JPS5954053A - 走査針の製造方法 - Google Patents
走査針の製造方法Info
- Publication number
- JPS5954053A JPS5954053A JP16475982A JP16475982A JPS5954053A JP S5954053 A JPS5954053 A JP S5954053A JP 16475982 A JP16475982 A JP 16475982A JP 16475982 A JP16475982 A JP 16475982A JP S5954053 A JPS5954053 A JP S5954053A
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- Japan
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- face
- conductor
- conductor bar
- scanning
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
- G11B9/06—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using record carriers having variable electrical capacitance; Record carriers therefor
- G11B9/07—Heads for reproducing capacitive information
- G11B9/075—Heads for reproducing capacitive information using mechanical contact with record carrier, e.g. by stylus
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は走査針の製造方法に関するもので、静竜容駄検
知方式のビデオディスクプレーヤＱＪ［選出される走査
針を提供しようとするものである。
知方式のビデオディスクプレーヤＱＪ［選出される走査
針を提供しようとするものである。
（０） 従来技術
第１図は従来の走査針の１例を部分的に示す斜視図、第
２ＩＡは第１図のＩ−Ｉ’横断面図である。走査針＆台
（１１は通常、耐摩耗性ＶＣＯれ念硬脆材料であるダイ
ヤモンドが使用される。又この走査針基台（１）の走出
面（２Ｊ上には記録媒体（以下ビデオディスクという）
との間で静電８誕変化を検出する電極としてスパッタリ
ング、イオンプレーテインク、イオン注入等の手法を用
い、チタン、タンタル、へフニクム、モリブテン、ニオ
ブ等の高融点金属で２０００〜２５００Ａの厚みＩＣＫ
Ｉｌｊ、 １ｍ（３」が形成されている。ところで、
電極中（、ＩＪはビデオディスクのトラックピッチより
小さいものとする必要があり、トラックピッチがＶ Ｈ
Ｄ方式では１．６５μｍであるためα４〜１．０ ｐ
ｍ程度に規制される必要がある。そのため、針基材の走
出面に電極膜を形成したあと、例えばダイヤモンド砥粒
が表面に塗シ込められた鋳鉄等の円板等な使用する研磨
加工によシ、１点鎖線の領域（ＰｔＪ及び〔Ｐ２〕を除
去することで所定寸法の電極膜（３）を各走査針につい
て１木ずつ規制する方法が採られていた。この方法では
走査針の１本毎に制御が必要であると共にＪｊｔ Ｉｉ
巾が微細で且つ高精度であるから作業者の熟練的要素が
大であり、研磨制御が非常に困Ｍ々ものとなりている。
２ＩＡは第１図のＩ−Ｉ’横断面図である。走査針＆台
（１１は通常、耐摩耗性ＶＣＯれ念硬脆材料であるダイ
ヤモンドが使用される。又この走査針基台（１）の走出
面（２Ｊ上には記録媒体（以下ビデオディスクという）
との間で静電８誕変化を検出する電極としてスパッタリ
ング、イオンプレーテインク、イオン注入等の手法を用
い、チタン、タンタル、へフニクム、モリブテン、ニオ
ブ等の高融点金属で２０００〜２５００Ａの厚みＩＣＫ
Ｉｌｊ、 １ｍ（３」が形成されている。ところで、
電極中（、ＩＪはビデオディスクのトラックピッチより
小さいものとする必要があり、トラックピッチがＶ Ｈ
Ｄ方式では１．６５μｍであるためα４〜１．０ ｐ
ｍ程度に規制される必要がある。そのため、針基材の走
出面に電極膜を形成したあと、例えばダイヤモンド砥粒
が表面に塗シ込められた鋳鉄等の円板等な使用する研磨
加工によシ、１点鎖線の領域（ＰｔＪ及び〔Ｐ２〕を除
去することで所定寸法の電極膜（３）を各走査針につい
て１木ずつ規制する方法が採られていた。この方法では
走査針の１本毎に制御が必要であると共にＪｊｔ Ｉｉ
巾が微細で且つ高精度であるから作業者の熟練的要素が
大であり、研磨制御が非常に困Ｍ々ものとなりている。
