JPS5984484A - ガスの流れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するための装置 - Google Patents
ガスの流れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するための装置Info
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- JPS5984484A JPS5984484A JP58180058A JP18005883A JPS5984484A JP S5984484 A JPS5984484 A JP S5984484A JP 58180058 A JP58180058 A JP 58180058A JP 18005883 A JP18005883 A JP 18005883A JP S5984484 A JPS5984484 A JP S5984484A
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 28
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 22
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003187 abdominal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910002112 ferroelectric ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
この発明は、ガス・フロー・チャンネル内通るガスの流
れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するための装置
に関する。この発明は、特に、高出力・流動ガス・レー
ザに応用することができ、それゆえに、このようなガス
・レーザについての出願を次に述べる。
れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するための装置
に関する。この発明は、特に、高出力・流動ガス・レー
ザに応用することができ、それゆえに、このようなガス
・レーザについての出願を次に述べる。
先行技術の説明
近年、特に金属加工業において利用でるために、高出力
の流動ガス・レー11の開発が盛んに行なわれてきてい
る。この種の公知のレーザについてのいくつかの例は、
アメリカ合衆国性8′1第3,641.457号、第3
.702.973号、第3゜748.594号、第3.
758.874号、第3.886.481号、第3.0
21.098号、第4.’ 058.778号、第4.
31’7.090号および第4.321.558号に述
べられている。このような高出力レーザの設胴における
大きな問題の1つは、熱の放散である。高出力レーザは
、不当に高い温度では能率良く動作し1号ないからであ
る。たとえば、今日、高出力用途に43いて主に用いら
れているCO□レーザは、200℃よりはるかに高い温
度では能率良く動作することができない。高出力レーザ
の設計における他の問題は、ガスの流れを横切る安定な
放電を確立しかつ維持することが困難なことにある。上
述した先行出願のうち、アメリカ合衆国性h′[第3.
7118゜594号および第3,758,874号は、
特にこの問題に対処したものである。高出力流動・ガス
・レーザの構成における上記問題は、他の高出力流動ガ
ス電気装置の設計おJ:び製造においても問題となって
いることがわかっている。
の流動ガス・レー11の開発が盛んに行なわれてきてい
る。この種の公知のレーザについてのいくつかの例は、
アメリカ合衆国性8′1第3,641.457号、第3
.702.973号、第3゜748.594号、第3.
758.874号、第3.886.481号、第3.0
21.098号、第4.’ 058.778号、第4.
31’7.090号および第4.321.558号に述
べられている。このような高出力レーザの設胴における
大きな問題の1つは、熱の放散である。高出力レーザは
、不当に高い温度では能率良く動作し1号ないからであ
る。たとえば、今日、高出力用途に43いて主に用いら
れているCO□レーザは、200℃よりはるかに高い温
度では能率良く動作することができない。高出力レーザ
の設計における他の問題は、ガスの流れを横切る安定な
放電を確立しかつ維持することが困難なことにある。上
述した先行出願のうち、アメリカ合衆国性h′[第3.
