活性炭層の厚さの０．５〜２倍とするのが
好ましい。

供給ゾーンＡには、例えばホッパーを含む供給装置２８
から仕切板１１の上方へ供給された活性炭を均一に移動
室１５へ分配するために、モータＭ１により駆動される
スクレーパー２９が収納されている。

このスクレーパー２９は、排出ゾーンＣに収納されてい
る後述の排出機構と同一構成でも良いが、図示の実施例
では、モータＭ１と連結されたシャフト３０から放射方
向に延在する複数の掻き落し板よりなるものとして示し
である。

排出ゾーンＣには、第２図にその詳細を示す排出機構が
設けられている。

排出機構は、シャフト３１の上端に係止され、移動室１
５の下端に対応する個所に少くとも一個の貫通孔３２ａ
を有する第一シャッター円盤３２と、貫通孔３２ａの回
転軌道の直下に複数個の案内孔３３ａが形成された案内
盤３３と、その案内盤３３の直下においてシャフト３１
に係止されているとともに、回転に伴いいづれの案内孔
３３ａとも連通する貫通孔３４ａを少くとも一個有する
第二シャッター円盤３４とで構成されている。

シャフト３１の下端は、例えば図示の如くウオームギヤ
などの適当な動力伝達機構を介してモータＭ２に連結し
ても良いし、また、減速機付きモータを排出ゾーンＣの
内部に設置して、そのモータに直結しても良い。

第一、第二シャッター円盤３２．３４はシャフト３１と
共に回転するが、案内盤３３は塔１０の壁に固定されて
いる。

円盤３２と３４をシャフト３１に係止するに当り、貫通
孔３２ａと３４ａとはシャフト３１の軸心に対し互いに
偏位されているのが望ましい。

排出機構の下方には、塔１０の外へ使用済みの活性炭を
取り出すためのベルトコンベヤーの如きの搬出手段３５
が設けられている。

この搬出手段３５を駆動するためには、そのためのモー
タを用いても良いが、モータＭ２を共用することも出来
る。

更に、シャフト３０とシャフト３１とを一本のシャフト
で構成することも可能であり、この場合モータＭ１が不
必要となる。

前述の構成よりなる排ガス浄化装置において、導入口２
２を介して加圧されて下室２０に流入した、有機溶剤を
含有するガス体は移動室１５に収容されている活性炭を
貫通して王室２７に入り、下室２７からは再び活性炭を
貫通して中室１９へ中室１９から圧変活性炭を貫通して
上室２６へ流入する。

このように上室２６へ流入したガス体は、回度活性炭を
貫流して上室１８を介して清浄空気として排気口１８か
ら大気へ放出される。

このように、即ち、第１図において矢印で示すように排
ガスが上方へジグザグ状に幾度も活性炭移動室１５を貫
流している間に、排ガス体に含まれる有機溶剤は活性炭
に吸着される。

その時、移動室１５内の活性炭は排出機構により、間歇
的又はほぼ連続的に移動室１５より排出される一方、供
給装置２８から新鮮な活性炭が移動室１５へ供給される
。

詳述すれば、中盤３２がシャフト３１により回転されて
いると、案内盤３３の各孔３３ａに活性炭が所定量ごと
充填される。

ところが、円盤３４も円盤３２と同時に回転しているか
ら、案内盤３３の案内孔３３ａに充填された活性炭は、
円盤３４の貫通孔３４ａがその案内孔３３Ｈの直下へ来
る都度、搬出手段２５へと落下される。

このように搬出手段へ落下した活性炭は塔１０の外方へ
排出される。

ところで、円盤３２と３４を貫通孔３２ａと３４ａとが
案内板３３のいづれかの案内孔３３ａを介して一致した
状態でシャフト３１に係止させること、又は円盤３４と
案内盤３３とを省略することも可能ではあるが、この場
合モータＭ２に大きな負荷がかかるので望ましくない。

