JPS5953258B2 - 4−ニトロ−n−メチルフタルイミドの製法 - Google Patents
4−ニトロ−n−メチルフタルイミドの製法Info
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- JPS5953258B2 JPS5953258B2 JP50082833A JP8283375A JPS5953258B2 JP S5953258 B2 JPS5953258 B2 JP S5953258B2 JP 50082833 A JP50082833 A JP 50082833A JP 8283375 A JP8283375 A JP 8283375A JP S5953258 B2 JPS5953258 B2 JP S5953258B2
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- methylphthalimide
- nitrification
- nitro
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C201/00—Preparation of esters of nitric or nitrous acid or of compounds containing nitro or nitroso groups bound to a carbon skeleton
- C07C201/06—Preparation of nitro compounds
- C07C201/08—Preparation of nitro compounds by substitution of hydrogen atoms by nitro groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B43/00—Formation or introduction of functional groups containing nitrogen
- C07B43/02—Formation or introduction of functional groups containing nitrogen of nitro or nitroso groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は4−ニトローN −メチルフタルイミドの製造
方法に係わる。
方法に係わる。
芳香族炭化水素を硫酸媒体中で硝酸で処理する際に溶媒
として塩化メチレンを使用することは多くの理由からし
て重要である。
として塩化メチレンを使用することは多くの理由からし
て重要である。
塩化メチレンは硝酸中にあつてはあらゆる濃度に於いて
40℃のその沸点又はそれより幾分高い温度まで完全に
安定であり、又、劣化に耐えあるいは他の生成物への転
化に対し抵抗性を有するのは塩化メチレンのみであつた
。この点は、他のハロゲン化誘導体例えばクロロホルム
及びメチルクロロホルムと比較される。更に、塩化メチ
レン以外の他の上記ハロゲン化誘導体は反応混合物及び
これからの硝化生成物に対し望まれる揮発性及び可溶性
に関した親和性を持たず、所望するニトロ化合物の有効
かつ迅速な取り出しにも確実性を欠くこととなつた。又
、強い酸性環境にあつてその完全性を十分に維持できる
のは塩化メチレン以外にないことがわかつた。多くの場
合に於いて、塩化メチレンを使ラと42℃附近に温度を
限定でき、しカルて、局部的な高温個所や急激な温度上
昇が防げこれによつて芳香族化合物の硝化をモノ又はジ
ニトロ誘導体までに自動的に制限し、よつてトリニトロ
誘導体(これは爆発性の性質を持ちラる)の形成を回避
できる。更に、過剰な硝酸が存在して危険なトリニトロ
誘導体が形成することのないよラ何等かの余分な注意を
払ラことが要求されるといつた必要性も、塩化メチレン
によつて不要となる。塩化メチレンは濃度90%以上の
硝酸には完全に混和ししカルて硝化が遅いときには反応
を促進する。
40℃のその沸点又はそれより幾分高い温度まで完全に
安定であり、又、劣化に耐えあるいは他の生成物への転
化に対し抵抗性を有するのは塩化メチレンのみであつた
。この点は、他のハロゲン化誘導体例えばクロロホルム
及びメチルクロロホルムと比較される。更に、塩化メチ
レン以外の他の上記ハロゲン化誘導体は反応混合物及び
これからの硝化生成物に対し望まれる揮発性及び可溶性
に関した親和性を持たず、所望するニトロ化合物の有効
かつ迅速な取り出しにも確実性を欠くこととなつた。又
、強い酸性環境にあつてその完全性を十分に維持できる
のは塩化メチレン以外にないことがわかつた。多くの場
合に於いて、塩化メチレンを使ラと42℃附近に温度を
限定でき、しカルて、局部的な高温個所や急激な温度上
昇が防げこれによつて芳香族化合物の硝化をモノ又はジ
ニトロ誘導体までに自動的に制限し、よつてトリニトロ
