JPS5968982A - レ−ザ発振器のガス制御方法 - Google Patents
レ−ザ発振器のガス制御方法Info
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- JPS5968982A JPS5968982A JP57179414A JP17941482A JPS5968982A JP S5968982 A JPS5968982 A JP S5968982A JP 57179414 A JP57179414 A JP 57179414A JP 17941482 A JP17941482 A JP 17941482A JP S5968982 A JPS5968982 A JP S5968982A
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- Japan
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- laser oscillator
- oscillator
- laser
- gas
- pressure
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ発振器を運転休止する時のガス制御方
法に関する。
法に関する。
従来例の構成とその問題点
まず従来のレーザ発振器について図面と共に説明する。
第１図はレーザ発振器の要部断面図である。レーザ発振
器は全反射ミラー１と出力ミラー２間において直流電圧
３により放電４を得て、その放電４とレーザガス５〜６
′のエネルギー変換によりし一ザ６を取り出す構造と左
っている。この時、全反射ミラー１と出力ミラー２間は
ガラス製のレーザ管７で結合されている。ガス６′は真
空ポンプ８によって空気中２へ放出されている。ただし
、ガス再生装置を付加する場合は、触媒炉などを経由し
てガス人口５へ戻して再利用されることもある。
器は全反射ミラー１と出力ミラー２間において直流電圧
３により放電４を得て、その放電４とレーザガス５〜６
′のエネルギー変換によりし一ザ６を取り出す構造と左
っている。この時、全反射ミラー１と出力ミラー２間は
ガラス製のレーザ管７で結合されている。ガス６′は真
空ポンプ８によって空気中２へ放出されている。ただし
、ガス再生装置を付加する場合は、触媒炉などを経由し
てガス人口５へ戻して再利用されることもある。
さらに図において、１０は全反射ミラーホルダ、１１は
全反射ミラー押え、１２は全反射ミラー固定用ボルト、
１３はレーザ発振器内への大気侵入を防止するだめの０
リングを示す。そしてガス５の入口継手１４はＯリング
１５で大気の侵入を防ＩＪ−シている。レーザ管７は油
または水の熱媒１６をレーザ管外周の空間１７に流して
ガスを間接冷却し、レーザ発振効率を高めている。出力
ミラー２側も同様に出力ミラーホルダ１８に出力ミラー
として全反射ミラー側と同様に０リング１３を用いると
ともに、大気側にも０リング２１が設けである。
全反射ミラー押え、１２は全反射ミラー固定用ボルト、
１３はレーザ発振器内への大気侵入を防止するだめの０
リングを示す。そしてガス５の入口継手１４はＯリング
１５で大気の侵入を防ＩＪ−シている。レーザ管７は油
または水の熱媒１６をレーザ管外周の空間１７に流して
ガスを間接冷却し、レーザ発振効率を高めている。出力
ミラー２側も同様に出力ミラーホルダ１８に出力ミラー
として全反射ミラー側と同様に０リング１３を用いると
ともに、大気側にも０リング２１が設けである。
通常のレーザ発振時は、放電４にガス５を５′の方向へ
真空ポンプ８を用いて流して使用するが、真空ポンプ８
は運転休止と同時に大気側ゾから６′の方向へ空気が逆
流される。この空気逆流時には当然真空ポンプ８のオイ
ル、オイルミスト類を同時にレーザ管内へ逆流させる。
真空ポンプ８を用いて流して使用するが、真空ポンプ８
は運転休止と同時に大気側ゾから６′の方向へ空気が逆
流される。この空気逆流時には当然真空ポンプ８のオイ
ル、オイルミスト類を同時にレーザ管内へ逆流させる。
これらオイルミスト類は全反射ミラー１．出力ミラー２
の表面汚損を進め、レーザ出力の低下を呈する。寸だ放
電４の電極（図においては、１０．１８がミラーホルダ
と兼用されている）をも汚損し放電を不安定にさせる。
の表面汚損を進め、レーザ出力の低下を呈する。寸だ放
電４の電極（図においては、１０．１８がミラーホルダ
と兼用されている）をも汚損し放電を不安定にさせる。
この真空ポンプ運転休止に伴なう大気２とレーザ発振器
内の圧力差をなくさないと、大気側りから６′へのオイ
ルミスト類の逆流は防止できない。
内の圧力差をなくさないと、大気側りから６′へのオイ
ルミスト類の逆流は防止できない。
そのため従来は、真空ポンプの運転休止に伴なう圧力差
による大気などのレーザ発振器内への侵入防止法として
、真空ポンプに逆流防止弁を設ける方法、真空ポンプと
レーザ発振器を結ぶ配管の一部に弁を設けて真空ポンプ
運転休止中は閉とする方法などがあったが、逆流防止弁
は信頼性に欠け、弁は圧損を生ずるため適当でなかった
。故に一般的には第２図に示すようなガス系統を用いる
ことが多かった。すなわちＣ０２レーザの例ではガスは
第２図に示すような系統で供給される。すなわち各ガス
（Ｈｅ 、Ｎ２ 、＋ ｃｏ２）は電気接点付圧力スイ
ツチ２２でガス圧を確認されいつガス流量弁２３を経て
電磁弁２４でレーザ発振器２６へ真空ポンプ２６で供給