更に、排出機構を用いなくとも、仕切板１３の移動室１
５の環状下端と連通する開口を調節することによっても
、移動室１５内の活性炭を排出することも出来るが、こ
の場合、移動室１５内の活性炭が下方へ均等に沈降しな
くなるので望ましくない。

つまり、排出機構を用いたのは、移動室１５内の活性炭
を下方へ均等に沈降させるためであって、それも下記の
理由による。

即ち、活性炭が移動室１５内で静止していると、導入口
２２と連通する下室２０に位置している活性炭の部分が
他の部分よりも早く飽和状態になる。

ところが、活性炭を移動室内で上方より下方へと移動さ
せた場合、下降するにつれて溶剤の吸着量が増大するか
ら、図示の排出機構を用いない場合は、均等に沈降しな
いので活性炭の同じ部分でもすでに飽和状態になった部
分とそうでない部分が生じる。

従って、図示の排出機構を設けることにより、活性炭の
吸着特性にムラが生ずるのを防ぐことが出来る。

尚、活性炭の沈降速度は、円盤３２．３４の回転速度ば
かりではなく、貫通孔３２ａと３４ａのいづれか一方又
は両方の数を増減することによって調節出来る。

尚、塔１０の内部を強制冷却すれば、吸着効率を向上さ
せることが出来る。

そのために図示の装置においては、外金網筒１４と塔１
０の内壁との間であって、吸着ゾーンＢ内に、冷媒用配
管３６が螺旋状に馬券されている。

第１図の実施例においては、使用済み活性炭を排出する
傍ら、新鮮な活性炭を排出量に見合う量だけ連続的又は
間歇的に供給する必要がある。

排出機構によりコンベヤー３５を経て排出された活性炭
を再生して、再び供給装置２８に戻すことも考えられる
が、この場合の一例を第３図に示しである。

第３図において、図面の左側に示されているのは第１図
に示す排ガス浄化装置であって、右側に示されているの
は活性炭再生ユニットである。

再生ユニットは供給ゾーンＦ、脱離ゾーンＧ及び排出ゾ
ーンＨを有する、例えば耐熱レンガの如きの耐熱材で構
成された中空塔４０よりなる。

塔４０の内部には、供給ゾーンＦと脱離ゾーンＧ及び脱
離ゾーンＧと排出ゾーンＨとを夫々仕切るための仕切板
４１と４２とが塔４０の上端近傍及び下端近傍に設けら
れている。

活性炭再生ユニットの塔４０の構造は、第１図及び第３
図の左側に示した浄化装置の塔１０と、冷媒配管３６の
代りに、熱媒配管又は電熱ヒータの如きの加熱装置Ｋを
脱離ゾーンＧの設けられている以外は類似しているので
、塔４０の詳細な構造の説明は省略する。

ただ、作用的に説明すれば、浄化装置のコンベヤー３５
から排出された活性炭は、微粉活性炭と選別された後、
或いは選別されることなく、スクリューコンベヤー又は
パケットコンベヤーの如きの搬送手段Ｔ１により、供給
ゾーンＦへ直接、或いはホッパー４３を介して供給され
る。

供給ゾーンＦに供給された活性炭は、モータＭ３により
駆動されるスクレーパー４４により、脱離ゾーンＧの内
部において、内外金網筒４５と４６との間に形成された
活性炭移動室４７に均一に分配され、かつ、モータＭ２
の駆動による第一、第二シャッター円盤４８と４９の回
転により案内盤５０を介して再生された活性炭が排出さ
れるに従って、移動室４７内を下方へ沈降する。

脱離ゾーンＧにおける、外金網筒４６と塔４０の内壁と
の間の空間は少くとも三枚の環状隔壁板５１．５２と５
３が設けられているので、第−乃至第四室５４，５５，
５６及び５７と分割されている。

第−室５４と第四室５７とは配管５８により加熱不活性
ガス源（図示せず）に連通していて、移動室４７内の活
性炭の予熱、乾燥を行うとともに、それに伴って生ずる
水蒸気や、凝縮性脱離ガスや、後述のように脱離遊離し
た溶剤蒸気が供給ゾーンＦと排出ゾーンＨとに漏出する
のを防ぐために、加熱不活性ガスを前記第一と第四室５
４と５７に導入されている。

