JPS59843A - 走査形電子顕微鏡 - Google Patents
走査形電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPS59843A JPS59843A JP57111017A JP11101782A JPS59843A JP S59843 A JPS59843 A JP S59843A JP 57111017 A JP57111017 A JP 57111017A JP 11101782 A JP11101782 A JP 11101782A JP S59843 A JPS59843 A JP S59843A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- electron
- electron beam
- scanning
- gun
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/266—Measurement of magnetic or electric fields in the object; Lorentzmicroscopy
- H01J37/268—Measurement of magnetic or electric fields in the object; Lorentzmicroscopy with scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
０）０発明の技術分野
本発明は、試料の内部電圧の測定に際し、その絶縁層表
面に現われる電位を平衡させる手段を設けた走査形電子
顕微鏡に関する。
面に現われる電位を平衡させる手段を設けた走査形電子
顕微鏡に関する。
（２）、技術の背景
従来、被検査集積回路が正常なものであるか否かの判別
に走査形電子顕微鏡が用いられている。その技法として
は、標準集積回路と被検査集積回路とを走査形電子顕微
鏡の試料室内に納め、これら集積回路の対応箇所を電子
ビームで照射し、そこから生ずる２次電子信号を陰極線
管表示装置に表示し、そこに表示されている電圧像を比
較照合する如きものである。
に走査形電子顕微鏡が用いられている。その技法として
は、標準集積回路と被検査集積回路とを走査形電子顕微
鏡の試料室内に納め、これら集積回路の対応箇所を電子
ビームで照射し、そこから生ずる２次電子信号を陰極線
管表示装置に表示し、そこに表示されている電圧像を比
較照合する如きものである。
このような判別に供される集積回路が多層集積回路であ
る場合に、従来形式の電子顕微鏡の電子光学鏡筒からの
電子ビームを集積回路の走査領域に、単に、照射しただ
けでは、多層集積回路の表層以外の下層を形成している
集積回路部分の電圧の影響が上述の電圧像に現われてし
まい、首尾よい電圧像の比較をなし得なくするので、こ
のような不具合を解決しうる技術的手段の開発が切望さ
れている。
る場合に、従来形式の電子顕微鏡の電子光学鏡筒からの
電子ビームを集積回路の走査領域に、単に、照射しただ
けでは、多層集積回路の表層以外の下層を形成している
集積回路部分の電圧の影響が上述の電圧像に現われてし
まい、首尾よい電圧像の比較をなし得なくするので、こ
のような不具合を解決しうる技術的手段の開発が切望さ
れている。
（３）、従来技術と問題点
上述のような走査形電子顕微鏡においては、口
集積回路表面は数百μｔｎの領域内を順次電子ビームに
よって偏向走査する。この電子ビ−ムを受けた集積回路
のアルミニウム配線パターンはそこ妊印加されている電
圧値に応じた数の二次電子が放出される。集積回路が多
層に形成されている場合、下層の絶縁膜部もその下の電
極電圧を反映してその電圧に応じた二次電子を放出する
。このような状況において、電子ビームを受ける絶縁物
のチャージアップ状態が電子ビームに応じて変化してし
まい、そ０部分の電位状態に変化を生せしめる。
よって偏向走査する。この電子ビ−ムを受けた集積回路
のアルミニウム配線パターンはそこ妊印加されている電
圧値に応じた数の二次電子が放出される。集積回路が多
層に形成されている場合、下層の絶縁膜部もその下の電
極電圧を反映してその電圧に応じた二次電子を放出する
。このような状況において、電子ビームを受ける絶縁物
のチャージアップ状態が電子ビームに応じて変化してし
まい、そ０部分の電位状態に変化を生せしめる。
その結果として、二次電子強度を反映した電圧像は安定
性に欠けることとなり、上述の如き電圧像の比較に支障
を来たす。
性に欠けることとなり、上述の如き電圧像の比較に支障