7118゜594号および第3,758,874号は、
特にこの問題に対処したものである。高出力流動・ガス
・レーザの構成における上記問題は、他の高出力流動ガ
ス電気装置の設計おJ:び製造においても問題となって
いることがわかっている。
発明の概要
この発明の目的は、ガス・フロー・チャンネルを通るガ
スの流れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するため
の改善された装置を提供することにある。この発明の他
の目的は、上述した熱放散ならびに安定な放電に関して
の改善を可能とするだけでなく、この種の装置の製造お
よびメインテナンスをも容易どするような装置を提供づ
ることにある。この発明のさらに他の目的は、上述の点
が改良された構造を有する高出力流動ガス・レーザを提
供することにある。
スの流れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するため
の改善された装置を提供することにある。この発明の他
の目的は、上述した熱放散ならびに安定な放電に関して
の改善を可能とするだけでなく、この種の装置の製造お
よびメインテナンスをも容易どするような装置を提供づ
ることにある。この発明のさらに他の目的は、上述の点
が改良された構造を有する高出力流動ガス・レーザを提
供することにある。
この発明のある広い局面によれば、外部電源の電極に接
続するための手段を右Jる少なくとも1個の電極を、そ
れぞれが含む、複数個のモジコ−ル部材内 J:す、ガス・フロー・チャンネルの壁の少なくとも一
部が占められており、かつこれらのすべての部材がガス
・フロー・チャンネルの壁の各部分に沿って延びる絶縁
材料ブ[1ツク内に埋め込まれていることを特徴どする
、ガス・フロー・チャンネルを通るガスの流れを横切る
安定な放電を確立しかつ維持りるための装置が提供され
る。
続するための手段を右Jる少なくとも1個の電極を、そ
れぞれが含む、複数個のモジコ−ル部材内 J:す、ガス・フロー・チャンネルの壁の少なくとも一
部が占められており、かつこれらのすべての部材がガス
・フロー・チャンネルの壁の各部分に沿って延びる絶縁
材料ブ[1ツク内に埋め込まれていることを特徴どする
、ガス・フロー・チャンネルを通るガスの流れを横切る
安定な放電を確立しかつ維持りるための装置が提供され
る。
後述するこの発明の好ましい実施例では、各モジュール
部材は、ガス・フロー・チャンネルに関づるライン内に
配置された複数個の電極を含む。
部材は、ガス・フロー・チャンネルに関づるライン内に
配置された複数個の電極を含む。
ある実施例では、各モジュール部材内の電極ラインは、
チせンネルを通るガスの流れに平行に延びており、第2
の実施例では、各モジュール部材はチャンネルを通るガ
スの流れを横切るように延びている。これら双方の実施
例において、各モジュール部材は、各電極に電気的に接
続されておりかつ絶縁月利ブロック内に埋め込まれてい
るバラスト・インピーダンスを含んでいる。
チせンネルを通るガスの流れに平行に延びており、第2
の実施例では、各モジュール部材はチャンネルを通るガ
スの流れを横切るように延びている。これら双方の実施
例において、各モジュール部材は、各電極に電気的に接
続されておりかつ絶縁月利ブロック内に埋め込まれてい
るバラスト・インピーダンスを含んでいる。
この発明の他の重要な特徴によれば、ガス・フロー・チ
ャンネルの下流側に設けられたモジコール部材内のバラ
スト・インピーダンスは、上流側に設けられたモジゴー
ル部材内のバラスト・インピーダンスよりも低いインピ
ーダンス値を有しており、それによって下流側のチャン
ネルを通るガスの流れのより低いインピーダンスが補償
され、かつチャンネルの様々な部分を横切る実質的に一
定の電圧が発生される。
ャンネルの下流側に設けられたモジコール部材内のバラ
スト・インピーダンスは、上流側に設けられたモジゴー
ル部材内のバラスト・インピーダンスよりも低いインピ
ーダンス値を有しており、それによって下流側のチャン
ネルを通るガスの流れのより低いインピーダンスが補償
され、かつチャンネルの様々な部分を横切る実質的に一
定の電圧が発生される。
上述のように、この発明の上記した実施例の双方におい
て、各電極は、モジュール部材の内面から突出し、かつ
ガス・フL1−・チャンネル内に突出する金属ビンを含
む。この発明の第3の実施例もまた下記において説明さ
