JPS5979524A - 試料保持用静電チヤツクカセツト装置 - Google Patents
試料保持用静電チヤツクカセツト装置Info
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- JPS5979524A JPS5979524A JP57190101A JP19010182A JPS5979524A JP S5979524 A JPS5979524 A JP S5979524A JP 57190101 A JP57190101 A JP 57190101A JP 19010182 A JP19010182 A JP 19010182A JP S5979524 A JPS5979524 A JP S5979524A
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- Japan
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- sample
- cassette
- electrostatic chuck
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- inner frame
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技ヤｌＦｒ分野〕
本発明は、微細加工に供される試料を固定保持するカセ
ット装置の改良に係わり、詳しくは静電チャック機能を
備えた試料保持用静電チャックカセット装置に関する。
ット装置の改良に係わり、詳しくは静電チャック機能を
備えた試料保持用静電チャックカセット装置に関する。
近時、半導体ウェハやマスク基板等の試料に微細パター
ンを形成するものとして、細く絞った電子ビームでパタ
ーンを描画する電子ビーム描画装置が開発されている。
ンを形成するものとして、細く絞った電子ビームでパタ
ーンを描画する電子ビーム描画装置が開発されている。
この装置では、第１図に示す如く試料室１内に移動自在
に設けられた試料台２上に描画すべき試料３が、に＋２
置される。そして、試料室１内を真空排気した状態で、
電子銃４から放射される電子ビームを電子光学鏡筒５で
収束・加速・偏向することによって、試料３上に所望の
ノターンが描画される。試別３は試料室１にダートバル
ブ６を介して連通された予備室７から出入れされる。こ
こで、試料３は一般に湧くで割れ易いものであシ、その
取扱いには十分な注意が必要である。このため、従来第
２図に示す如きカセット８を用い、このカセット８に試
料３を固定保持して前記４’＋（）１ｊ！ｉを行ってい
る。
に設けられた試料台２上に描画すべき試料３が、に＋２
置される。そして、試料室１内を真空排気した状態で、
電子銃４から放射される電子ビームを電子光学鏡筒５で
収束・加速・偏向することによって、試料３上に所望の
ノターンが描画される。試別３は試料室１にダートバル
ブ６を介して連通された予備室７から出入れされる。こ
こで、試料３は一般に湧くで割れ易いものであシ、その
取扱いには十分な注意が必要である。このため、従来第
２図に示す如きカセット８を用い、このカセット８に試
料３を固定保持して前記４’＋（）１ｊ！ｉを行ってい
る。
ところで、電子ビーム描画装置を用いた微細パターン形
成技術では、半導体装置の畠舵度化及び高隼積化に伴い
描くべき・ぐターンの最小寸法が１ミクロン若しくはザ
ブミクロンと極めて小さくなり、試料の反り等による電
子ビームの焦点ずれが生じ、これが描画ＮｊＫを低下さ
せる要因となっている。このため、試料表面を平坦に保
持する必要が生じている。
成技術では、半導体装置の畠舵度化及び高隼積化に伴い
描くべき・ぐターンの最小寸法が１ミクロン若しくはザ
ブミクロンと極めて小さくなり、試料の反り等による電
子ビームの焦点ずれが生じ、これが描画ＮｊＫを低下さ
せる要因となっている。このため、試料表面を平坦に保
持する必要が生じている。
試料表面を平坦に保持する手法の１例として、特公昭５
３−１８９６９号公報に記載されているように、描画前
に試料の裏面を平坦な基準面に接着剤を用いて接着する
方法がある。しかし、この方法では試料を基準面に接着
する煩雑さ、さらに描画後接着剤を剥がさなければなら
ない等のプロセスに与える負担が大きく、実際の生産現
場に採用できるものではない。１だ、別の手法として靜
′市チャックを用いて試料を平坦な面に固定保持する方
法があシ、この方法は真空中でも使用でき試別の脱着も
′極めて容易である。
３−１８９６９号公報に記載されているように、描画前
に試料の裏面を平坦な基準面に接着剤を用いて接着する
方法がある。しかし、この方法では試料を基準面に接着
する煩雑さ、さらに描画後接着剤を剥がさなければなら
ない等のプロセスに与える負担が大きく、実際の生産現