ｅ→ 発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、要求される電極ｌ］の形成を
、安定かつ多数の走査針について一括して行なうことの
できる走査針の製造方法を提供しようとするものである
。
、安定かつ多数の走査針について一括して行なうことの
できる走査針の製造方法を提供しようとするものである
。
（→ 発明の構成
本発明は、絶縁性硬脆材料の基台クエへの１面に電極中
に一致する全中を有する複数の導体片を短冊状に（１設
する工程と、前記基台クエへの１面に隣接しかつ前記導
体片ＶＣ父差する側面に金属板を前記導体片が該金属板
に導通ずるようにロウ刊して固定する工程と、この金属
板を固定してなる基台ウニ八を前記導体片の延在方向に
沿りて各導体片を分離するように分断して走査針基材を
製出する工程と、該走査針祠の先端部をビデオディスク
のトラックに整合するようＶＣ加工成形する工程とを何
するものである。
に一致する全中を有する複数の導体片を短冊状に（１設
する工程と、前記基台クエへの１面に隣接しかつ前記導
体片ＶＣ父差する側面に金属板を前記導体片が該金属板
に導通ずるようにロウ刊して固定する工程と、この金属
板を固定してなる基台ウニ八を前記導体片の延在方向に
沿りて各導体片を分離するように分断して走査針基材を
製出する工程と、該走査針祠の先端部をビデオディスク
のトラックに整合するようＶＣ加工成形する工程とを何
するものである。
（ホ）実施例
次に本発明方法の実施例を、第６図〜第１６図の製造工
程図に従い説明する。第６図に示すようＶＣ１対角線長
が１５〜２１Ｊｌの天然ダイヤモンド八面体＋１ｏ１７
対角ｆｊｌＫ文差する方向に厚さく１３が例えハ０．２
〜０．３朋程度に破１ｉ１αＩＮＫ沿ってスライスし、
すと共に表面凹凸状を滑らかにすべくラッピング、パブ
加工等を行なう。
程図に従い説明する。第６図に示すようＶＣ１対角線長
が１５〜２１Ｊｌの天然ダイヤモンド八面体＋１ｏ１７
対角ｆｊｌＫ文差する方向に厚さく１３が例えハ０．２
〜０．３朋程度に破１ｉ１αＩＮＫ沿ってスライスし、
すと共に表面凹凸状を滑らかにすべくラッピング、パブ
加工等を行なう。
次にこの基台ウニ八（１２１の１面ＶＣ電極１」に一致
する全中を有する複数の導体片を短冊状にイづ設する工
程に角いて説明する。基台ウニ八［１りの１面（研磨面
）（１２ａＪ上にスパッタリング（あるいはイオンブレ
ーティング、イオン注入〕等でチタン（あるいはタンタ
ル、八ツニウム）等の高融点金属膜（１４１を２０００
〜２５０ＯＡの厚みにコーティングする（第５図〕。次
に、波長が短かいレーザー、例えハ波長約０．４５μｍ
のアルゴンレーザー又は電子ビームに反応するに、Ｍ
Ｅ Ｒ％ＫＴＦｒ（のようなネガタイプのフォトレジス
トを均−ＶＣ倹布してレジスト層（１５１を作成する（
第６図］。次いで、電極中に等しい巾（旧の０．６〜０
．８μｍに収光されたアルゴンレーザーを約０．２ｆｌ
のピッチ間隔αηで照射走査させ％第７図に示す如く部
分（１５ａ）を露光させる。この櫂、基台ウニ八（１３
の両面（１２ａ）（１２ｂ）はラッピング、パフＤロエ
により平行度、平面度が十分保たれているためビーム光
と正確に直交した面をもつ固定治具に該９エバｔｔａを
保持することによプ、始めの１木目のビーム照射走査時
にビーム焦点をレジストｆｉＳ面に合わせておくだけで
、引続くビーム照射走行時にはその必要性はなく正確に
安定して露光を行なうことが可能となる。次いで、これ
？現像液に浸すとレジストがネガタイプであるため未露
光部分が光分解して除去され、第８図に示す如く露光部
分（１５ａ）を残すことができる。その後、成分が例え
ばＨ２Ｏ２：Ｆ（ＮＯ５−１：１の溶液を用いて化学エ
ツチング又はスパッタエツチングを行なうと、露光部分
直下の金属膜（４’ ４ ａ ）を除いて他の部分の金
属層を取り去ることができる（第９図〕。さらに、この
金属膜（１４ａ）上の露光レジスト（１５ａ）７除去し
て、第１０図に示す如く、基台ウニ八じ上に全中αＧが
電極巾に一致する複数の導体片（１４ａ）を等ピッチで
付設することができる。
する全中を有する複数の導体片を短冊状にイづ設する工
程に角いて説明する。基台ウニ八［１りの１面（研磨面
）（１２ａＪ上にスパッタリング（あるいはイオンブレ
ーティング、イオン注入〕等でチタン（あるいはタンタ
ル、八ツニウム）等の高融点金属膜（１４１を２０００
〜２５０ＯＡの厚みにコーティングする（第５図〕。次
に、波長が短かいレーザー、例えハ波長約０．４５μｍ
のアルゴンレーザー又は電子ビームに反応するに、Ｍ
Ｅ Ｒ％ＫＴＦｒ（のようなネガタイプのフォトレジス
トを均−ＶＣ倹布してレジスト層（１５１を作成する（
第６図］。次いで、電極中に等しい巾（旧の０．６〜０
．８μｍに収光されたアルゴンレーザーを約０．２ｆｌ
