JPS5972135A - 超精密ｘｙ移動装置 - Google Patents
超精密ｘｙ移動装置Info
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- JPS5972135A JPS5972135A JP57181338A JP18133882A JPS5972135A JP S5972135 A JPS5972135 A JP S5972135A JP 57181338 A JP57181338 A JP 57181338A JP 18133882 A JP18133882 A JP 18133882A JP S5972135 A JPS5972135 A JP S5972135A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B23Q1/48—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs and rotating pairs
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B5/00—Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
- G01B5/0002—Arrangements for supporting, fixing or guiding the measuring instrument or the object to be measured
- G01B5/0004—Supports
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
この発明は縮小投影露光装置または電子線描画装置に係
り、特に試料台として用いるのに好適な超精密ＸＹ移動
装置に関する。
り、特に試料台として用いるのに好適な超精密ＸＹ移動
装置に関する。
従来の上記装置に用いられている超精密ＸＹ移動台にお
（・ては、０１μｍという超精密位置決め精度とともに
高速位置決め機能が要求されており、一般的に高速ＸＹ
粗動台と超精密ｘｙ６Ｗ動台を組み合せた複合型の移動
機構が多く用いられている。
（・ては、０１μｍという超精密位置決め精度とともに
高速位置決め機能が要求されており、一般的に高速ＸＹ
粗動台と超精密ｘｙ６Ｗ動台を組み合せた複合型の移動
機構が多く用いられている。
従来の上記複合型移動機構は、例えばＸ軸方向に移動す
るＸ和動テーブル上をＹ粗動テーブルがＹ軸方向に移動
し、さらに該Ｙ粗動テーブルの上にＸ微動テーブルどＹ
微動テーブルをそれぞれ積ろ重ねて、４段重ねの構造に
なって（゛た。従って構造が複雑かつ高価になるととも
に、可動部の重量増加を招いて、位置決めの高速化の妨
げにもなっていた。
るＸ和動テーブル上をＹ粗動テーブルがＹ軸方向に移動
し、さらに該Ｙ粗動テーブルの上にＸ微動テーブルどＹ
微動テーブルをそれぞれ積ろ重ねて、４段重ねの構造に
なって（゛た。従って構造が複雑かつ高価になるととも
に、可動部の重量増加を招いて、位置決めの高速化の妨
げにもなっていた。
この発明の目的は、上記問題点を解消するためになされ
たもので、構造が簡単かつ安価ブエ複合型の超精密ＸＹ
移動装置を提供することにある。
たもので、構造が簡単かつ安価ブエ複合型の超精密ＸＹ
移動装置を提供することにある。
この発明は、従来のＸＹ二段重ねの微動機構の代りに、
４本の弾性支柱で支えられた一個のテーブルが３個の直
進型アクチーエータに駆動されて、Ｘ、Ｙ、 θ方向
に微動するところの構造簡単力・つ軽量な微動機構を備
えたＸＹ粗微動複合型移動機構からなる超精密ＸＹ移動
装置である。
４本の弾性支柱で支えられた一個のテーブルが３個の直
進型アクチーエータに駆動されて、Ｘ、Ｙ、 θ方向
に微動するところの構造簡単力・つ軽量な微動機構を備
えたＸＹ粗微動複合型移動機構からなる超精密ＸＹ移動
装置である。
以下、この発明の一実施例の構成を第１図〜第３図によ
って説明する。なお、各図中、同一または同等の部位に
は同一の符号を付ける。ＸＹ粗動台は、Ｘ粗動テーブル
１、Ｙ粗動テーブル２および上記それぞれのテーブルの
モータ駆動機構３，４から構成されており、ＸＹ １．
５０１１１１１１程度の可動範囲に対して±５μｍ程度
の位置決め精度でＹ粗動テーブル２のＸＹ二次元の位置
決めを行−・が、上記の技術は既に公知である。Ｙ粗動