他方、第二室５５は、炭酸ガス、窒素ガスなどの高温不
活性ガスと加熱水蒸気の単独又は混合気の供給源（図示
せず）に、管５９に連通しており、第三室は管６０を介
して溶剤処理所（図示せず）に連通している。

尚、少くとも脱離ゾーンＧの内部は、活性炭を再生する
目的からして、１００℃ないし３００℃に維持する必要
があり、この目的のために、加熱装置Ｋから発生する熱
エネルギー、管５８から導入される不活性ガス及び管５
９から導入される不活性ガスの熱エネルギーを適宜調節
しても良い。

加熱装置にだけ、又は、管５８と５９のいづれか一方又
は両方から導入される不活性ガスだけにより、前記温度
範囲に維持出来るようにしても良い。

要するに、脱離ゾーンＧが高温雰囲気にあって、管５９
から導入される高温不活性ガスと高温水蒸気の単独もし
くは混合気は内外金網筒４５と４６との間に形成された
移動室４７を沈降する活性炭を貫流するので、活性炭に
吸着されている溶剤が活性炭より脱離される。

脱離された溶剤は活性炭から揮散された状態で、管５８
から導入された不活性ガスと共に管５９からのガスに乗
じて、第三室５６、そして管６０を介して溶剤処理所へ
送られる。

溶剤処理所は、溶剤を回収するのを目的とするのであれ
ば、公知の凝縮器で構成しても良い。

この場合、溶剤蒸気を含む管６０からの排ガスは凝縮器
を通るに従い、溶剤が液化されて回収し得る。

他方、溶剤回収を目的としないのであれば、溶剤処理所
は、燃焼器または触媒燃焼器で構成して、焼却すること
も出来る。

このように再生された活性炭は、浄化装置において移動
室１５内の活性炭が排出機構によりコンベヤー３５に落
されるのと同様の態様で、排出ゾーンＨから塔４０の外
部へ延在するベルトコンベヤー６１へと移動室４７から
落される。

このようにコンベヤー６１から排出された活性炭は、公
知の揺動式篩別機６２を経て、搬送手段Ｔ１と類似の搬
送手段Ｔ２により、浄化装置の供給装置２８へ戻される
。

尚、第３図の実施例においては、浄化装置と再生ユニッ
トとが別々に配置されているものとして説明したが、両
者を一体化することも可能であり、その実施例を第４図
と第５図とに夫々示しである。

先ず第４図において、浄化装置と再生ユニットとを一体
化した装置は、供給ゾーンＷ、吸着ゾーンＸ、脱離ゾー
ンＹ及び排出ゾーンＺを有する中空基６５よりなり、供
給ゾーンＷと吸着ゾーンＸとを有する塔６５の上部分と
、脱離ゾーンＹと排出ゾーンＺとを有する塔６５の下部
分とは、非通気性の、例えば耐火レンガの如きの耐熱隔
壁６６で分割されている。

塔６５の上部分と下部分とは、その下部分に使われてい
るのと同一断熱材で構成するのが好都合ではあるが、必
ずしもそれに限定されるものではない。

このように第３図に示す塔１０と４０とを一体化して中
空基６５とした場合、図面かられかるように、塔１０内
の仕切板１２とその直下のコンベヤー３５を含む排出機
構及び塔４０内の供給ゾーンＦに設けられている部品が
不必要となるのは明らかである。

更に、第４図の実施例において、第３図に示す移動室１
５を形成する内外金網筒１３と１４及び移動室４７を形
成する内外金網筒４５と４６とを隔壁６６において接続
することも可能であるが、図示されている限りにおいて
は、吸着ゾーンＸから脱離ゾーンＹに隔壁６６を貫通し
て連続した活性活移動室６７を形成するために、同様に
両ゾーンＸとＹを延在する内外金網筒６８と６９が用い
られている。