誘導体(これは爆発性の性質を持ちラる)の形成を回避
できる。更に、過剰な硝酸が存在して危険なトリニトロ
誘導体が形成することのないよラ何等かの余分な注意を
払ラことが要求されるといつた必要性も、塩化メチレン
によつて不要となる。塩化メチレンは濃度90%以上の
硝酸には完全に混和ししカルて硝化が遅いときには反応
を促進する。
しかるに、塩化メチレンは濃度80%以下の硝酸とは混
和せずその為反応性の高い化合物が硝化されているとき
には副反応を減少する。硝化生成物には固体のものもあ
つたから、従来は硝化反応の際中に硝化化合物が分離す
るのを回避するうえで困難が伴つた。塩化メチレンを使
用すると、これが硝化化合物に対して良溶媒である(同
様に未硝化生成物に対しても良溶媒である)から、この
やつかいな分離を回避できた。本発明方法によつて硝化
される芳香族化合物は、N−メチルフタルイミドである
。
和せずその為反応性の高い化合物が硝化されているとき
には副反応を減少する。硝化生成物には固体のものもあ
つたから、従来は硝化反応の際中に硝化化合物が分離す
るのを回避するうえで困難が伴つた。塩化メチレンを使
用すると、これが硝化化合物に対して良溶媒である(同
様に未硝化生成物に対しても良溶媒である)から、この
やつかいな分離を回避できた。本発明方法によつて硝化
される芳香族化合物は、N−メチルフタルイミドである
。
硝化工程に溶媒として使用される塩化メチレンの量は臨
界的でない。
界的でない。
しかし、=般には、芳香族化合物各重量部に対し1〜5
0部又はそれ以上の塩化メチレンを使用するのが有利で
あることがわかつた。反応が完了した後には塩化メチレ
ンはまた抽出剤としても使用されるから、溶媒としての
目的に初期に使用される塩化メチレンの量を最小とする
ことができ、その後、余分量の塩化メチレンを抽出工程
に対して加える。一般に、塩化メチレンの最少使用量は
反応温度を大気圧下で約40〜45℃より高くならない
ように抑えるのに十分でなければならない。又、塩化メ
チレンの使用量は芳香族化合物を塩化メチレン中にほぼ
完全に溶解し硝化の完了に達するまで硝化生成物の望ま
しくない分離を回避するに十分でなければならぬ。抽出
目的に塩化メチレンを使用するときKは、重量基準に於
いて、硝化生成物各部に対し、抽出機能の為の追加の塩
化メチレンを約0.5〜8部又はそれ以上使用するのが
有利となることがわかつた。硝化反応を行うあらゆる場
合に於いて、反応物質をより緊密に接触させるため反応
湯合物を撹拌することが必要となり、同程度の撹拌は抽
出目的で塩化メチレンを使用するときにも必要となる。
最初に使う硫酸溶媒は、少なくとも90%の濃度の硫酸
でなければならぬ。これより濃度の低いH,SO,を最
初に使用すると、(硝酸での)硝化反応によつて遊離さ
れた量の水によつて硫酸が望ましくない程に希釈され、
その為に反応混合物中に於ける硝化生成物の溶解度がお
ちて問題が生じるゅ殊K,この水は硝WtKよる反応の
結果LL′C.蝶する。.こ.Q為X.堪化メチレイで
Q抽出工畢に際し分嶋0憚−1卜弊ず,口恐れが多4)
,94硝●り――奄L二す◆本や量七傘少鱗塾し硫酸を
不当に希釈しないよ1約G.9?1Q阜誇―TEL′.
―つ讐?゜j?:↑二;=:÷二:するのに要する化学
量論的量に比較的近くなくてはいけない。
0部又はそれ以上の塩化メチレンを使用するのが有利で
あることがわかつた。反応が完了した後には塩化メチレ
ンはまた抽出剤としても使用されるから、溶媒としての
目的に初期に使用される塩化メチレンの量を最小とする
ことができ、その後、余分量の塩化メチレンを抽出工程
に対して加える。一般に、塩化メチレンの最少使用量は
反応温度を大気圧下で約40〜45℃より高くならない
ように抑えるのに十分でなければならない。又、塩化メ
チレンの使用量は芳香族化合物を塩化メチレン中にほぼ
完全に溶解し硝化の完了に達するまで硝化生成物の望ま
しくない分離を回避するに十分でなければならぬ。抽出
目的に塩化メチレンを使用するときKは、重量基準に於
いて、硝化生成物各部に対し、抽出機能の為の追加の塩
化メチレンを約0.5〜8部又はそれ以上使用するのが
有利となることがわかつた。硝化反応を行うあらゆる場
合に於いて、反応物質をより緊密に接触させるため反応
湯合物を撹拌することが必要となり、同程度の撹拌は抽
出目的で塩化メチレンを使用するときにも必要となる。
最初に使う硫酸溶媒は、少なくとも90%の濃度の硫酸
でなければならぬ。これより濃度の低いH,SO,を最
初に使用すると、(硝酸での)硝化反応によつて遊離さ
れた量の水によつて硫酸が望ましくない程に希釈され、
その為に反応混合物中に於ける硝化生成物の溶解度がお
ちて問題が生じるゅ殊K,この水は硝WtKよる反応の
結果LL′C.蝶する。.こ.Q為X.堪化メチレイで
Q抽出工畢に際し分嶋0憚−1卜弊ず,口恐れが多4)
,94硝●り――奄L二す◆本や量七傘少鱗塾し硫酸を
不当に希釈しないよ1約G.9?1Q阜誇―TEL′.