れ、そこではモジュール部Hの各電極がガス・フロー・
チャンネルの内面に実質的に平行に延びる平坦な層とな
っており、各モジュール部材は、さらに、前記平坦な電
極を覆う誘電体層を含んでおり、この誘電体層は、ガス
・フロー・チャンネルの各部分に設けられたモジュール
部(Aの内面を構成し、また各電極についてのバラスト
・インピーダンスの誘電体として機能する。
て、各電極は、モジュール部材の内面から突出し、かつ
ガス・フL1−・チャンネル内に突出する金属ビンを含
む。この発明の第3の実施例もまた下記において説明さ
れ、そこではモジュール部Hの各電極がガス・フロー・
チャンネルの内面に実質的に平行に延びる平坦な層とな
っており、各モジュール部材は、さらに、前記平坦な電
極を覆う誘電体層を含んでおり、この誘電体層は、ガス
・フロー・チャンネルの各部分に設けられたモジュール
部(Aの内面を構成し、また各電極についてのバラスト
・インピーダンスの誘電体として機能する。
この発明他の特徴と効果は、以下の説明から明らかとな
るであろう。
るであろう。
好ましい実施1(iIの説明
全体的なレーザの構造(第1図を参照)第1図を参照し
て、ここでは高出力流動ガス・レーザが示されており、
この高出力流動ガス・レーザは大気圧と異なる内圧に耐
え1qる外ハウジング2を含む。この形式のレーザでは
、この内圧は約0.2気圧J、り小さい。特に、レーザ
・ガスを励起するのに用いる、この種の放電のための装
置についての好ましい内圧は、約0.05気圧である。
て、ここでは高出力流動ガス・レーザが示されており、
この高出力流動ガス・レーザは大気圧と異なる内圧に耐
え1qる外ハウジング2を含む。この形式のレーザでは
、この内圧は約0.2気圧J、り小さい。特に、レーザ
・ガスを励起するのに用いる、この種の放電のための装
置についての好ましい内圧は、約0.05気圧である。
好ましくは、このガスは、高出力レーザにおいて通常用
いられている公知のCO2混合ガスの1g!である。
いられている公知のCO2混合ガスの1g!である。
レーザ・チャンネルは、四辺形に配置された4木のレッ
グから構成されるように折曲げられた、全体を参照番号
3で示す光学キャビテfすなわち共振器の形態を有する
。2本のレッグは、第1図において3aa3.l:び3
Cで示されており、光学キャビディ全体の構成は、昭和
58年8月18日付で同一出願人により出願された[高
出力流動ガス・レーザ装置」なる題名の特許出願におい
てより特定的に説明されている。各レッグには、別々の
ガス・フロー・チャンネル内とえば4a、4cが供給さ
れており、このガス・フロー・チャンネルを通るガスの
流れが電気モータ42で駆動される羽根中41により発
生してJ3す、羽根車41の出力側にはディフ7−ザ4
4が設けられている。
グから構成されるように折曲げられた、全体を参照番号
3で示す光学キャビテfすなわち共振器の形態を有する
。2本のレッグは、第1図において3aa3.l:び3
Cで示されており、光学キャビディ全体の構成は、昭和
58年8月18日付で同一出願人により出願された[高
出力流動ガス・レーザ装置」なる題名の特許出願におい
てより特定的に説明されている。各レッグには、別々の
ガス・フロー・チャンネル内とえば4a、4cが供給さ
れており、このガス・フロー・チャンネルを通るガスの
流れが電気モータ42で駆動される羽根中41により発
生してJ3す、羽根車41の出力側にはディフ7−ザ4
4が設けられている。
各チャンネル内のガスは、折曲げられlζレーザ・チャ
ンネルの各レッグ(3a 、 3c )を横切って流れ
ているが、最初、ガスは、各レーザ・チャンネル・レッ
グの上流側に設けられた、全体が参照番@5で示されて
おりかつ以下においてより詳細に説明される放電装置に
より励起される。ガスがレーザ・チャンネル・レッグ(
たどえば3a。
ンネルの各レッグ(3a 、 3c )を横切って流れ
ているが、最初、ガスは、各レーザ・チャンネル・レッ
グの上流側に設けられた、全体が参照番@5で示されて
おりかつ以下においてより詳細に説明される放電装置に
より励起される。ガスがレーザ・チャンネル・レッグ(
たどえば3a。
3c)を横切って流れるにつれて、ガスは放電により加
熱され、L、 t=がって各チャンネルで励起されたガ
スは各チャンネルに入ってくるガスよりも実質的に高い
温度を有づる。加熱されたガスは、壁45にJζり導か
れて熱交換器46を流れ、次に導管47を経由してガス
