JPS598258B2 - ヘキサメチレンジアミンの製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は２−ニトロシクロヘキサノン及び／又はそのエ
ノール型異性体を水添アミノ化させてヘキサメチレンジ
アミンを製造する方法に関し、詳しくは、２−ニトロシ
クロヘキサノン及び／又はそのエノール型異性体を特定
の触媒を用いて水素添加すると同時にアミノ化すること
によりヘキサメチレンジアミンを製造する方法に関する
ものである。

ヘキサメチレンジアミンはナイロンー６・６の原料とし
て重要な物質である。

従来、ヘキサメチレンジアミンは、その大部分がアジピ
ン酸を経由して製造されるが、製造工程が長くコスト高
である。

また、アクリロニトリルの水添二量化も知られているが
、プロビオニトリルが多量に副生する欠点をもつている
。更に、アクリロニトリルの電解二量化では、かなりの
好収率でアジポニトリルが製造されるが、電解槽を使用
する場合に特有な問題、すなわち電解槽に関する限り容
量を増加させるとそれに比例して設備費も増加すること
と動力費が高くなるという問題をかかえている。

本発明者らは、これら従来法の欠点を除くため鋭意研究
した結果、２−ニトロシクロヘキサノンを特定の触媒の
存在下で水添アミノ化することにより工業的有利にヘキ
サメチレンジアミンが製造できることを見出し、本発明
に至つた。

すなわち、本発明は、２−ニトロシクロヘキサノン及び
／又はそのエノール型異性体をそのまま、あるいは適当
な溶媒で希釈してレニウム触媒の存在下で、水素及びア
ンモニアと反応させることを特徴とするものである。

本発明で使用される２−ニトロシクロヘキサノンは、例
えば、シクロヘキサンに酸素と二酸化窒素を作用させる
か、または、１−アセチルオキシシクロヘキセンを硝酸
でニトロ化することにより製造される。

本発明方法に使用される有機希釈剤としては、生成する
ヘキサメチレンジアミンと蒸留、晶析などの単一操作に
よつて簡単に分離しうる性質を有する有機溶剤、例えば
ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シ
クロヘキサン、シクロオクタンなどの脂環式炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素ま
たは、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどの脂肪族または芳香族エ
ーテル類が使用可能である。

反応に用いられるレニウム触媒としては、レニウム末、
レニウム黒、炭素などの担体に担持されたレニウム、七
酸化ニレニウム、七硫化ニレニウムなどのレニウム化合
物が挙げられる。

本発明において副原料として用いる水素およびアンモニ
アは、原料である２−ニトロシクロヘキサノン及び／又
はそのエノール型異性体に対してそれぞれ５〜５０倍モ
ル使用するのが望ましい。

反応は、通常、２−ニトロシクロヘキサノン及び／又は
そのエノール型異性体にアンモニアを作用させた後、水
素を添加することにより行われる。反応温度は特に限定
されないが、通常は、１００〜２５０℃が用いられる。

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。

実施例 １ ２−ニトロシクロヘキサノン１．４３ｙ（０．０１ｍ０
１）を１０ＣＣのジオキサンと共に１００ＣＣのオート
クレーブに加え、さらに６．４７（０．３７６ｍ０１）
の液体アンモニアと５０ηのレニウム末を加えた後、水
素ガスを７０ｋｇ／Ｃｒｌｉ充填し反応温度２００℃で
最高圧１４５ｋｇ／Ｃｄを示し、同温度で３時間反応を
行なつた。

反応終了後、反応混合物を口過して触媒を除去し、口液
のガスクロマトグラフイ一による分析から０．５４ｔ（
収率４７％）のヘキサメチレンジアミンの生成を確認し
た。また、反応副生成物として０．３７（収率２３％）
のω−アミノカプロン酸アミドを単離した。このものは
還元によりヘキサメチレンジアミンに変え得るものであ
る。実施例 ２ １．４３ｙ（０．０１ｍ０１）の２−ニトロシクロヘキ
サノンを１０ＣＣのジオキサンに溶かして１００ｃＣの
オートクレーブに加え、さらに２１（０１２ｍ０１）の
液体アンモニアと５０〜のレニウム黒を加えた後、水素
ガスを８０ｋｇ／ＣｒＡ充填し、反応温度１５０℃で最
高圧１２０ｋｇ／ＣｒＡを示し同温度で３時間反応をお
こなつた。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ レニウム触媒の存在下、２−ニトロシクロヘキサノ
   ン及び／又はそのエノール型異性体を水素及びアンモニ
   アと反応させることを特徴とするヘキサメチレンジアミ
   ンの製造法。