テーブル２の上には、四隅を細い弾性支柱５で自重を支
えられた微動テーブル６が取付けられており、該微動テ
ーブル６は、上記弾性支柱５の弾性変形範囲である±５
０μｍ程度はＸ、Ｙ、 θ方向に自在に微動できる。
って説明する。なお、各図中、同一または同等の部位に
は同一の符号を付ける。ＸＹ粗動台は、Ｘ粗動テーブル
１、Ｙ粗動テーブル２および上記それぞれのテーブルの
モータ駆動機構３，４から構成されており、ＸＹ １．
５０１１１１１１程度の可動範囲に対して±５μｍ程度
の位置決め精度でＹ粗動テーブル２のＸＹ二次元の位置
決めを行−・が、上記の技術は既に公知である。Ｙ粗動
テーブル２の上には、四隅を細い弾性支柱５で自重を支
えられた微動テーブル６が取付けられており、該微動テ
ーブル６は、上記弾性支柱５の弾性変形範囲である±５
０μｍ程度はＸ、Ｙ、 θ方向に自在に微動できる。
Ｙ粗動テーブル２とＢＸＸ微テーブルとの間は、第２同
核 に示すように、約１００μｍの間隙を設け、へ間隙に高
粘度のオイル（例えばシリコンオイル）７を満たず。該
オイル７０層は、ダンノく作用をさせるためのもので、
上記微動テーブル６の微細振動を吸収する。
核 に示すように、約１００μｍの間隙を設け、へ間隙に高
粘度のオイル（例えばシリコンオイル）７を満たず。該
オイル７０層は、ダンノく作用をさせるためのもので、
上記微動テーブル６の微細振動を吸収する。
Ｙ粗動テーブル２には、Ｘ軸方向に２個所、Ｙ軸方向に
１個所、それぞれＬ型支持フレーム８゜９．１０を固着
し、該り型支持フレーム３，９．１０と微動テーブル６
との間には、それぞれ圧電素子アクチュエータ］Ｉ、
１２．１３が挿設固定しである。
１個所、それぞれＬ型支持フレーム８゜９．１０を固着
し、該り型支持フレーム３，９．１０と微動テーブル６
との間には、それぞれ圧電素子アクチュエータ］Ｉ、
１２．１３が挿設固定しである。
該圧電素子アクチュエータ１１．１２．１３は、圧電素
子の電歪効果による素子長さの微少な変位を利用する例
えば特公昭４９−２６４７７に示されるようなもので、
この実施例では、直流６００Ｖの電圧印加時に約２０μ
ｍの変位量が得られる。
子の電歪効果による素子長さの微少な変位を利用する例
えば特公昭４９−２６４７７に示されるようなもので、
この実施例では、直流６００Ｖの電圧印加時に約２０μ
ｍの変位量が得られる。
この発明の特徴は、上記のように３個の圧電素子アクチ
ュエータを用いることにより、微動テーブル６のＸ、Ｙ
方向の微少変位とともに、θ方向の微少角変位を規制で
きる点にある。そのため従来装置に不可欠であった微動
テーブルの平行ばね機構等を用いたＸＹ案内機構が不要
となり、非常にコンパクトな構造にすることができる。
ュエータを用いることにより、微動テーブル６のＸ、Ｙ
方向の微少変位とともに、θ方向の微少角変位を規制で
きる点にある。そのため従来装置に不可欠であった微動
テーブルの平行ばね機構等を用いたＸＹ案内機構が不要
となり、非常にコンパクトな構造にすることができる。
微動テーブル６のＸ、Ｙ方向への微動に伴って上記圧電
素子アクチュエータは、ＸＹ平面内で僅かに傾くことに
なるが、第２図に示すように、圧電素子アクチーエータ
の両端部に環状のくびれ１４を有する弾性変形支持端子
１５．１６を備えており、このくびれ１４が弾性変形す
るようにしたもので、該弾性変形支持端子１５，１．６
は、３個の圧電素子アクチュエータの両端にそれぞれ設
けられている。なお、］、７．１８は、微動テーブル６
の静止座標系に対するＸ、Ｙ位置を０．０２μｍ程度の
精度で正確に検出するレーザ干渉測長器、１９．２０は
、後述する閉ループ制御回路、２１は、Ｙａｗ検出用レ
ーザ測長器、２２は、Ｙａｗ閉ループ制御回路を示す。
素子アクチュエータは、ＸＹ平面内で僅かに傾くことに
なるが、第２図に示すように、圧電素子アクチーエータ
の両端部に環状のくびれ１４を有する弾性変形支持端子
１５．１６を備えており、このくびれ１４が弾性変形す
るようにしたもので、該弾性変形支持端子１５，１．６
は、３個の圧電素子アクチュエータの両端にそれぞれ設
けられている。なお、］、７．１８は、微動テーブル６
の静止座標系に対するＸ、Ｙ位置を０．０２μｍ程度の
精度で正確に検出するレーザ干渉測長器、１９．２０は
、後述する閉ループ制御回路、２１は、Ｙａｗ検出用レ
ーザ測長器、２２は、Ｙａｗ閉ループ制御回路を示す。
つぎに作用を説明する。上記の構造において圧電素子ア