・フロー・チャンネルを通る循環の1こめに羽根車41
の入力側に流れ込む。
熱され、L、 t=がって各チャンネルで励起されたガ
スは各チャンネルに入ってくるガスよりも実質的に高い
温度を有づる。加熱されたガスは、壁45にJζり導か
れて熱交換器46を流れ、次に導管47を経由してガス
・フロー・チャンネルを通る循環の1こめに羽根車41
の入力側に流れ込む。
昭和58年8月18日付ぐ同一出願人により出願された
[高出力流動・ガス・レーザ装置」なる題名の特許出願
においてより特定的に述べられているように、光学装置
3を備えるミラーは、全体を50で示す独立の取付部材
により工場の床49上に支持されており、この独立の取
イ]部材50はハウジング取付部材49から独立してお
りかつ別部材で構成されており、したがって光学装置は
羽根車41およびモータドライブ42により発生する妨
害振動から機械的に絶縁される。この独立の取付部材5
0は、レッグ(たとえば52.54)上に支持された温
度安定化された軟鋼フレームを含/vでおり、各レッグ
は弾性ブー1〜(boot 二艮靴状部材)あるいは金
属ベローズのような柔軟な貫通導出部材6’lを介して
ハウジング2内の真空チ1νンバから突出しており、ヂ
11ンバ近傍の重いベース5つの方向に延びている。こ
のチャンバは、羽根車および駆動部を含んでおり、振動
絶縁取付部材により工場の床48から機械的に絶縁され
ている。安定化のために、レッグの下方端部には放射状
に延びるウェブが設【ノられている。この構成は、主要
な振動源(すなわち、羽根車および駆動部)から光学部
品を機械的に絶縁するが、他方レーザ光源(′?Iなわ
ち光学的共振器)を工場の床にM補的に連結することを
可能とする。
[高出力流動・ガス・レーザ装置」なる題名の特許出願
においてより特定的に述べられているように、光学装置
3を備えるミラーは、全体を50で示す独立の取付部材
により工場の床49上に支持されており、この独立の取
イ]部材50はハウジング取付部材49から独立してお
りかつ別部材で構成されており、したがって光学装置は
羽根車41およびモータドライブ42により発生する妨
害振動から機械的に絶縁される。この独立の取付部材5
0は、レッグ(たとえば52.54)上に支持された温
度安定化された軟鋼フレームを含/vでおり、各レッグ
は弾性ブー1〜(boot 二艮靴状部材)あるいは金
属ベローズのような柔軟な貫通導出部材6’lを介して
ハウジング2内の真空チ1νンバから突出しており、ヂ
11ンバ近傍の重いベース5つの方向に延びている。こ
のチャンバは、羽根車および駆動部を含んでおり、振動
絶縁取付部材により工場の床48から機械的に絶縁され
ている。安定化のために、レッグの下方端部には放射状
に延びるウェブが設【ノられている。この構成は、主要
な振動源(すなわち、羽根車および駆動部)から光学部
品を機械的に絶縁するが、他方レーザ光源(′?Iなわ
ち光学的共振器)を工場の床にM補的に連結することを
可能とする。
羽根車41を駆動するモータ42が、ハウジング2の一
方端部壁に取付けられており、がっ91で導入されかつ
92から排出される水により冷ムIJされている。ハウ
ジング2の他方端部に設けられた端部壁93は、ハウジ
ング内部を都合良くアクセスするために除去可能にされ
ている。このため、端部壁93にはハウジングの環状フ
ランジ95に着脱自在に固定される環状フランジ94が
形成されている。
方端部壁に取付けられており、がっ91で導入されかつ
92から排出される水により冷ムIJされている。ハウ
ジング2の他方端部に設けられた端部壁93は、ハウジ
ング内部を都合良くアクセスするために除去可能にされ
ている。このため、端部壁93にはハウジングの環状フ
ランジ95に着脱自在に固定される環状フランジ94が
形成されている。
各ガス・7m+−・チャンネルについての放電装置5は
、分節電極およびバラストを含む高周波数タイプのもの
である。このような各放電装置5は、外部電源に接続す
るようにされた電極と、各電極に電気的に接続されたバ
ラスト・インピーダンスど、電極およびバラスト・イン
ピーダンスに熱結合された冷ム]J部材とを含む複数個
のモジコール部材から構成されており、これらのづべて
の部材がガス・フロー・チマlンネル壁の各部分に沿っ
て延びる絶縁相別ブロック内に埋め込まれている。第2
図ないし第4図は、あるモジュールの構成を示しており
