JPS5978552A - 半導体受光素子の製造方法 - Google Patents

半導体受光素子の製造方法

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JPS5978552A
JPS5978552A JP57189666A JP18966682A JPS5978552A JP S5978552 A JPS5978552 A JP S5978552A JP 57189666 A JP57189666 A JP 57189666A JP 18966682 A JP18966682 A JP 18966682A JP S5978552 A JPS5978552 A JP S5978552A
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JP
Japan
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chip
positioning
terminal
alignment
semiconductor
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JP57189666A
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JPS6317336B2 (ja
Inventor
Takeyumi Abe
阿部 剛弓
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0441—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は半導体素子の製造方法に係シ、特に機器に組込
む際に高精度位置合わせを必要とする半導体素子の製造
方法に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
機器に組込むときに高精度な位置合わせを必要とする半
導体素子としてはCOD 等の光学的半導体センサがあ
る1、これらは光学像が形成される位置に精度よく位置
決めして固定される必要があるからである。従来は第1
図に示すようにこのような半導体素子のパッケージ3と
してあらかじめ端部に切欠き部4を設けたものを用いる
。そしてダイマウント部のメタライズを半導体チップ1
の大きさにあわせて形成し、チップ1のマウント時に位
置合せを行なっている。
しかしながらこのような従来の方法では、セラミックパ
ッケージ3に切欠き部4を設けるときの位置精度(±0
.1ym+)と、パッケージ3にメタライズを形成する
ときの位置精度(±0.2+n+n)と、チップマウン
ト時の位置合せ精度(−0,1,1,11)トが重なム
最終的な精度が±0.3艶程度になってしまい、要求さ
れる±0.05mの位置精度が得られないという問題が
あった。このため機器に組込むときにあらためて光軸合
せ調整作業をおこなう必要があった。この調整作業は−
0,05mmの位置精度が要求されるため困難であり、
多くの調整時間を必要としていた。
〔発明の目的〕
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、機器に
組込むときにあらためて位置合せ調整作業を必要としな
い半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
この目的全達成するために本発明による半導体素子の製
造方法は、位置合せ用端子が設けられた外囲器に半導体
チップを固定した後に前記半導体チップの固定位置を基
準として前記位置合せ用端子に位置合せのための位置合
せ部を設けること全特徴とする。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明する。第2
図、第3図を用いてパッケージとして積層形セラミック
を用いた場合の一実施例を説明する。
(1)まず、積層形セラミックパッケージ8に位置合せ
用端子9をリード7と共にメクライズ層に銀ろう等で接
合する。この位置合せ用端子にはまだ切欠きが設けられ
ていない。
(2)次に半導体チップ1を半田、樹脂ベースト等の接
合材にて接合する。このときは特に高い位置精度は必要
とせず、通常のf#度でよい。その後チップ1の電極と
セラミックパッケージ8の電極とを極細線で接合し、透
明ガラヌ5を接着剤又は低融点ガラヌ6にて封止する。
このときの半導体素子は第2図に示す如くなる。
(3)次に第4図(a)に示す基準穴あけ装置によりす
でに固定されている半導体チップ1の位置全基準として
位置合せ用端子9に基準穴をあける。
この基準穴あけ装置では、顕微鏡21とガイド22およ
びポンチ23とが固定されておシ、顕微鏡21とポンチ
23との距離LL、”lは一定である。
本実施例では2つの基準穴をあけるためポンチ23は2
本である。−実生導体素子は、X方向、Y方向、回転方
向に自在に動かせるマニプレータU上に固定されている
。第4図(b)に示すように顕微鏡21で半導体素子の
チップ1を観察し、マニプレータ24を動かして、顕微
鏡2工の視野25の十字線26ヲチツブ1のセンサーラ
イン2にあわせる。十字線26をあわせる位置はあらか
じめ定めておく。十字線26があった状態でポンチ23
にて位置合せ用端子9に基準穴10をあける。この基準
穴10は位置合せ用端子9の真中にはあかない場合もあ
るが、チップlのセンサーライン21との相対的距離は
非常に高精度に保たれる。これはチップlを固定してか
ら、チップ1の位置にあわせて基準穴10全あけること
とするため、位置精度が基準穴あけ装置の精度のみで決
定されるためである。
第1の実施例では顕微鏡21にて目視観察して位置合せ
することとしているが、半導体素子が受光素子の場合状
のようにしてもよい。第4図(9)の顕微鏡21の位置
に光源を設け、受光素子に光を照射する。そのとき受光
素子がラインセンサであれば第5図に示すようにチップ
上で少なくとも2点のビンスポット31ヲ結ぶようにす
る。ラインセンサに測定器を接続し、マニプレータを動
かして、このラインセンサのあらかじめ定めた2つのセ
ンサビットの出力が所定(Uk超えるようにする。セン
サにピンスポットがちたればその出力が所定値全超える
こと金利用して位置合せ全おこなっている。