場に採用できるものではない。１だ、別の手法として靜
′市チャックを用いて試料を平坦な面に固定保持する方
法があシ、この方法は真空中でも使用でき試別の脱着も
′極めて容易である。
このような静電チャックに関しては、例えは特開昭５５
−１４５３５１号公報、英国唱゛許第１４４３２１号、
文献としてＲ，ｗａｒｄ ；Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ
１ｎｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｍａｇｅ ｐｒｏｄｕｃｔ
ｉｏｎ 、 Ｊ、Ｖａｃ、ｓｃｉ。
−１４５３５１号公報、英国唱゛許第１４４３２１号、
文献としてＲ，ｗａｒｄ ；Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ
１ｎｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｍａｇｅ ｐｒｏｄｕｃｔ
ｉｏｎ 、 Ｊ、Ｖａｃ、ｓｃｉ。
Ｔｅｃｈｎｏｌ １６ （６） １９７９等がある。し
かし、これらの特許は静π４、チャックの製作方法及び
使用方法について述べたものであり、また文献では静電
チャックは試料台上に固定されておシ、試料を直接試別
台上に送るか、或いは試別台を試料室外に取り出さなけ
ればならない。このため、操作性が悪く実用的でない。
かし、これらの特許は静π４、チャックの製作方法及び
使用方法について述べたものであり、また文献では静電
チャックは試料台上に固定されておシ、試料を直接試別
台上に送るか、或いは試別台を試料室外に取り出さなけ
ればならない。このため、操作性が悪く実用的でない。
このように従来、試料を固定保持して真空中の試第１台
上に搬送する静電チャック内蔵のカセット構造について
は、何ら述べられていないのである。さらに、この種の
カセットにおいては、試料の位置決めのだめの位置決め
様構、侍ト軍チャックに供給する電圧の絶縁方法等の全
てを満足する構造は未だ開発されていない。
上に搬送する静電チャック内蔵のカセット構造について
は、何ら述べられていないのである。さらに、この種の
カセットにおいては、試料の位置決めのだめの位置決め
様構、侍ト軍チャックに供給する電圧の絶縁方法等の全
てを満足する構造は未だ開発されていない。
本発明の目的は、電子ビーム描画装置等の慮細加工装置
に使用可能な静電チャック内蔵のカセット構造を実現し
、操作性の向上をはかり得る試料保持用静電チャックカ
セット装置を提供することにある。
に使用可能な静電チャック内蔵のカセット構造を実現し
、操作性の向上をはかり得る試料保持用静電チャックカ
セット装置を提供することにある。
本発明の骨子は、試料を静電チャックするだめの、静電
チャック板をカセット本体内に収容保持し、この静電チ
ャック板とカセット本体とを確実に絶縁すると共に、試
料の平坦度及び設定位置を保持することにある。
チャック板をカセット本体内に収容保持し、この静電チ
ャック板とカセット本体とを確実に絶縁すると共に、試
料の平坦度及び設定位置を保持することにある。
すなわち本発明は、微細加工に供される試料を固定保持
し微細加工装ｆ灯の試料台上に搬送載置される試料保持
用カセット装置において、導電性基板の全面を一部端子
を除いて絶縁誘電層で被欅してなりその表面に上記試料
が載置される静１４Ｊ、チャ、り板と、との静電チャッ
ク板を収容保持するカセット本体と、このカセット本体
と上記静１１１；チャック板の裏面との間に設けられ上
記静電チャ、り板を前り己試料側に押圧する弾性部材と
、上記カセット本体の基準面に５ｆｔ脱自在に取１ｍ−
され前記試料の上面に当接して試料面の高さを規定する
押え治具と、前記カセット本体の一部に固定され前記試
料に当接して該試料の位ｉハ″を規定する位置決め部材
と、前記ｔｊＰ電チャック板を回１ｔＩｂ Ｌ前記試料
の傾きを補正する回動機構と、前記静電チャック板の導
電性基板とｍＪ記試料との間に電圧を印加する手段とを
設けるようにしたものである。
し微細加工装ｆ灯の試料台上に搬送載置される試料保持
用カセット装置において、導電性基板の全面を一部端子
を除いて絶縁誘電層で被欅してなりその表面に上記試料
が載置される静１４Ｊ、チャ、り板と、との静電チャッ
ク板を収容保持するカセット本体と、このカセット本体
と上記静１１１；チャック板の裏面との間に設けられ上
記静電チャ、り板を前り己試料側に押圧する弾性部材と
、上記カセット本体の基準面に５ｆｔ脱自在に取１ｍ−
され前記試料の上面に当接して試料面の高さを規定する
押え治具と、前記カセット本体の一部に固定され前記試
料に当接して該試料の位ｉハ″を規定する位置決め部材
と、前記ｔｊＰ電チャック板を回１ｔＩｂ Ｌ前記試料
の傾きを補正する回動機構と、前記静電チャック板の導