、第5図および第6図は第2のモジュール構造を示して
おり、ざらにw17図は第3のモジュール構造を示して
おり、これらは第1図に示した各放電装置5ならびに各
ガス・フロー・チャンネル(たとえば4a)について用
いられるものである。
、分節電極およびバラストを含む高周波数タイプのもの
である。このような各放電装置5は、外部電源に接続す
るようにされた電極と、各電極に電気的に接続されたバ
ラスト・インピーダンスど、電極およびバラスト・イン
ピーダンスに熱結合された冷ム]J部材とを含む複数個
のモジコール部材から構成されており、これらのづべて
の部材がガス・フロー・チマlンネル壁の各部分に沿っ
て延びる絶縁相別ブロック内に埋め込まれている。第2
図ないし第4図は、あるモジュールの構成を示しており
、第5図および第6図は第2のモジュール構造を示して
おり、ざらにw17図は第3のモジュール構造を示して
おり、これらは第1図に示した各放電装置5ならびに各
ガス・フロー・チャンネル(たとえば4a)について用
いられるものである。
7.2図住いし第4図の放電装置の構造全体を105で
示す第2図ないし第4図の放電4R’luは、各レーザ
・チャンネル・レッグ103に対しての各ガス・フロー
・チャンネル104の各両端に沿って延びる複数個のモ
ジュール部材110を備える。第3図に特に示されてい
るように、各モジュール110は、複数個の電極112
と、各電極112に対するこの場合にはコンデンサであ
るバラスト・インピーダンス114ど、各電極バラスト
コンデンサに熱結合されたこの場合には冷却フィンであ
る冷却部U’116ど、各モジュールのづべての電極1
12、コンデンサ114および冷却フィン116を埋め
込む絶縁材料ブロック118とを含む。すべてのモジュ
ール110は、各ガス・フ[ニー・チ1ノンネル107
1を横切って側面を接して配置されており、各モジコー
ルのずべての電極はチ11ンネルを通るガスの流れに平
行に延びる千鳥状ライン内に配置されている。各モジュ
ールの冷却フィン116は、各モジコールの外面すなわ
ちガス・フロー・チャンネル104の外面から離れlζ
而を通って延びており、かつ冷却管120はモジュール
内で発生された熱を除去するための各モジュールのすべ
ての冷却フィンの延長部116′内の開]]を通ってい
る。
示す第2図ないし第4図の放電4R’luは、各レーザ
・チャンネル・レッグ103に対しての各ガス・フロー
・チャンネル104の各両端に沿って延びる複数個のモ
ジュール部材110を備える。第3図に特に示されてい
るように、各モジュール110は、複数個の電極112
と、各電極112に対するこの場合にはコンデンサであ
るバラスト・インピーダンス114ど、各電極バラスト
コンデンサに熱結合されたこの場合には冷却フィンであ
る冷却部U’116ど、各モジュールのづべての電極1
12、コンデンサ114および冷却フィン116を埋め
込む絶縁材料ブロック118とを含む。すべてのモジュ
ール110は、各ガス・フ[ニー・チ1ノンネル107
1を横切って側面を接して配置されており、各モジコー
ルのずべての電極はチ11ンネルを通るガスの流れに平
行に延びる千鳥状ライン内に配置されている。各モジュ
ールの冷却フィン116は、各モジコールの外面すなわ
ちガス・フロー・チャンネル104の外面から離れlζ
而を通って延びており、かつ冷却管120はモジュール
内で発生された熱を除去するための各モジュールのすべ
ての冷却フィンの延長部116′内の開]]を通ってい
る。
各モジュールの電極112は、第2図に示すように、外
部冷却管120に接続された高電圧高周波源122によ
り付勢されている。このような冷却管は、冷却フィン1
16を介して各モジュールのずべての電極112に良好
な電気伝導性を与えるために、銅から構成され得る。バ
ラスト・コンデンサ114が、冷却フィン116と各電
極112との間に接続されており、このコンデンサおJ
:び電極の双方が、冷却フィンおよび冷却チューブ12
0を介しCのモジ1−ル内で発生された熱を容易に除去
するために、冷却フィン116と良好な熱結合関係に配
置されている。
部冷却管120に接続された高電圧高周波源122によ
り付勢されている。このような冷却管は、冷却フィン1
16を介して各モジュールのずべての電極112に良好
な電気伝導性を与えるために、銅から構成され得る。バ
ラスト・コンデンサ114が、冷却フィン116と各電
極112との間に接続されており、このコンデンサおJ