され、出口を経て大気中２７へ出る。２８は真空計であ
る。運転準備中は電磁弁２４が状態■（閉）、ニアリー
ク用電磁弁２９も状態■（閉）となシ、レーザ発振器内
の空気等を真空ポンプで排出し、充分な真空が得られた
ところで電磁弁２４のみを状態Ｉ（開）とし、各ガスを
レーザ発振器内へ供給し、レーザを発振させる。
による大気などのレーザ発振器内への侵入防止法として
、真空ポンプに逆流防止弁を設ける方法、真空ポンプと
レーザ発振器を結ぶ配管の一部に弁を設けて真空ポンプ
運転休止中は閉とする方法などがあったが、逆流防止弁
は信頼性に欠け、弁は圧損を生ずるため適当でなかった
。故に一般的には第２図に示すようなガス系統を用いる
ことが多かった。すなわちＣ０２レーザの例ではガスは
第２図に示すような系統で供給される。すなわち各ガス
（Ｈｅ 、Ｎ２ 、＋ ｃｏ２）は電気接点付圧力スイ
ツチ２２でガス圧を確認されいつガス流量弁２３を経て
電磁弁２４でレーザ発振器２６へ真空ポンプ２６で供給
され、出口を経て大気中２７へ出る。２８は真空計であ
る。運転準備中は電磁弁２４が状態■（閉）、ニアリー
ク用電磁弁２９も状態■（閉）となシ、レーザ発振器内
の空気等を真空ポンプで排出し、充分な真空が得られた
ところで電磁弁２４のみを状態Ｉ（開）とし、各ガスを
レーザ発振器内へ供給し、レーザを発振させる。
戻すとともに、電磁弁２９を状態Ｉ（開）とし、フィル
ター３ｏを経て大気をレーザ発振器内へ送り込み（実際
はレーザ発振器内が真空なので、大気が吸い込まれるわ
けである）、レーザ発振器２６の内部圧を大気２７と同
一とすることにより密封用Ｑ ＩＪングからの大気の侵
入（フィルターを通っていないので不純物が侵入する）
および真空ポンプを経由してオイルミスト等がレーザ発
振器内へ侵入することを防止できた。最も一般的なこの
例の従来例でも、フィルター３０を通過して侵入する微
粒子が存在し、レーザ発振器内のミラーｎ寿命を短かく
し、工業的に価値が低くかった。
ター３ｏを経て大気をレーザ発振器内へ送り込み（実際
はレーザ発振器内が真空なので、大気が吸い込まれるわ
けである）、レーザ発振器２６の内部圧を大気２７と同
一とすることにより密封用Ｑ ＩＪングからの大気の侵
入（フィルターを通っていないので不純物が侵入する）
および真空ポンプを経由してオイルミスト等がレーザ発
振器内へ侵入することを防止できた。最も一般的なこの
例の従来例でも、フィルター３０を通過して侵入する微
粒子が存在し、レーザ発振器内のミラーｎ寿命を短かく
し、工業的に価値が低くかった。
発明の目的
本発明は、このような従来からの欠点を除去し、レーザ
管内と大気中の圧力差をなくし、大気のレーザ発振器内
への侵入を防止するようにしたものである。
管内と大気中の圧力差をなくし、大気のレーザ発振器内
への侵入を防止するようにしたものである。
発明の構成
上記目的を達成するために本発明は、レーザ発振器の運
転休止時にレーザ発振器内へ大気を供給せず、レーザガ
スを供給するようにしてレーザ発振器内の圧力を大気圧
に比し同等もしくはそれ以上にしたものである。
転休止時にレーザ発振器内へ大気を供給せず、レーザガ
スを供給するようにしてレーザ発振器内の圧力を大気圧
に比し同等もしくはそれ以上にしたものである。
実施例の説明
以下本発明によるガス系統図を第３図に示す。
外お、第２図と同等部分には同一番号、符号で示してい
る。
る。
すなわち、本発明においては、運転準備中は各ガスとも
、ガス流量弁２３を経て電磁弁２４．２９の所で流れを
止められている。その間に真空ポンプ２６はレーザ発振
器内のガスを抜いて真空状態にし、真空になると電磁弁
２４のみ状態Ｉ（開）として各ガスをレーザ発振器内へ
供給し、レーザ発振を得る。運転を休止する時は、真空
ポンプ２６の停止と同時に電磁弁２４を状態■（閉）と
し、電磁弁２９を状態■（開）として各ガスをレーザ発
振器内へ供給し、レーザ発振器内の圧力を大気圧に比し
同等もしくはそれ以上にしてレーザ発振器内への大気の
侵入を防止する。各ガスを再利用する場合は、真空ポン
プ出口の２７と２７′間に触媒炉などを設ければよい。
、ガス流量弁２３を経て電磁弁２４．２９の所で流れを
止められている。その間に真空ポンプ２６はレーザ発振
器内のガスを抜いて真空状態にし、真空になると電磁弁
２４のみ状態Ｉ（開）として各ガスをレーザ発振器内へ
供給し、レーザ発振を得る。運転を休止する時は、真空
ポンプ２６の停止と同時に電磁弁２４を状態■（閉）と
し、電磁弁２９を状態■（開）として各ガスをレーザ発
振器内へ供給し、レーザ発振器内の圧力を大気圧に比し
同等もしくはそれ以上にしてレーザ発振器内への大気の
侵入を防止する。各ガスを再利用する場合は、真空ポン
プ出口の２７と２７′間に触媒炉などを設ければよい。
また３１はレーザ発振器内部に異常に高圧のガス圧が印
加されて、ミラーの位置が変化することを防止するため
のリリーフ弁（定圧吐出弁）である。なお、このリリー
フ弁３１は本発明の目的からは必ずしも必要ではない。
加されて、ミラーの位置が変化することを防止するため
のリリーフ弁（定圧吐出弁）である。なお、このリリー
フ弁３１は本発明の目的からは必ずしも必要ではない。
発明の効果
以上のように本発明は、レーザ発振器へ運転休止時には
レーザガスを供給するものであり、とのレーザ発振器へ
供給されるレーザガスは通常９９．９５％程度の純度を
有するものであるから、大気と比し不純物の侵入が極端
に少なくなる。壕だ従来例のように大気中の一般的な不