このようにして位置合せ全した状態で第1の実施例と同
様にポンチ23にて位置合せ用端子9に基準穴10をあ
ける。このようにセンサ出力全利用すれば、マニプレー
タを自動マニプレータとして、自動的に基準穴あけをす
−ることができる。
これまでの実施例は積層形セラミックパッケージによる
半導体素子に対してであったが、サーディツプタイプパ
ッケージや樹脂モールドタイプパッケージにも本発明を
適用することができる。第6図に示すのはサーディツプ
タイプパッケージの半導体素子である。位置合せ用端子
9およびり−ド7が固着されたベーク11にチップ1を
固定し、そしてセラミック伜12、透明ガランキャップ
14ヲ封着剤13にて封着する。第7図に示すのは樹脂
モールドタイプパッケージの半導体素子である。位置合
せ用端子9、リード7、チップ1を透明な樹脂15にて
モールドして半導体素子を形成する。このように形成さ
れfc牛導体素子をこれまでの笑施例と同様に基準穴あ
け装置にて位置合せをおこない、位置合せ端子9に基逢
穴10ヲあける。このように本実施例によれば、パッケ
ージ自体を高精度で形成で@々くとも、チップと基準穴
の相対的位置精度は基準穴あけ装置による高精度の加工
が可能である。
基準穴をあける位置合せ用端子は2枚でなくとも必要に
応じて1枚でも多数枚でもよい。また半導体素子はO(
3’D等の受光素子以外のどんな素子でもよいのはいう
までもなく、精密位置1合せが必要な半導体素子であれ
ば本発明を適用することができる。更にパッケージは前
述した以外のどんなパッケージでもよく、要は基準穴あ
けよりも先にチップと位置合せ用端子が固定できればよ
い。
〔発明の効果〕
以上の通シ、本発明によれば半導体素子の位置合せ用端
子の基準穴を、チップとの相対的位置において高精度に
あけることができ、この半導体素子全機器に組込むとき
にこの基準穴にてとりつければよく、あらためて位置合
せ調整作業をする必要がない。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は従来の半導体素子の斜視図、第1図(b
)は同素子の平面図、第1図(C)は同素子の断面図、
第2図は本発明の製造方法による積層形セラミックパッ
ケージの半導体素子の中間形状を示す側視図、第3図(
a)、(b)はそれぞれ最終形状を示す斜視図および断
面図、 第4図(a)は本発明の製造方法に用いる基準穴あけ装
置の構造図、第4図(b)は同装置による位置合せ方法
を説明するための図、第5図は能の位置合せ方法を説明
するだめの図、 第6図(a)、(b)はそれぞれ本発明の製造方法によ
るサーディツプタイプパッケージの半導体素子の最終形
状を示す斜視図および断面図、 第7図(a)、(b)はそれぞれ本発明の製造方法によ
る樹脂モールドタイプパッケージの半導体素子の最終形
状を示す斜視図および断面図である。 1・・・チップ、3.8・・・セラミックパッケージ、
4・・・基準切欠き部、5・・・透明ガラ7.6・・・
低融点ガラス、7・・・リード、9川位置合せ用端子、
1o・・・基準穴、11・・・ベーク、12川セラミツ
ク忰、13・・・接着剤、14・パ透明ガラヌキャップ
、】5・・・樹脂、21・・・空微鏡、22・・・ガイ
ド、23・・・ポンチ、24・・・マニプレータ、26
・・・十字線、31・・・ピンヌポット。 出願人代理人  猪 股   清 第1図 (Q)          (b)     (C)第
2図 第4図 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 位置合せ用端子が設けられた外囲器に半導体チップを固
    定した後に、前記半導体チップの固定位置を基準として
    前記位置合せ用端子に位置合せのための位置合せ部を設
    けることを特徴とする半導体素子の製造方法。
JP57189666A 1982-10-28 1982-10-28 半導体受光素子の製造方法 Granted JPS5978552A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57189666A JPS5978552A (ja) 1982-10-28 1982-10-28 半導体受光素子の製造方法

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57189666A JPS5978552A (ja) 1982-10-28 1982-10-28 半導体受光素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5978552A true JPS5978552A (ja) 1984-05-07
JPS6317336B2 JPS6317336B2 (ja) 1988-04-13

Family

ID=16245138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57189666A Granted JPS5978552A (ja) 1982-10-28 1982-10-28 半導体受光素子の製造方法

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JP (1) JPS5978552A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01169029U (ja) * 1988-05-19 1989-11-29
JPH0611670U (ja) * 1991-05-14 1994-02-15 株式会社マテックマツザキ 鋏の枢着ネジ軸

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56144562A (en) * 1980-04-11 1981-11-10 Hitachi Ltd Apparatus for manufacturing base for ceramic package

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS6317336B2 (ja) 1988-04-13

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