:び電極の双方が、冷却フィンおよび冷却チューブ12
0を介しCのモジ1−ル内で発生された熱を容易に除去
するために、冷却フィン116と良好な熱結合関係に配
置されている。
モジコール部材110より占められているガス・フロー
・チャンネル104の2個の対向壁のそれぞれは、ガス
・フロー・チャンネル104の内面をライニングする、
セラミックのような耐熱絶B材I11からなるシート1
24を含む。各シート124は、ヂ17ンネルの各側に
対してすべてのモジュール部U114aなどを取(=J
けるために用いられており、この目的のために、モジュ
ール部材がシー1−に取付けられるときに、モジコール
部材110の電極112が通る複数個の開口が形成され
でいる。
・チャンネル104の2個の対向壁のそれぞれは、ガス
・フロー・チャンネル104の内面をライニングする、
セラミックのような耐熱絶B材I11からなるシート1
24を含む。各シート124は、ヂ17ンネルの各側に
対してすべてのモジュール部U114aなどを取(=J
けるために用いられており、この目的のために、モジュ
ール部材がシー1−に取付けられるときに、モジコール
部材110の電極112が通る複数個の開口が形成され
でいる。
第3図に特に示すように、各電極112は、セラミック
・スリーブ126を含んでおり、このセラミック・スリ
ーブ126はモジコール部Hの絶縁材料118内に部分
的に埋め込まれており、かつ電極112どどもにモジュ
ールの内面をライニングする耐熱シート124を通って
延びている。
・スリーブ126を含んでおり、このセラミック・スリ
ーブ126はモジコール部Hの絶縁材料118内に部分
的に埋め込まれており、かつ電極112どどもにモジュ
ールの内面をライニングする耐熱シート124を通って
延びている。
各電極112は、ガス・フロー・チャンネル内に突出す
るシート124を通って延びる直線部分112aを含ん
ぐおり、この上部ではチップがチャンネルを通るガスの
流れを横切って延びるレッグ112bを形成するように
曲げられている。各電極の先端のチップ112cが、次
に、シート124の方向へ内側に折曲げられており、か
っこのシートとわずかに接触するように終了している。
るシート124を通って延びる直線部分112aを含ん
ぐおり、この上部ではチップがチャンネルを通るガスの
流れを横切って延びるレッグ112bを形成するように
曲げられている。各電極の先端のチップ112cが、次
に、シート124の方向へ内側に折曲げられており、か
っこのシートとわずかに接触するように終了している。
耐熱シーh 124にモジコール部材を取付けるにあた
り、セラミック・スリーブ126を含む電極112は、
このシー]への開口を通っており、モジ1−ル部祠がシ
ート124に組込まれた後、次に電極は横切って延びる
レッグ112bと内側に延びるデツプ112Cを形成づ
るように折曲げられる。チャンネル内各側に沿うモジュ
ール部材は、次に、たどえば固着部材130(第3図を
参照)のような適切な手段によって各耐熱シー1−12
4に固定される。ガス・フロー・チャンネル104の各
側の[ジコールについての冷却管120が直列に接続さ
れる。
り、セラミック・スリーブ126を含む電極112は、
このシー]への開口を通っており、モジ1−ル部祠がシ
ート124に組込まれた後、次に電極は横切って延びる
レッグ112bと内側に延びるデツプ112Cを形成づ
るように折曲げられる。チャンネル内各側に沿うモジュ
ール部材は、次に、たどえば固着部材130(第3図を
参照)のような適切な手段によって各耐熱シー1−12
4に固定される。ガス・フロー・チャンネル104の各
側の[ジコールについての冷却管120が直列に接続さ
れる。
各市2.(Iフィン116は、好ましくは、低熱抵抗を
有する銅からなり、他方各電極112はステンレス線の
ような高熱抵抗4J 1r31からなる。各電極112
と各バラスト・コンデンサ114との接合部分は、比較
的小さな熱抵抗材料からなる絶縁簿膜132(第4図を
参照)により絶縁されている。
有する銅からなり、他方各電極112はステンレス線の
ような高熱抵抗4J 1r31からなる。各電極112
と各バラスト・コンデンサ114との接合部分は、比較
的小さな熱抵抗材料からなる絶縁簿膜132(第4図を
参照)により絶縁されている。
この構成は、電極112およびバラスト・]ンデンザ1
14から冷却フィン116を経由する外部冷7JI管1