尚、供給ゾーンＷの構成部品、吸着ゾーンＸのその他の
構成部品、脱離ゾーンＹのその他の構成部品及び排出ゾ
ーンＺの構成部品として、第３図に示したものが用いら
れているので、第３図に示したのと対応する部品に対し
ては、第３図で用いた同一図番にプライム（′）を付し
たものを第４図において用いて示しておく。

第４図に示す装置においては、機能的には第３図に示す
装置と同様ではあるが、吸着ゾーンＸで使われた活性炭
が、移動室６７内を脱離ゾーンＹへと連続して供給され
ること、装置の設置スペースが最少限にとどめられるこ
と、装置の製造コストが安いことなどの利点がある。

尚、第４図の装置において、脱離ゾーンＹにおける移動
室６７の部分を沈降する活性炭に吸着されている溶剤を
活性炭から脱離させるのに必要なガス体として加熱水蒸
気を導管５９′から脱離ゾーンＹに導入する場合は、第
５図に示すように変形を施せば、第３図ないし第４図に
示す装置において、導管５８ないし５８′から導入され
る不活性ガスとの混合を実質上防ぐか、又は最少限にす
ることが出来る。

即ち、第５図において、脱離ゾーンＹにおける内金網筒
６８の内部を少くとも二枚の円形隔壁７０と７１とで仕
切って上、中、下の三部室７２，７３と７４を形成する
。

この際、隔壁７０と７１の位置は、夫々の平面が、環状
隔壁５１′ と５３′の夫々の平面と同一レベルにあ
るようにするのが望ましい。

更に、上部室７２と下部室７４とは、管７５を介して連
通されている一方、第四室５７′ は塔６５に設けた導
入管７６を介して不活性ガス源（図示せず）に連通せし
めるとともに、第−室５４′ を塔６５に設けた排気
管７７を介して大気に連通させる。

このように構成すれば、導管５９′から導入された水蒸
気は実線矢印で示されるように活性炭を貫流して、吸着
されている溶剤を脱離させたのち、溶剤蒸気とともに導
管６０′から排出される一方、導入管７６から導入され
た不活性ガスは、一点鎖線矢印で示すように、第四室５
７′ から下室７４へと活性炭を貫流し、更に管７５を
介して上室７２へと流れ、かくて上室７２から第−室５
４′へと活性炭を貫流した後排気管７７から大気へ放出
される。

不活性ガスがこのように第四室５７′から下室７４、上
室７２から第−室５４へと流れている時は、第二室５５
′から第三室５６′へと中室７３を介して流れている水
蒸気が吸着ゾーンＸと排出ゾーンＺに漏出するのを防い
でいるのである。

第５図に示した脱離ゾーンＹの構成は、第３図における
再生ユニットにも適用し得るのは言うまでもない。

尚、排気管７７を介して排出される不活性ガスには、若
干の溶剤蒸気を含んでいるので、所望によっては、導管
６０′ に接続されている溶剤処理器とは別個の溶剤処
理器に接続するのが望ましい。

更に、第１図、第３図、第４図及び第５図に示した各実
施例における吸着ゾーンＢ又はＸ内の外金網筒１４又は
６９と塔１０又は６５の内壁との間に形成された空所を
仕切る環状隔壁の数は、図示のように二枚に限定される
ことなく、少くとも一枚あれば充分であり、この場合、
上室２６又は２６′ と下室２７又は２７′ とに
分割している円盤隔壁２５又は２５′ は不要である。

本発明に使用される活性炭は、平均粒径が０．５ないし
１０ミリのほぼ球状又は円柱状成型活性炭、或いは、ヤ
シ殻などの硬度の大きい破砕状の粒状活性炭が望ましい
。

更に、内外金網筒１３と１４又は６８と６９の間隔は５
ｃｍないし５０ｃｍが望ましい。

排ガスの吸着ゾーンＢ又はＸへの流速は、塔内に活性炭
が装入されていない時の線流速が一秒当’） ６０ｃｍ
以下であって、活性炭が装入されている導入口から出口
までの活性炭層内のガス帯留時間は０．２ないし２秒の
範囲に設定するのが望ましい。