―つ讐?゜j?:↑二;=:÷二:するのに要する化学
量論的量に比較的近くなくてはいけない。
しかし、上記に指摘したとおり、CH2Cl2溶媒は硝
化度を限定し危険な状態および爆発性組成物失成の恐れ
を回避するからして、実質的な任意過剰量0硝酸も臨界
的な問題とはならない。反応を行う際の一方法は、N−
メチルフタルイミドを塩化メチレンに溶解し、この溶液
を攪拌器及び反応器の加熱冷却手段の備わつた反応器内
に入れる。
化度を限定し危険な状態および爆発性組成物失成の恐れ
を回避するからして、実質的な任意過剰量0硝酸も臨界
的な問題とはならない。反応を行う際の一方法は、N−
メチルフタルイミドを塩化メチレンに溶解し、この溶液
を攪拌器及び反応器の加熱冷却手段の備わつた反応器内
に入れる。
溶液を所望温度(通常は約40〜45℃の還流温度)ま
で加熱した後、濃硝酸及び濃硫酸の混合物を有利には約
15分から約1乃至2時間又はそれ以上にわたる時間に
於いてゆつくりと加える。混合物を約30分〜約2乃至
3時間の時間にわたり還流温度で攪拌した後、混合物を
室温に冷却する。この時点で通常はつきりと分れた二層
が見られる。上の塩化メチレン層を分離し、底部の酸層
を追加の塩化メチレンで抽出し、好ましくはこの抽出を
数回に分けて行う。この抽出物と上部塩化メチレン層と
をシリカゲル(又は他の適当な手段)に通して残留する
酸を除き、塩化メチレンを蒸発して除去することにより
硝化生成物を得る。底部酸溶液を塩化メチレンで連続的
に抽出するには、デイーン・スターク(DeanSta
rk)装置に似ていて反応生成物を導入する抽出塔に攪
拌器の備わつている閉鎖ループ反応器で行うのが有利で
ある。
で加熱した後、濃硝酸及び濃硫酸の混合物を有利には約
15分から約1乃至2時間又はそれ以上にわたる時間に
於いてゆつくりと加える。混合物を約30分〜約2乃至
3時間の時間にわたり還流温度で攪拌した後、混合物を
室温に冷却する。この時点で通常はつきりと分れた二層
が見られる。上の塩化メチレン層を分離し、底部の酸層
を追加の塩化メチレンで抽出し、好ましくはこの抽出を
数回に分けて行う。この抽出物と上部塩化メチレン層と
をシリカゲル(又は他の適当な手段)に通して残留する
酸を除き、塩化メチレンを蒸発して除去することにより
硝化生成物を得る。底部酸溶液を塩化メチレンで連続的
に抽出するには、デイーン・スターク(DeanSta
rk)装置に似ていて反応生成物を導入する抽出塔に攪
拌器の備わつている閉鎖ループ反応器で行うのが有利で
ある。
塩化メチレン(抽出剤)は抽出塔の底部に連続的に導入
される。抽出塔の上端にはアームがあつて、これを通し
て抽出剤と反応生成物(H2SO4から分離されている
)の塔頂あふれ流をヒータの備わつた貯蔵器に運ぶ。こ
のヒータは約室温から100℃の範囲内で動作可能であ
り、このヒータの機能によつて塩化メチレンを蒸発し硝
化芳香族化合物を濃縮する。塩化メチレン蒸気を凝縮し
て重力によつて抽出塔の底部に再循壌を続ける。この時
点では、すべての硝化生成物が貯蔵器内に含まれる塩化
メチレン中にある。唇KnlillLたとおり、硝化反
応に際し塩化メチピンを溶媒として使用することの一つ
の利点は、より低い亀度が使用でき、危険な状態をもた
らすことのある芳香壊に2個より多いニトロ基を持つた
イ3ヒ合物な形成する程の過度な硝化を起こす危険が実
際にはないという点である。
される。抽出塔の上端にはアームがあつて、これを通し
て抽出剤と反応生成物(H2SO4から分離されている
)の塔頂あふれ流をヒータの備わつた貯蔵器に運ぶ。こ
のヒータは約室温から100℃の範囲内で動作可能であ
り、このヒータの機能によつて塩化メチレンを蒸発し硝
化芳香族化合物を濃縮する。塩化メチレン蒸気を凝縮し
て重力によつて抽出塔の底部に再循壌を続ける。この時
点では、すべての硝化生成物が貯蔵器内に含まれる塩化
メチレン中にある。唇KnlillLたとおり、硝化反