クチュエータ１１．１２．１３の印加電圧をそれぞれ変
化させることにより、Ｙ粗動テーブル２に対する微動テ
ーブル６のＸ、Ｙ、θの位置関係を変位させることがで
きるとともに、印加電圧を変化させない限り、上記位置
関係を拘束することができる。
クチュエータ１１．１２．１３の印加電圧をそれぞれ変
化させることにより、Ｙ粗動テーブル２に対する微動テ
ーブル６のＸ、Ｙ、θの位置関係を変位させることがで
きるとともに、印加電圧を変化させない限り、上記位置
関係を拘束することができる。
以上に述べたＸＹ徽励動機構制御方法について記すとつ
ぎのとおりである。すなわち第１図において、微動テー
ブル６の静止座標系に対するＸ、 Ｙ位置は、それぞれ
レーザ干渉測長器１７．１８によって約０．０２μｍの
精度で正確に検出される。そこでＸＹ粗動台により与え
られた目標値の±５μｍ以内に微動テーブル６が位置決
めされた後、該微動テーブル６の正確な座標を上記レー
ザ干渉測長器１７．１８が検出し、第３図に示されるＸ
、Ｙそれぞれの閉ループ制御回路１９．２０によって目
標値との差を０とするような電圧が圧電素子アクチーエ
ータ１１゜１２．１３に対して印加され、サーボ制御さ
れる。しかし、これら閉ループ位置制御技術は公知技術
故詳細な説明は省略する。
ぎのとおりである。すなわち第１図において、微動テー
ブル６の静止座標系に対するＸ、 Ｙ位置は、それぞれ
レーザ干渉測長器１７．１８によって約０．０２μｍの
精度で正確に検出される。そこでＸＹ粗動台により与え
られた目標値の±５μｍ以内に微動テーブル６が位置決
めされた後、該微動テーブル６の正確な座標を上記レー
ザ干渉測長器１７．１８が検出し、第３図に示されるＸ
、Ｙそれぞれの閉ループ制御回路１９．２０によって目
標値との差を０とするような電圧が圧電素子アクチーエ
ータ１１゜１２．１３に対して印加され、サーボ制御さ
れる。しかし、これら閉ループ位置制御技術は公知技術
故詳細な説明は省略する。
上記制御方法において、Ｘ軸方向に２個の圧電素子アク
チュエータ１１．１２が設けであるが、通常は該両圧電
素子アクチ、エータに同一の制御信号を与えることによ
り、微動テーブル６に微少なθ角変位（Ｙａｗ ）を生
じることなく、Ｘ軸方向にのみ駆動できる。しかし縮小
投影露光装置のＸＹＹ料台に用いる場合には、微動テー
ブル６の極く僅かなＹａｗも許容できず、例えば１５０
ｍｍの可動範囲内において、±５ Ｘ ＩＦ’ ｒａｄ
以下のＹａｗであることが必要とされる。微動テーブル
のＹａｗを検出して修正する方法としては、−ｋｍ特開
昭５２−６００７４に示されたように支点を中心として
回転するテーブルを設けた公知例があるが、この発明に
おいては、第３図に示すように、微動テーブル６のＹａ
ＷをＹａｗ検出用レーザ測長器２１を用いて検出し、Ｙ
ａｗを生じたならば、Ｘ軸方向の２個の圧電素子アクチ
ュエータ１１．１２にＸ軸方向補正用のそれぞれ逆位相
の印加電圧を与えることにより微動テーブル６を角変位
させて上記のＹａｗを補正するものである。以上の説明
においては、圧電素子アクチュエータを用いた例につき
述べたが、何らこれに限ることなく、磁歪素子や電磁力
とばね力をつり合わせる電磁アクチーエータを用いても
同様の作用が得られる。
チュエータ１１．１２が設けであるが、通常は該両圧電
素子アクチ、エータに同一の制御信号を与えることによ
り、微動テーブル６に微少なθ角変位（Ｙａｗ ）を生
じることなく、Ｘ軸方向にのみ駆動できる。しかし縮小
投影露光装置のＸＹＹ料台に用いる場合には、微動テー
ブル６の極く僅かなＹａｗも許容できず、例えば１５０
ｍｍの可動範囲内において、±５ Ｘ ＩＦ’ ｒａｄ
以下のＹａｗであることが必要とされる。微動テーブル
のＹａｗを検出して修正する方法としては、−ｋｍ特開
昭５２−６００７４に示されたように支点を中心として
回転するテーブルを設けた公知例があるが、この発明に
おいては、第３図に示すように、微動テーブル６のＹａ
ＷをＹａｗ検出用レーザ測長器２１を用いて検出し、Ｙ
ａｗを生じたならば、Ｘ軸方向の２個の圧電素子アクチ
ュエータ１１．１２にＸ軸方向補正用のそれぞれ逆位相
の印加電圧を与えることにより微動テーブル６を角変位
させて上記のＹａｗを補正するものである。以上の説明
においては、圧電素子アクチュエータを用いた例につき
述べたが、何らこれに限ることなく、磁歪素子や電磁力
とばね力をつり合わせる電磁アクチーエータを用いても