電性基板とｍＪ記試料との間に電圧を印加する手段とを
設けるようにしたものである。
本発明によれば、静電チャック機能を備えたカセット４
１゛・￥造を実現しているので、試料の反りを確実に除
去した状態で微細加工等に試料を供することができ、か
つその操作性を極めて容易にすることができる。捷だ、
静電チャック板として導電性基板の略全面を絶縁誘電層
で被接した構造としているので、安全性にも優れている
。
１゛・￥造を実現しているので、試料の反りを確実に除
去した状態で微細加工等に試料を供することができ、か
つその操作性を極めて容易にすることができる。捷だ、
静電チャック板として導電性基板の略全面を絶縁誘電層
で被接した構造としているので、安全性にも優れている
。
さらに、弾性部材で静電チャック板の上下移動を許容し
ているので、試料の厚さ変化による試料描画面の高さ変
化を吸収することができる。
ているので、試料の厚さ変化による試料描画面の高さ変
化を吸収することができる。
また、位置決め部材及び回動機構を設けているので、試
料の位置ずれや傾き等を確実に補正することができる。
料の位置ずれや傾き等を確実に補正することができる。
さらに、全体構成を小型化することができ、電子ビーム
描画装置等の微細加工装置に適用して極めて有用性が高
い等の効果が得られる。
描画装置等の微細加工装置に適用して極めて有用性が高
い等の効果が得られる。
第３図は本発明の一実施例の析（、略構成を一部切欠し
て示す平面図であり、第４図は第３図の矢視Ａ−Ａ断面
を示す図である。カセット本体１０はカセット外枠１１
と、この外枠１）内に配置される円環状のカセット内枠
１２とから構成されている。カセット内枠１２はその底
部とカセット外枠１１との間に設けられだスプリング１
３により上方向に押圧され、その一部（少なくとも３点
）がカセット外枠１１の基準面に押し付けられて固定保
持されている。カセット内枠１２の一部はビン１４を介
してカセット外枠１１の底部に回動自在に取着されてい
る。カセット内枠１２の側面とカセット外枠１１の左側
部との間にはスプリング１５が設けられ、このスプリン
グ１５によシカセット内枠１２は右方向に押圧されてい
る。寸だ、カセット外枠１１の右側部にはその先端がカ
セット内枠１２の側面に当接するｈｌ＾ｊ整用ボルト１
６が螺合されており、この日？ルト１６によりカセット
内枠１２は上記抑圧に抗して左方向に付勢されている４
、そして、ボルト１６のねじ込みによって、カセット内
枠１２は前記ビン１４を中心に回動するものとなってい
る。つまり、ビン１４．スプリング１５及びＭｌ＋１ｊ
整用ボルト１６からなる回動機構によって、カセット内
枠１２が回動され、その傾きが±ＩＸ１．０ ［ｒａ
ｄ：］の範囲で補正されるものとなっている。
て示す平面図であり、第４図は第３図の矢視Ａ−Ａ断面
を示す図である。カセット本体１０はカセット外枠１１
と、この外枠１）内に配置される円環状のカセット内枠
１２とから構成されている。カセット内枠１２はその底
部とカセット外枠１１との間に設けられだスプリング１
３により上方向に押圧され、その一部（少なくとも３点
）がカセット外枠１１の基準面に押し付けられて固定保
持されている。カセット内枠１２の一部はビン１４を介
してカセット外枠１１の底部に回動自在に取着されてい
る。カセット内枠１２の側面とカセット外枠１１の左側
部との間にはスプリング１５が設けられ、このスプリン
グ１５によシカセット内枠１２は右方向に押圧されてい
る。寸だ、カセット外枠１１の右側部にはその先端がカ
セット内枠１２の側面に当接するｈｌ＾ｊ整用ボルト１
６が螺合されており、この日？ルト１６によりカセット
内枠１２は上記抑圧に抗して左方向に付勢されている４
、そして、ボルト１６のねじ込みによって、カセット内
枠１２は前記ビン１４を中心に回動するものとなってい
る。つまり、ビン１４．スプリング１５及びＭｌ＋１ｊ
整用ボルト１６からなる回動機構によって、カセット内
枠１２が回動され、その傾きが±ＩＸ１．０ ［ｒａ
ｄ：］の範囲で補正されるものとなっている。
一方、静電チャック板１７はＡｔやＣｕ等のｄ７電性基
板１８の全面を酸化膜等の絶縁ｄタタミ層１９でネ反＋
ｔＭ してなるもので、この前十′出゛、チャック板１
８ばその上面に試料２０を載置して前記カセット内枠１
２内に固定保持される。すなわち、静電チャック板１７
はその裏面とカセット内枠１２の底部との間に設けられ
だ板ばね（弾性部材）２１によυ上方向に押圧され、試
料２０の上面を押え治具２２に押し付けて固定保持され
ている。押え治具２２は円環状の板体からなるもので、
カセット内枠１２の上面（基準■１）に滑脱自在に取着
されている。また、カセット内枠１２の内面には、試料
２０の１＋ｌＩ ｌｉｉに当接して試料２０の位置を規
定する３個のローラ（位置決め部材）２３が設けられて