応に際し塩化メチピンを溶媒として使用することの一つ
の利点は、より低い亀度が使用でき、危険な状態をもた
らすことのある芳香壊に2個より多いニトロ基を持つた
イ3ヒ合物な形成する程の過度な硝化を起こす危険が実
際にはないという点である。
一般に、硝化を行うのに十分生産性のある温度は約40
〜45℃の範囲内である。全硝化反応の間にあつて不活
性雰囲気例えば窒素プランケツトを使用するのが望まL
い。
〜45℃の範囲内である。全硝化反応の間にあつて不活
性雰囲気例えば窒素プランケツトを使用するのが望まL
い。
一般には、反応の維持に大気圧で十分であるが、大気圧
以下又は大気圧以上の条件ですら本発明の範囲を逸脱す
ることなしに使用できることは当然のことながら当業者
には自明のはずである。反応期間をとおして激しい攪拌
がなされる。当業者に本発明の実施法をもつと理解して
頂くため、以下に実施例を示すが、単に説明として与え
るのであつてこれによつて何等限定されるものではない
。
以下又は大気圧以上の条件ですら本発明の範囲を逸脱す
ることなしに使用できることは当然のことながら当業者
には自明のはずである。反応期間をとおして激しい攪拌
がなされる。当業者に本発明の実施法をもつと理解して
頂くため、以下に実施例を示すが、単に説明として与え
るのであつてこれによつて何等限定されるものではない
。
別段記載なき限り、抽出した硝化生成物は塩化メチレン
と組み合わせてシリカゲルのカラムを通し痕跡量の硫酸
を除いた。
と組み合わせてシリカゲルのカラムを通し痕跡量の硫酸
を除いた。
塩化メチレンの除去は回転薄膜蒸発器内で真空下に行つ
た。実施例 98.3%H2SO43OCCと塩化メチレン40cc
に溶解したN−メチルフタルイミド16.1f1(0.
1モノ(へ)をゆるやかに還流させ(約41℃)、ここ
で98.1%HNO,4.55CC(0.105モル)
を反応混合物に40分間にわたつてゆつくりと加えた。
た。実施例 98.3%H2SO43OCCと塩化メチレン40cc
に溶解したN−メチルフタルイミド16.1f1(0.
1モノ(へ)をゆるやかに還流させ(約41℃)、ここ
で98.1%HNO,4.55CC(0.105モル)
を反応混合物に40分間にわたつてゆつくりと加えた。
Claims (1)
- 1 塩化メチレンおよび少なくとも90%の濃度の濃硫
酸によつてN−メチルフタルイミドの溶液を形成し、こ
のフタルイミド溶液を前記N−メチルフタルイミドに1
個のニトロ基を結合するのに必要な化学量論的量に近い
量の少なくとも濃度90%の濃硝酸で40〜45℃の温
度で処理し、次いで塩化メチレンによつて反応混合物か
ら生成した4−ニトロ−N−メチルフタルイミドを抽出
することからなる、4−ニトロ−N−メチルフタルイミ
ドの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US48635674A | 1974-07-08 | 1974-07-08 | |
| US486356 | 1974-07-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5129450A JPS5129450A (ja) | 1976-03-12 |
| JPS5953258B2 true JPS5953258B2 (ja) | 1984-12-24 |
Family
ID=23931564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50082833A Expired JPS5953258B2 (ja) | 1974-07-08 | 1975-07-07 | 4−ニトロ−n−メチルフタルイミドの製法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
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