同様の作用が得られる。
以上説明したように、この発明によれば、ＸＹ粗動台に
よって生じたＹａｗを、微動テーブルにより容易に補正
できるため、ＸＹ粗動台にはそれ程高（・案内精度が必
要とされず、従って安価に製作することができるという
効果がある。
よって生じたＹａｗを、微動テーブルにより容易に補正
できるため、ＸＹ粗動台にはそれ程高（・案内精度が必
要とされず、従って安価に製作することができるという
効果がある。
またＹａｗ検出用レーザ測長器を設けて常時Ｙａｗを検
出、補正せずに、ＸＹ粗動台の各ＸＹ座標におけるＹａ
ｗ値のマツプな予め測定の上、作成しておき、このデー
タをもとに微動テーブルを角変位させ、上記ＸＹ粗動台
のＹａｗを補正することもできるという効果も有する。
出、補正せずに、ＸＹ粗動台の各ＸＹ座標におけるＹａ
ｗ値のマツプな予め測定の上、作成しておき、このデー
タをもとに微動テーブルを角変位させ、上記ＸＹ粗動台
のＹａｗを補正することもできるという効果も有する。
第１図は、この発明の一実施例を示す斜視図、第２図は
、第１図のＹ軸における断面図、第３図は、第１図の実
施例の制御方法を示す図である。 符号の説明 １・・Ｘ粗動テーブル、２・・・Ｙ粗動テーブル、５・
・・弾性支柱、６・・・微動テーブル、７・・・オイル
、１１゜１２．１３・・・圧電素子アクチュエータ、１
７．１８・・・レーザ干渉測長器、１９．２０・・・閉
ループ制御回路、２１・・・ＹａＷ検出用レーザ測長器
、２２・・・Ｙａｗ閉ループ制御回路 代理人弁理士 中 村 純之助
、第１図のＹ軸における断面図、第３図は、第１図の実
施例の制御方法を示す図である。 符号の説明 １・・Ｘ粗動テーブル、２・・・Ｙ粗動テーブル、５・
・・弾性支柱、６・・・微動テーブル、７・・・オイル
、１１゜１２．１３・・・圧電素子アクチュエータ、１
７．１８・・・レーザ干渉測長器、１９．２０・・・閉
ループ制御回路、２１・・・ＹａＷ検出用レーザ測長器
、２２・・・Ｙａｗ閉ループ制御回路 代理人弁理士 中 村 純之助
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ｌｌ ＸＹ二次元に移動可能なＸＹ移動テーブルと
、該ＸＹ移動テーブル上にＸＹ二次元に微動可能なＸＹ
微動機構を設けた粗微動接合型ｘｙ移動装置において。 上記ＸＹ＠動機構が、微動テーブルと上記ＸＹ移動テー
ブルとの間に設けた平行案内機構と、上記ＸＹ移動テー
ブルと上記微動テーブルとの間に設けた少なくとも３個
の直進型伸縮機構とからなることを特徴とする超精密Ｘ
Ｙ移動装置。 （２） 上記直進型伸縮機構に圧電素子アクチーエー
タを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の超精密ＸＹ移動装置。 （３） 上記直進型伸縮機構のうち１個をＸ軸と平行
に配設し、他の直進型伸縮機構をお互いにＸ軸方向に有
限の距離だけ離してＹ軸方向に平行に記載の超精密ＸＹ
移動装置。 （４）上記平行案内機構が、少なくとも３本以上の弾性
支柱によって支えられる平行ばね案内機構からなり、さ
らに上記ＸＹ移動テーブルと上記微動テーブルとの間の
平行間隙内に、粘性を有する液体を介在させたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の超精密ｘｙ移動装
置。 （５）上記微動テーブルのＸ、Ｙ位置を検出するＸ、Ｙ
それぞれの位置検出器を備え、目標値に対する上記微動
テーブルの位置誤差に応じて上記直進型伸縮機構の伸縮
量を調整するように構成したことを特徴とする特許請求
の範囲第３項記載の超精密ＸＹ移動装置。 （６） 上記微動テーブルのＹａｗを検出する検出器
を備え、これにより検出したＹａｗに応じて上記直進型
伸縮機構のうち、互に平行に伸縮するように配置した２
個の直進型伸縮機構の伸縮量を逆位相となるように調整
すべく構成したことを特徴とする特許請求の範囲第３項
記載の超精密ＸＹ移動装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57181338A JPS5972135A (ja) | 1982-10-18 | 1982-10-18 | 超精密ｘｙ移動装置 |
| US06/436,721 US4492356A (en) | 1982-02-26 | 1982-10-26 | Precision parallel translation system |