いる。寸だ、静電チャック板１７の下面中央部にはボル
ト宿からなる型締端子２４がねじ込まれており、この端
子２４はリード線２５を介してカセット外枠１ノの底部
に設けられた接点２６に接続されている。なお、図中２
７は絶縁物、２８は流孔を示している。
板１８の全面を酸化膜等の絶縁ｄタタミ層１９でネ反＋
ｔＭ してなるもので、この前十′出゛、チャック板１
８ばその上面に試料２０を載置して前記カセット内枠１
２内に固定保持される。すなわち、静電チャック板１７
はその裏面とカセット内枠１２の底部との間に設けられ
だ板ばね（弾性部材）２１によυ上方向に押圧され、試
料２０の上面を押え治具２２に押し付けて固定保持され
ている。押え治具２２は円環状の板体からなるもので、
カセット内枠１２の上面（基準■１）に滑脱自在に取着
されている。また、カセット内枠１２の内面には、試料
２０の１＋ｌＩ ｌｉｉに当接して試料２０の位置を規
定する３個のローラ（位置決め部材）２３が設けられて
いる。寸だ、静電チャック板１７の下面中央部にはボル
ト宿からなる型締端子２４がねじ込まれており、この端
子２４はリード線２５を介してカセット外枠１ノの底部
に設けられた接点２６に接続されている。なお、図中２
７は絶縁物、２８は流孔を示している。
このような構成であれば、前記第４図に示した状態でカ
セット本体１ｏと接点２６との間に高’［１＞’、圧（
例えば４００Ｖ ）を印加することによって、静電チャ
ック板１７の導電性基板１８と試料２０との間に上記高
電圧が印加され、試料２０は静電チャック板１７上に静
電チャックされることになる。したがって、試料２ｏを
カセット本体１θ内に固定保持した状態で試料２゜の反
りを除去することができる。
セット本体１ｏと接点２６との間に高’［１＞’、圧（
例えば４００Ｖ ）を印加することによって、静電チャ
ック板１７の導電性基板１８と試料２０との間に上記高
電圧が印加され、試料２０は静電チャック板１７上に静
電チャックされることになる。したがって、試料２ｏを
カセット本体１θ内に固定保持した状態で試料２゜の反
りを除去することができる。
水袋ｊ１・″を’Ｆｔ（ｒ子ビーム描画装備°に使用す
る場合、まず前記押え治具２２をカセット内枠１２がら
取り外し、試料２ｏをｆ？ｐ電チャック板１７上に前記
ローラ２３に押し当てるようにして置く。
る場合、まず前記押え治具２２をカセット内枠１２がら
取り外し、試料２ｏをｆ？ｐ電チャック板１７上に前記
ローラ２３に押し当てるようにして置く。
その後、押え治具２２をカセット内枠１２に固定し、カ
セット本体１ｏと接点２６との間に高電圧を印加して試
料２°０を静電チャック板１７上に吸着せしめる。次い
で、電圧を切りカセット本体１０を前記予備室ｚ内に収
納する。この予備室７内では、上記カセット本体１ｏと
接点２６との間に高電圧が印加されるものとなっている
。試料室１内の試料台２上には、第３図に示る如く搬送
用アーム２９を用いてカセット本体１０を送り込むが、
この間は電圧の供給が中断される。試料台２上には電極
端子３ｏが設けられており、試料台２上にカセット本体
１ｏが載置されると、電極端子３ｏと接点２６とが接触
し、接点２６とカセット本体１ｏとの間に高電圧が印加
される。このように、電圧の供給が中断しても再ひ電圧
が印加されると、試料２゜の平坦度が最初の状態になる
ことが確認された。
セット本体１ｏと接点２６との間に高電圧を印加して試
料２°０を静電チャック板１７上に吸着せしめる。次い
で、電圧を切りカセット本体１０を前記予備室ｚ内に収
納する。この予備室７内では、上記カセット本体１ｏと
接点２６との間に高電圧が印加されるものとなっている
。試料室１内の試料台２上には、第３図に示る如く搬送
用アーム２９を用いてカセット本体１０を送り込むが、
この間は電圧の供給が中断される。試料台２上には電極
端子３ｏが設けられており、試料台２上にカセット本体
１ｏが載置されると、電極端子３ｏと接点２６とが接触
し、接点２６とカセット本体１ｏとの間に高電圧が印加
される。このように、電圧の供給が中断しても再ひ電圧
が印加されると、試料２゜の平坦度が最初の状態になる
ことが確認された。
かくして本実施例によれば、静電チャック内蔵のカセッ
ト構造を実現することができ、その操作性の向上をはか
Ｄ イ４）る。また、試料２ｏの平坦度を保持でき、か
つ試料の位渦出しを６７Ｆ実に行い得る。さらに、安全
性にも優れる等の利点があり、電子ビーム描画装置に使
用して極めて高い有用性を有するものである。
ト構造を実現することができ、その操作性の向上をはか
Ｄ イ４）る。また、試料２ｏの平坦度を保持でき、か
つ試料の位渦出しを６７Ｆ実に行い得る。さらに、安全
性にも優れる等の利点があり、電子ビーム描画装置に使
用して極めて高い有用性を有するものである。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。例えば、前記静電チャック板を４＋１々成する導電