更に、第４図乃至第５図に示した本発明による装置を複
数基直列接続して多段化することも可能であり、このよ
うにすれば、例えば二段の場合、前段で被吸着性の大き
い溶剤を活性炭に吸着させる一方、被吸着性の小さい溶
剤を後段における活性炭に吸着させるようにする。

構造的には、前段の装置の排気口２１′ を後段の排ガ
ス導入口２２′ に接続すると良い。

加つるに、前段と後段の装置に使用する活性炭は、同一
のものでも良いが、好ましくは、前段の装置に用いる活
性炭は、その活性炭固有のミクロ孔の、下記式で表わさ
れる平均孔径Ｄｐが１８人よりも大きいもの、後段の装
置に用いる活性炭は、その活性炭固有のミクロ孔の、下
記式で表わされる平均孔径Ｄｐが１８人より小さいもの
を使用するのが望ましい。

上記式において、Ｄｐは直径３００Å以下のミクロ孔の
平均孔径（入）、■は直径３００Å以下のミクロ孔の容
積（ｃｃ／ｇ ）、Ｓは表面積（ｍ□／ｇ ）である。

このように多段化すれば、前段の装置で除去されずに排
気された、被吸着性の小さい溶剤も後段の装置で除去さ
れるとともに、異った成分の溶剤が別々に回収されるの
は明らかである。

以上の本発明の説明より、従来の固定床式又は流動床式
排ガス浄化装置に比べて、活性炭がほぼ連続又は間歇的
に入れ替るので、ガス除去効率が優れており、経済的か
つ容易に操作し得るなどの利点がある。