のピッチ間隔αηで照射走査させ％第７図に示す如く部
分（１５ａ）を露光させる。この櫂、基台ウニ八（１３
の両面（１２ａ）（１２ｂ）はラッピング、パフＤロエ
により平行度、平面度が十分保たれているためビーム光
と正確に直交した面をもつ固定治具に該９エバｔｔａを
保持することによプ、始めの１木目のビーム照射走査時
にビーム焦点をレジストｆｉＳ面に合わせておくだけで
、引続くビーム照射走行時にはその必要性はなく正確に
安定して露光を行なうことが可能となる。次いで、これ
？現像液に浸すとレジストがネガタイプであるため未露
光部分が光分解して除去され、第８図に示す如く露光部
分（１５ａ）を残すことができる。その後、成分が例え
ばＨ２Ｏ２：Ｆ（ＮＯ５−１：１の溶液を用いて化学エ
ツチング又はスパッタエツチングを行なうと、露光部分
直下の金属膜（４’ ４ ａ ）を除いて他の部分の金
属層を取り去ることができる（第９図〕。さらに、この
金属膜（１４ａ）上の露光レジスト（１５ａ）７除去し
て、第１０図に示す如く、基台ウニ八じ上に全中αＧが
電極巾に一致する複数の導体片（１４ａ）を等ピッチで
付設することができる。
次に基台ウニ八に金属板をロウ刊けする工程に付いて説
明する。第１１図は上記工程を経て複数の導体片が付設
された基台ウニへの斜視図を示す（八ツチング部分は導
体片を示す、以下同様）。
明する。第１１図は上記工程を経て複数の導体片が付設
された基台ウニへの斜視図を示す（八ツチング部分は導
体片を示す、以下同様）。
このウニ八を、例えばダイヤモンドソー等を使用し、導
体片の延在方向とは直角に破線ａ８で示す如く分断し、
第１２図に示す基台ブロックを作成する。このブロック
（基台クエへの１部分）Ｈの１面（１２ａ）に隣接しか
つ導体片（１４ａ）に交差（直交）する側面（１２０）
に１例えば厚さ０゜２ａｇ、長さ１５〜２１１Ｍの金属
（例えばチタン）板１９（第１３図）を５表面”＜＝ｔ
）ＶＣ対して直角る（第１４１囚）。（２αはロウ材層
である。
体片の延在方向とは直角に破線ａ８で示す如く分断し、
第１２図に示す基台ブロックを作成する。このブロック
（基台クエへの１部分）Ｈの１面（１２ａ）に隣接しか
つ導体片（１４ａ）に交差（直交）する側面（１２０）
に１例えば厚さ０゜２ａｇ、長さ１５〜２１１Ｍの金属
（例えばチタン）板１９（第１３図）を５表面”＜＝ｔ
）ＶＣ対して直角る（第１４１囚）。（２αはロウ材層
である。
次いで、この接合体を第１４図中の破線（２１）で示す
ように、導体片（１４ａ）の延在方向にかつ各導体片が
走査針としての中心線となるように、ダイヤモンドソー
、レーザービーム等で分断して第１５図に示す走査針基
材（ト）を作成する。
ように、導体片（１４ａ）の延在方向にかつ各導体片が
走査針としての中心線となるように、ダイヤモンドソー
、レーザービーム等で分断して第１５図に示す走査針基
材（ト）を作成する。
この走査針基材（至）は周知の方法でその先端部がビデ
オディスクのトラックに整合するように例えば第１６図
に示す如くυロエ成形される。同図において、加工面３
υはその背面側の加工面及び走出面Ｃ３３（表面（１２
ａ）の１部分）と共に３角錐状先端部の１つの面を構成
している。この先端部は図示省略しているが、更にキイ
ール状に成形されている。
オディスクのトラックに整合するように例えば第１６図
に示す如くυロエ成形される。同図において、加工面３
υはその背面側の加工面及び走出面Ｃ３３（表面（１２
ａ）の１部分）と共に３角錐状先端部の１つの面を構成
している。この先端部は図示省略しているが、更にキイ
ール状に成形されている。
（へ）発明の効果
本発明はサブミクロンオーダーの微小寸法の電極膜を走
査針作成工程中の初期段階で、一括してかつ安定、容易
に成形することができるので走査針の生産性を向上させ
ることができる。また、高価な天然ダイヤモンド（絶縁
性硬脆材料）を、耐摩耗性の必要な針先部分にのみ利用
しているので材料費を低減することもできる。備、基台
上の眠（販膜は金属シャンク（金属板を分断したもの）
に、該シャンクと基台を接合するロク材を通じて伝達さ
れる。
査針作成工程中の初期段階で、一括してかつ安定、容易
に成形することができるので走査針の生産性を向上させ
ることができる。また、高価な天然ダイヤモンド（絶縁
性硬脆材料）を、耐摩耗性の必要な針先部分にのみ利用
しているので材料費を低減することもできる。備、基台
上の眠（販膜は金属シャンク（金属板を分断したもの）
に、該シャンクと基台を接合するロク材を通じて伝達さ
れる。
第１図は従来の走査針の先端部分の斜視図、第２図は第
１図のＩ−Ｉ’断面図である。第６図〜第１５図は本発
明方法の説明図で、第６図は基台ウェハの出発材料の斜
視図、第４図は基台ウニへの斜視図、第５因、第６図、
第７図、第８図％第９図、第１０図は基台ウニへ十に嶺