| US06/542,991 US4575942A (en) | 1982-10-18 | 1983-10-18 | Ultra-precision two-dimensional moving apparatus |
| US07/709,317 US5142791A (en) | 1982-02-26 | 1991-06-03 | Apparatus for positioning sample |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57181338A JPS5972135A (ja) | 1982-10-18 | 1982-10-18 | 超精密ｘｙ移動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5972135A true JPS5972135A (ja) | 1984-04-24 |
Family
ID=16098945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57181338A Pending JPS5972135A (ja) | 1982-02-26 | 1982-10-18 | 超精密ｘｙ移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5972135A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61247026A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-04 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPS61251028A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPS6320848A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-28 | Canon Inc | 位置決め装置 |
| JPS6345819A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 投影露光装置におけるステ−ジ誤差測定装置 |
| JPS6370296U (ja) * | 1986-10-23 | 1988-05-11 | ||
| JPS63222204A (ja) * | 1987-03-11 | 1988-09-16 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 変位発生用アクチユエ−タの変位検出装置 |
| JPH0419033A (ja) * | 1990-05-11 | 1992-01-23 | Agency Of Ind Science & Technol | 微小位置決め装置 |
| JPH05259263A (ja) * | 1992-03-11 | 1993-10-08 | Nec Corp | Ｘｙ微動ステージ |
| KR20030094887A (ko) * | 2002-06-08 | 2003-12-18 | 정상화 | 초정밀 다축 위치제어장치 |
| KR100636298B1 (ko) | 2005-08-01 | 2006-10-19 | 조선대학교산학협력단 | 극초정밀 광소자 정렬 장치 |
| JP2009194384A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Asml Netherlands Bv | 可動サポート、位置制御システム、リソグラフィ装置、および、交換可能オブジェクトの位置を制御する方法 |
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| JP2013148395A (ja) * | 2012-01-17 | 2013-08-01 | Seiko Epson Corp | ハンドラーおよび検査装置 |
-
1982
- 1982-10-18 JP JP57181338A patent/JPS5972135A/ja active Pending
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