更に、多段化した場合は、混合溶剤を含有する排ガスで
も容易に処理し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に基本的な排ガス浄化装置の概略縦断
面図、第２図は、本発明の装置における排出機構の概略
分解斜視図、第３図は、第１図の装置を活性炭再生ユニ
ットと連結して示す概略縦断面図、第４図は、排ガス浄
化装置と活性炭再生ユニットとを一体化した装置の概略
縦断面図、第５図は第４図の変形例を示す概略縦断面図
である。 １０．６５・・・・・・中空基、１５，４７，６８・・
・・・・活性炭移動室、１６． １７． ５１． ５２
． ５３・・・・・・隔壁、２１・・・・・・浄化装置
の排気口、２２・・・・・・浄化装置の導入口、５８・
・・・・・再生ユニットの導入口、５９・・・・・・再
生ユニットの導入管、６０・・・・・・再生ユニットの
排気口、Ａ、 Ｆ、 Ｗ・・・・・・供給ゾーン、Ｂ
、 Ｘ・・・・・・吸着ゾーン、Ｃ，Ｈ，Ｚ・・・・・
・排出ゾーン、Ｇ、 Ｙ・・・・・・脱離ゾーン。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 有機溶剤を含有するガス体を浄化するものであって
   、上方より順に供給ゾーン、吸着ゾーン及び’ＩＩＩＥ
   出ゾーンとを有し、かつ、吸着ゾーンに連通するガス導
   入口とガス排気口とを有する円筒形の中空塔と、吸着ゾ
   ーンの内部において互いに隔離された円筒形の第−及び
   第二金網部材とで形成されて一端が供給ゾーンに、他端
   が排出ゾーンに開口し、かつ、供給ゾーンから排出ゾー
   ンへと吸着材が移動し得る吸着材移動室と、供給ゾーン
   に設けられて供給ゾーンに供給された吸着材を吸着材移
   動室の前記一端開口を介してその吸着材移動室に均一に
   分配する手段と、吸着材が供給ゾーンより排出ゾーンへ
   吸着材移動室を順次移動している時に、ガス導入口から
   導入されたガス体が少なくとも皿回以上吸着材移動室を
   貫流した後、ガス排気口に至るまでのガス通路を形成す
   る手段と、排出ゾーンに設けられて、供給ゾーンに新た
   に供給される吸着材の供給量に応じて、吸着材移動室の
   前記他端開口より、ガス体吸着材移動室を貫流している
   時に、そのガス体に含まれる有機溶剤を吸着した吸着材
   を順次排出されるための手段とを備え、さらに、前記ガ
   ス通路形成手段を、中空塔の内壁面と、第一および第二
   金網部材のうちいづれか中空塔の前記内壁面およびガス
   導入口とガス排気口に近接する金網部材との間に設けた
   隔壁部材とで構成する傍ら、前記金網部材と隔壁部材と
   の擦合面に沿って、吸着材層の厚みの０．５〜２．０倍
   の幅を有する連撃手段を前記金網部材に設ける一方、前
   記吸着材排出手段を、一端が回転駆動源に連結されたシ
   ャフトと、環形状である吸着材移動室の前記他端開口の
   形状に対応する個所に貫通孔が形成され、シャフトの他
   端に係止された第一シャッター円盤と、第一シャッター
   円盤と同様に貫通孔が形成されてシャフトに係止された
   第二シャッター円盤と、第−及び第二シャッター円盤と
   の間において中空塔に係止され、第−及び第二シャッタ
   ー円盤の貫通孔の回転軌道と同心的かつ対応する個所に
   案内孔が設けられた案内盤とよりなり、第−及び゛第二
   シャッター円盤が回転している時に、第一シャッター円
   盤の貫通孔を介して案内盤のいくつかの案内孔に順次落
   下して充填された吸着材が、第二シャッター円盤の貫通
   孔がその案内孔と一致する都度、順次排出されるように
   構成したことよりなるのを特徴とする有機溶剤含有ガス
   の浄化装置。 ２、特許請求の範囲第１項に記載の装置において、吸着
   材排出手段により排出された吸着材は、吸着材再生装置
   を介して、再び供給ゾーンへ循環されるように構成した
   ことを特徴とする有機溶剤含有ガスの浄化装置。 ３ 有機溶剤を含有するガス体を浄化するものであって
   、上方より順に供給ゾーン、吸着ゾーン、脱離ゾーン及
   び排出ゾーンとを有し、壁に吸着ゾ−ンに連通する第一
   導入口と第一排気口と、脱離ゾーンに連通ずる第二導入
   口と第二排気口とを有する円筒形の中空塔と、吸着ゾー
   ンと脱離ゾーンとの内部において、両者間を延在する互
   いに隔離された円筒形の第−及び第二金網部材とで形成
   され、一端が供給ゾーンに、他端が排出ゾーンに開口し
   、かつ、供給ゾーンから排出ゾーンへと吸着材が移動し
   得る吸着材移動室と、供給ゾーンに設けられ、供給ゾー
   ンに供給された吸着材を吸着材移動室の前記一端開口を
   介してその吸着材移動室に均一に分配する手段と、吸着
   材が供給ゾーンより排出ゾーンへ吸着材移動室を順次移