純物侵入や真空ポンプから吐出されるオイルミストがフ
ィルターを通過してレーザ発振器内へ侵入するようなこ
とがなく、レーザ発振器内のミラー類、電極の寿命や放
電特性を大幅に改善できる効果が得られる。しかも低コ
ストで提供可能であり、既製品への応用も可能で工業的
価値の犬なるものである。
レーザガスを供給するものであり、とのレーザ発振器へ
供給されるレーザガスは通常９９．９５％程度の純度を
有するものであるから、大気と比し不純物の侵入が極端
に少なくなる。壕だ従来例のように大気中の一般的な不
純物侵入や真空ポンプから吐出されるオイルミストがフ
ィルターを通過してレーザ発振器内へ侵入するようなこ
とがなく、レーザ発振器内のミラー類、電極の寿命や放
電特性を大幅に改善できる効果が得られる。しかも低コ
ストで提供可能であり、既製品への応用も可能で工業的
価値の犬なるものである。
第１図は一般的なレーザ発振器の要部断面正面図、第２
図は従来のガス制御方法によるガス系統図、第３図は本
発明のガス制御方法によるガス系統図である。 ６．６′・・・・・・レーザガス、２３・・・・・・ガ
ス流量弁、２４．２９・・・・・・電磁弁、２６・・川
・レーザ発振器。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが１名第１
図 第２図
図は従来のガス制御方法によるガス系統図、第３図は本
発明のガス制御方法によるガス系統図である。 ６．６′・・・・・・レーザガス、２３・・・・・・ガ
ス流量弁、２４．２９・・・・・・電磁弁、２６・・川
・レーザ発振器。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが１名第１
図 第２図
Claims (1)
- レーザ発振器を運転休止する時、レーザ発振器内の圧力
をレーザガスを供給して大気圧に比し同等もしくはそれ
以上にすることを特徴とするレーザ発振器のガス制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57179414A JPS5968982A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | レ−ザ発振器のガス制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57179414A JPS5968982A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | レ−ザ発振器のガス制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5968982A true JPS5968982A (ja) | 1984-04-19 |
Family
ID=16065446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57179414A Pending JPS5968982A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | レ−ザ発振器のガス制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5968982A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60176888U (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-22 | 三菱電機株式会社 | レ−ザ加工装置の光路ダクト |
| JPS6412591A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Fanuc Ltd | Gas laser equipment |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729577A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-17 | Anelva Corp | Automatic continuous sputtering apparatus |
-
1982
- 1982-10-12 JP JP57179414A patent/JPS5968982A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729577A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-17 | Anelva Corp | Automatic continuous sputtering apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60176888U (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-22 | 三菱電機株式会社 | レ−ザ加工装置の光路ダクト |
| JPS6412591A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Fanuc Ltd | Gas laser equipment |
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