を来たす。
（４）０発明の目的
本発明は上述のようが技術的課題に鑑みて創案されたも
ので、その目的は集積回路のような試料の表面絶縁物の
電位を電子ビームによる走査に先立って平衡させて表層
下の電圧像を消去し、表層の電圧パターンだけを取込み
つるようにした走査形電子顕微鏡を提供することにある
。
ので、その目的は集積回路のような試料の表面絶縁物の
電位を電子ビームによる走査に先立って平衡させて表層
下の電圧像を消去し、表層の電圧パターンだけを取込み
つるようにした走査形電子顕微鏡を提供することにある
。
（５）０発明の構成
そして、この目的は試料室内に置かれた試料上に電子光
学鏡筒からの電子ビームを照射する走査形電子顕微鏡に
おいて、上記試料上方であって上記電子ビームの走査を
防害しない位置に、電子ビーム走査領域を一様な電子シ
ャワーで照射しつるフラッドガンを設けることによって
達成される。
学鏡筒からの電子ビームを照射する走査形電子顕微鏡に
おいて、上記試料上方であって上記電子ビームの走査を
防害しない位置に、電子ビーム走査領域を一様な電子シ
ャワーで照射しつるフラッドガンを設けることによって
達成される。
（６）０発明の実施例
以下、添付図面を参照しながら、本発明の詳細な説明す
る。
る。
添付図面は本発明の一実施例を示す。電子銃１、ブラン
カ２、集束レンズ３、Ｘ−Ｙ偏向コイル４、対物レンズ
５から成る電子光学鏡筒６の下部に、試料室７が設けら
れている。
カ２、集束レンズ３、Ｘ−Ｙ偏向コイル４、対物レンズ
５から成る電子光学鏡筒６の下部に、試料室７が設けら
れている。
その試料室７内の、後述する試料（集積回路等）８上方
であって電子光学鏡筒６から発生される電子ビームの走
査を防害しない位置Ｋ、フラッドガン９が設けられて本
発明の特徴部分を構成している。そのフラッドガン９＃
′ｉ制御装置１０の制御の下にらる。
であって電子光学鏡筒６から発生される電子ビームの走
査を防害しない位置Ｋ、フラッドガン９が設けられて本
発明の特徴部分を構成している。そのフラッドガン９＃
′ｉ制御装置１０の制御の下にらる。
一試料室７内には、試料８を載置するＸ ＝Ｙステージ
１１が設けられると共に、試料８に臨ませて二次電子検
知器１２が設けられている。
１１が設けられると共に、試料８に臨ませて二次電子検
知器１２が設けられている。
電子光学鏡筒６の各部も制御装置１０の制御の下にある
が、集束レンズ３、Ｘ−Ｙ偏向コイル４、対物レンズ５
と制御装置１０との間に偏向集束制御回路１３が介設さ
れている。
が、集束レンズ３、Ｘ−Ｙ偏向コイル４、対物レンズ５
と制御装置１０との間に偏向集束制御回路１３が介設さ
れている。
二次電子検知器１２は画像取り込み表示装置１４へ接続
され、該装置は制御装置１０によって制御される。
され、該装置は制御装置１０によって制御される。
試料８け試料ドライバ１５へ接続され、該ドライバは制
御装置１０の制御の下にある。
御装置１０の制御の下にある。
Ｘ−Ｙステージ１１はステージ制御回路１６へ接続され
、該回路は制御装置１０によって制御される。
、該回路は制御装置１０によって制御される。
次に、上記構成の本発明装置の動作を説明する。
試料８、即ち標準集積回路及び被検査集積回路がＸ−Ｙ
ステージ１１上にセットされた後、装置は制御装置１０
Ｖｃよる動作態勢に入る。
ステージ１１上にセットされた後、装置は制御装置１０
Ｖｃよる動作態勢に入る。
電子光学鏡筒６社そのブランカ２の動作により、電子ビ
ームを試料室７内へ照射されない状態に置かれる。その
間に、Ｘ−Ｙステージ１１がその制御装置１６により、
ステージ１１上の標準集積回路又は被検査集積回路８が
電子光学鏡筒６からの電子ビームの走査領域内に移動せ
しめられる。その集積回路に集積回路ドライバ１５から
必要な駆動信号が供給される。又、電子光学鏡筒６の残
部に必要な信号を供給しつるように偏向集束制御回路１
３の動作設定がなされると共に、線１７上に同期信号を
供給しつるようになる。
ームを試料室７内へ照射されない状態に置かれる。その
間に、Ｘ−Ｙステージ１１がその制御装置１６により、
ステージ１１上の標準集積回路又は被検査集積回路８が
電子光学鏡筒６からの電子ビームの走査領域内に移動せ
しめられる。その集積回路に集積回路ドライバ１５から
必要な駆動信号が供給される。又、電子光学鏡筒６の残
部に必要な信号を供給しつるように偏向集束制御回路１
３の動作設定がなされると共に、線１７上に同期信号を
供給しつるようになる。
そして、これらの動作と並行して、制御袋［１０の制御
の下に、フラッド刀ン９が動作されて、電子ビームによ