   動している時に、第一導入口から導入された有機溶剤を
   含有するガス体が吸着ゾーンにおいて少なくとも皿回以
   上吸着材移動室を貫流した後、第一排気口に至るまでの
   第一ガス通路を形成する手段と、脱離ガス源と、第二導
   入口から導入された脱離ガス源からの脱離ガスが脱離ゾ
   ーンにおいて少なくとも皿回以上、吸着ゾーンでガス体
   に含まれる有機溶剤を吸着した後、吸着材移動室に沿っ
   て脱離ゾーンへ移動した吸着材を含む吸着材移動室を貫
   流した後、第二排気口に至るまでの第二ガス通路を形成
   する手段と、排出ゾーンに設けられて、供給ゾーンに新
   たに供給される吸着材の供給量に応じて、吸着材移動室
   の前記他端開口より、脱離ガスが脱離ゾーンにおいて吸
   着材移動室を貫流している間に吸着材より吸着されてい
   る溶剤を離脱させて再生した吸着材を順次排出するため
   の手段と、吸着材の再生を促進するために脱離ゾーンを
   高温に維持するための手段と、吸着材排出手段により排
   出された再生吸着材を再び供給ゾーンへ循環させる手段
   とを備え、さらに、前記ガス通路形成手段を、中空塔の
   内壁面と、第一および第二金網部材のうちいづれか中空
   塔の前記内壁面およびガス導入口とガス排気口に近接す
   る金網部材との間に設けた隔壁部材とで構成する傍ら、
   前記金網部材と隔壁部材との擦合面に沿って、吸着材層
   の厚みの０．５〜２．０倍の幅を有する連撃手段を前記
   金網部材に設ける一方、前記吸着材排出手段を、一端が
   回転駆動源に連結されたシャフトと、環形状である吸着
   材移動室の前記他端開口の形状に対応する個所に貫通孔
   が形成され、シャフトの他端に係止された第一シャッタ
   ー円盤と、第一シャッター円盤と同様に貫通孔が形成さ
   れてシャフトに係止された第二シャッター円盤と、第−
   及び第二シャッター円盤との間において中空塔に係止さ
   れ、第−及び第二シャッター円盤の貫通孔の回転軌道と
   同心的かつ対応する個所に案内孔が設けられた案内盤と
   よりなり、第−及び第二シャッター円盤が回転している
   時に、第一シャッター円盤の貫通孔を介して案内盤のい
   くつかの案内孔に順次落下して充填された吸着材が、第
   二シャッター円盤の貫通孔がその案内孔と一致する都度
   、順次排出されるように構成したことよりなるのを特徴
   とする有機溶剤含有ガスの浄化装置。 ４ 特許請求の範囲第３項に記載の装置において、第二
   導入口より導入され、第二排気口より排出される脱離ガ
   スが、吸着材移動室を介して吸着ゾーンと排出ゾーンへ
   漏出するのを防ぐために、不活性ガスカーテンを吸着ゾ
   ーンと脱離ゾーンとの境に対応する個所及び脱離ゾーン
   と排出ゾーンとの境に対応する個所において、吸着材移
   動室に形成する手段が更に設けられていることを特徴と
   する有機溶剤含有ガスの浄化装置。 ５ 特許請求の範囲第４項に記載の装置において、ガス
   カーテン形成手段は、脱離ゾーンと連通する中空塔の壁
   に設け、かつ、共通の不活性ガス源に連通する第二及び
   第三導入口と、第三及び第四導入口より導入された不活
   性ガスを、吸着ゾーンと脱離ゾーンとの境に対応する個
   所及び脱離ゾーンと排出ゾーンとの境に対応する個所に
   おいて吸着材移動室を貫流すべく指向させる手段よりな
   り、第三及び第四導入口より導入されてガスカーテンを
   形成した不活性ガスは第二排気口より脱離ガスと共に排
   気されることを特徴とする有機溶剤含有ガスの浄化装置
   。 ６ 特許請求の範囲第４項に記載の装置において、不活
   性ガスカーテン形成手段は、脱離ゾーンと連通する一方
   、不活性ガス源とも連通する、中空塔の壁において脱離
   ゾーンと排出ゾーンとの境近傍に設けた第五導入口と、
   中空塔の壁において脱離ゾーンと排出ゾーンとの境近傍
   に設けた第三排気口と、脱離ゾーンと排出ゾーンとの境
   に対応する吸着材移動室を第五導入口から導入された不
   活性ガスが貫流した後、脱離ゾーンと吸着ゾーンとの境
   に対応する吸着材移動室を再び貫流して第三排気口に至
   る第二ガス通路を形成する手段より構成されているとと
   もに、脱離ガス体は水蒸気であることを特徴とする有機
   溶剤含有ガスの浄化装置。 ７ 特許請求の範囲第３項から第５項のいづれかに記載
   の装置において、第二排気口を溶剤回収器に連結したこ
   とを特徴とする有機溶剤含有ガスの浄化装置。 ８ 特許請求の範囲第３項から第７項のいずれかに記載
   の装置を少なくとも二基、一方の装置の第一排気口を他
   方の装置第一導入口に接続することにより、直列多段化
   したことを特徴とする有機溶剤含有ガスの浄化装置。