性基板及び絶縁誘電層の材質は側ら実施例に限定される
ものではなく、仕様に応じて適宜変更可能である。また
、静電チャック板を回動する回動機構、静電チャック板
を試別側に押圧する弾性部材の種類、さらには静電チャ
ック板からの電極取出し手段等も各ｆ！Ｉｆ変形するこ
とが可能である。また、電子ビーム露光装置に限らず、
各種の微細加工装備′に適用できるのも勿論のことであ
る。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変
形して実施することができる。
い。例えば、前記静電チャック板を４＋１々成する導電
性基板及び絶縁誘電層の材質は側ら実施例に限定される
ものではなく、仕様に応じて適宜変更可能である。また
、静電チャック板を回動する回動機構、静電チャック板
を試別側に押圧する弾性部材の種類、さらには静電チャ
ック板からの電極取出し手段等も各ｆ！Ｉｆ変形するこ
とが可能である。また、電子ビーム露光装置に限らず、
各種の微細加工装備′に適用できるのも勿論のことであ
る。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変
形して実施することができる。
第１図は電子ビーム露光装置の概略構成を示す模式図、
第２図は上記装置に使用される従来カセットを示す平面
図、第３図は本発明の一実施例に係わる試料保持用静電
チャックカセット装置６のｌｉｔ略構成を一部切欠して
示す平面図、第４図は第３図の矢視Ａ−Ａ断面を示す図
、第５図は上記実施例装置を電子ビーム露光装置に使用
した例を示す模式図である。 １０・・・カセット本体、１ノ・・・カセット外枠、１
２・・・カセット内枠、１４・・・ピン、１５・・・ス
プリング、１６・・・ｉＪ：’、！整用ボルト、１７・
・・静電チャック板、１８・・・嗜；電性基板、１９・
・・絶祿誘１１１１層、２０・・・試料、２１・・・板
ばね（弾性部材）、２２・・・押え治具、２３・・・ロ
ーラ（位置決め部材）、２４．３０・・・電極端子、２
５・・・リードに６）、２６・・・接点。
第２図は上記装置に使用される従来カセットを示す平面
図、第３図は本発明の一実施例に係わる試料保持用静電
チャックカセット装置６のｌｉｔ略構成を一部切欠して
示す平面図、第４図は第３図の矢視Ａ−Ａ断面を示す図
、第５図は上記実施例装置を電子ビーム露光装置に使用
した例を示す模式図である。 １０・・・カセット本体、１ノ・・・カセット外枠、１
２・・・カセット内枠、１４・・・ピン、１５・・・ス
プリング、１６・・・ｉＪ：’、！整用ボルト、１７・
・・静電チャック板、１８・・・嗜；電性基板、１９・
・・絶祿誘１１１１層、２０・・・試料、２１・・・板
ばね（弾性部材）、２２・・・押え治具、２３・・・ロ
ーラ（位置決め部材）、２４．３０・・・電極端子、２
５・・・リードに６）、２６・・・接点。
Claims (4)
- （１） 倣＃Ｉｌｌ加工に供される試料を固定保持し
微細加工装（ｉｔの試料台上に搬送載置される試料保持
用カセット装信において、導電性基板の全面を一部端子
を除いて絶縁誘電層で技棟してなりその表面に」二泥試
料が載置される静電チャック板と、この静電チャック板
を収容保持するカセット本体と、このカセット本体と上
記靜′屯チャック板の黒面との間に設けられ上記？＃電
チャック板を前記試料側に押圧する弾性部材と、上記カ
セット本体の基準面に着脱自在に取着され前記試料の上
面に当接して試料面の高さを規定する押え治具と、前記
カセット本体の一部に固定され前記試料に側方から当接
して該試料の位置を規定する付置決め部材と、前記静電
チャック板を回動し前記試料の傾きを補正する回動機＋
ｔＪｊと、前記静電チャック板の導電性基板と前記試料
との間に電圧を印加する手段とを具（＋Ｎｆ してなる
ことを特徴とする試料保持用静電チャノクカセ ッ ト
装Ｒ鳴゛ 。 - （２）前記位置決め部材は、前記試料の側面に当接する
袂数個の一ン或いはローラからなるものであることを特
徴とする特ＪＰ請求の睡四２１３１項記載の試ｆｌ保持
用静電チャックカセット装信。 - （３）前記回動機１４々は、前記Ａ／ｆ、電チャ、り板
を保持した前記カセット本体の内枠の一部を前記カセッ
ト本体の外枠に回動自在にＭ・１定するピン、上記内枠
と外枠との間に設けられ内枠を一方向に押圧する弾性部
材、及び上記外枠に螺合され上記内枠を上記弾性部材の
抑圧に抗して付勢するねじからなるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の試料保持用静′６
チヤツクカセツト装置。 - （４）前記電圧を印加する手段は、前ｊ１３ Ｙｒｆ’
電チャック板の導電性基板にリード端子を接続すると共
に前記試料台上に電極端子を設置し、これらリード端子
及び電極端子を接触させた状態で、上記電極端子と前記
カセット本体との間に電圧を印加するものであることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の試料保持用静電
チャックカセット装置１宵。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57190101A JP2633516B2 (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | 試料加工装置および試料搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57190101A JP2633516B2 (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | 試料加工装置および試料搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5979524A true JPS5979524A (ja) | 1984-05-08 |
| JP2633516B2 JP2633516B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=16252387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57190101A Expired - Lifetime JP2633516B2 (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | 試料加工装置および試料搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2633516B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61181126A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-13 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置用試料保持具 |
| JPS62172149U (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-31 | ||
| JP2007266361A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nuflare Technology Inc | 基板のアース機構及び荷電粒子ビーム描画装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3894562B2 (ja) | 2003-10-01 | 2007-03-22 | キヤノン株式会社 | 基板吸着装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54151175U (ja) * | 1978-04-14 | 1979-10-20 | ||
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-
1982
- 1982-10-29 JP JP57190101A patent/JP2633516B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
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|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61181126A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-13 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置用試料保持具 |
| JPS62172149U (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-31 | ||
| JP2007266361A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nuflare Technology Inc | 基板のアース機構及び荷電粒子ビーム描画装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2633516B2 (ja) | 1997-07-23 |
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