る走査領域内に移動されて来ている集積回路８の絶縁物
表面に一様な電子シャワーを照射する。これにより、絶
縁物の電位分布は一様にされる。従って、表層下に存在
する電極電圧は絶縁物電位には反映されなくなる。
の下に、フラッド刀ン９が動作されて、電子ビームによ
る走査領域内に移動されて来ている集積回路８の絶縁物
表面に一様な電子シャワーを照射する。これにより、絶
縁物の電位分布は一様にされる。従って、表層下に存在
する電極電圧は絶縁物電位には反映されなくなる。
この電子シャワーの照射終了後、ブランカ２０機能を停
止すると同時に、偏向集束制御回路１３の制御の下に電
子ビームの掃引を集積回路８に対し生じさせる。この電
子ビームを受ける集積回路からは、その表層にあるアル
ミニウム配線にか＼つている電圧パターンだけによって
決まる二次電子が放出され、その二次電子強度を反映し
た電圧像が画像取り込み表示装置１４で取り込まれ表示
される。
止すると同時に、偏向集束制御回路１３の制御の下に電
子ビームの掃引を集積回路８に対し生じさせる。この電
子ビームを受ける集積回路からは、その表層にあるアル
ミニウム配線にか＼つている電圧パターンだけによって
決まる二次電子が放出され、その二次電子強度を反映し
た電圧像が画像取り込み表示装置１４で取り込まれ表示
される。
このような表示は被検査集積回路又は標準集積回路８に
ついても、同様にして得られる。
ついても、同様にして得られる。
従って、両電圧像の比較に支障を生じさせることはなく
なる。
なる。
（７）０発明の効果
以上要するに、本発明によれば、電子ビームによる試料
の走査に先立ってフラッドガンによる一様な電子シャワ
ーを試料に施しているから、表層下の電圧像の影響を排
除し、表層の電圧像のみを取り込むことが出来る。従っ
て、それらの比較に支障を来たすことはなくなる。
の走査に先立ってフラッドガンによる一様な電子シャワ
ーを試料に施しているから、表層下の電圧像の影響を排
除し、表層の電圧像のみを取り込むことが出来る。従っ
て、それらの比較に支障を来たすことはなくなる。
添付図面は本発明の一実施例を示す図である。
図において、６は電子光学鏡筒、７は試料室。
８は試料、９は７ラツドガン、１２は二次電子検知器、
１３は偏光集束制御回路、１４は画像取り込み装置、１
５は試料ドライバ、１６けステージ制御回路、１０は制
御回路である。 特許 出願人 富士通株式会社 １゜ 代理 人弁理士 松 岡 宏四部Ｉ −
１３は偏光集束制御回路、１４は画像取り込み装置、１
５は試料ドライバ、１６けステージ制御回路、１０は制
御回路である。 特許 出願人 富士通株式会社 １゜ 代理 人弁理士 松 岡 宏四部Ｉ −
Claims (1)
- 試料室内に置かれた試料上に電子光学錠筒がらの電子ビ
ームを照射する走査形電子顕微鏡において、上記試料か
らみて上方であって上記電子ビームの走査を妨害しない
位置に、電子ビーム走査領域を一様な電子シャワーで照
射しつるフラッドガンを設けたことを特徴とする走査形
電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57111017A JPS59843A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | 走査形電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57111017A JPS59843A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | 走査形電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59843A true JPS59843A (ja) | 1984-01-06 |
Family
ID=14550280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57111017A Pending JPS59843A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | 走査形電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59843A (ja) |
-
1982
- 1982-06-28 JP JP57111017A patent/JPS59843A/ja active Pending
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