数の導体片を成形するプロセスの説明図である。第１１
図は導体片１ｋｆ＝ｌ設した基台クエへの斜視図、第１
２図は分断された１つの基台クエへの斜視図、第１６図
は金属板の斜視図、第１４図はこれらを一体化した接合
体の斜視図、第１５図はこの接合体を分断して々る走査
針基材の斜視図、第１６図は加工成形された走査針の斜
視図である。 主な図番の説明 ａり・・・基台ウニ八、（１４ａ）・・・電極を構成す
る導体片、ｉ１９・・・金属板％囚・・・ロウ材層。 出願人三洋電機株式会社 第１図 第２図 第４図 −２７２− 娃 駈
１図のＩ−Ｉ’断面図である。第６図〜第１５図は本発
明方法の説明図で、第６図は基台ウェハの出発材料の斜
視図、第４図は基台ウニへの斜視図、第５因、第６図、
第７図、第８図％第９図、第１０図は基台ウニへ十に嶺
数の導体片を成形するプロセスの説明図である。第１１
図は導体片１ｋｆ＝ｌ設した基台クエへの斜視図、第１
２図は分断された１つの基台クエへの斜視図、第１６図
は金属板の斜視図、第１４図はこれらを一体化した接合
体の斜視図、第１５図はこの接合体を分断して々る走査
針基材の斜視図、第１６図は加工成形された走査針の斜
視図である。 主な図番の説明 ａり・・・基台ウニ八、（１４ａ）・・・電極を構成す
る導体片、ｉ１９・・・金属板％囚・・・ロウ材層。 出願人三洋電機株式会社 第１図 第２図 第４図 −２７２− 娃 駈
Claims (1)
- ｔ 絶縁性硬脆材料の基台ウェハの１面に°嘔極巾に一
致する全中を有する複数の導体片を短冊状に付設する工
程と、前記１面に隣接する側面に金属板を前記導体片が
該金属板に導通するようにロク何けして固定する工程と
、この金属板を固定してなる基台ワエハを前記導体片の
延在方向に沿って各導体片を分離するように分断して走
査針基材を製出する工程と、該走査針基材の先端部を記
録媒にのトラックに整合するように加工成形する工程と
を有する走査針の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16475982A JPS5954053A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 走査針の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16475982A JPS5954053A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 走査針の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5954053A true JPS5954053A (ja) | 1984-03-28 |
Family
ID=15799380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16475982A Pending JPS5954053A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 走査針の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5954053A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150194168A1 (en) * | 2014-01-08 | 2015-07-09 | Western Digital (Fremont), Llc | Methods and systems of adjusting tilt using magnetic erase width feedback |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP16475982A patent/JPS5954053A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150194168A1 (en) * | 2014-01-08 | 2015-07-09 | Western Digital (Fremont), Llc | Methods and systems of adjusting tilt using magnetic erase width feedback |
| US9870788B2 (en) * | 2014-01-08 | 2018-01-16 | Western Digital (Fremont), Llc | Method of adjusting tilt using magnetic erase width feedback |
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