20への比較的小さな熱抵抗経路と、ガス・フlコー・
チ亀・ンネル104内に突出する電極112の部分への
比較的高い熱抵抗経路を提供し、それによってヂ17ン
ネル内の電極の加熱を防止する。
14から冷却フィン116を経由する外部冷7JI管1
20への比較的小さな熱抵抗経路と、ガス・フlコー・
チ亀・ンネル104内に突出する電極112の部分への
比較的高い熱抵抗経路を提供し、それによってヂ17ン
ネル内の電極の加熱を防止する。
第1図に示したレーザにおけるガス・フロー・チャンネ
ルのぞれぞれについての第2図ないし第4図に示した放
電装置は、電極により発生した熱の放散ならびに加熱の
防止のための有効な手段を提供づ−る。安定化された分
節電極を含む述べてきた構成は、各ガス・フロー・チャ
ンネルを通るガスの流れを横切る安定な放電を確立しか
つ維持するだめの有効な手段をも与える。さらに、電極
、バラスト・コンデンサa3よび冷却部材がモジュール
部材を形成する絶縁材料か〕・6るブにスツク内に埋め
込まれているというこの構成は、各レーザ・チャンネル
・レッグについての放電装置の構成をも簡単どし、かつ
必要ならば個々のモジュールを取替えることによりその
メインテナンスならびに補修をも容易とするものである
。
ルのぞれぞれについての第2図ないし第4図に示した放
電装置は、電極により発生した熱の放散ならびに加熱の
防止のための有効な手段を提供づ−る。安定化された分
節電極を含む述べてきた構成は、各ガス・フロー・チャ
ンネルを通るガスの流れを横切る安定な放電を確立しか
つ維持するだめの有効な手段をも与える。さらに、電極
、バラスト・コンデンサa3よび冷却部材がモジュール
部材を形成する絶縁材料か〕・6るブにスツク内に埋め
込まれているというこの構成は、各レーザ・チャンネル
・レッグについての放電装置の構成をも簡単どし、かつ
必要ならば個々のモジュールを取替えることによりその
メインテナンスならびに補修をも容易とするものである
。
一例どして、第2図ないし第4図に示した構成は、各ガ
ス・フロー・チャンネル104の2個の対向壁のそれぞ
れに沿う19個のモジ、1−ル110を含んでおり、各
モジュールは2本の千鳥状ライン内に配列された13個
の電極112を含んでおり、各電極には上述したように
バラスI〜・コンデンサ114および冷却フィン116
が設けられている。電極112.バラスト・mlンデン
→す114および冷却フィン116を埋め込むための接
着剤118どして、エポキシ樹脂が用いられる。
ス・フロー・チャンネル104の2個の対向壁のそれぞ
れに沿う19個のモジ、1−ル110を含んでおり、各
モジュールは2本の千鳥状ライン内に配列された13個
の電極112を含んでおり、各電極には上述したように
バラスI〜・コンデンサ114および冷却フィン116
が設けられている。電極112.バラスト・mlンデン
→す114および冷却フィン116を埋め込むための接
着剤118どして、エポキシ樹脂が用いられる。
好ましくは、ガス・フロー・ヂ11ンネル4の下流側に
設けられたバラス1−・コンデンサ114は、チャンネ
ルの上流側のバラスト・コンデンサよりも低いインピー
ダンス値を有しており、それによって下流側のチャンネ
ル内 低いインピーダンスを補償し、かつチャンネルの様々な
部分を横切る実質的に一定な電圧を発生ずる。−例とし
て、ガス・フロー・チャンネル104の上流側(第2図
の上方を参照)に設【ノられたバラスト・コンデンサ1
14は、300I)Fの餡を有しており、下流側のバラ
スト・コンデンサは700p Fの値を右しており、さ
らに中間のモジュールのバラス1−・コンデンサは50
011 Fの値を有し得る。
設けられたバラス1−・コンデンサ114は、チャンネ
ルの上流側のバラスト・コンデンサよりも低いインピー
ダンス値を有しており、それによって下流側のチャンネ
ル内 低いインピーダンスを補償し、かつチャンネルの様々な
部分を横切る実質的に一定な電圧を発生ずる。−例とし
て、ガス・フロー・チャンネル104の上流側(第2図
の上方を参照)に設【ノられたバラスト・コンデンサ1
14は、300I)Fの餡を有しており、下流側のバラ
スト・コンデンサは700p Fの値を右しており、さ
らに中間のモジュールのバラス1−・コンデンサは50
011 Fの値を有し得る。
第5図および第6図の放電v、同の構造第5図おJ、び
第6図は、この発明の第2の実施例を示し、ここでは2
10で示されるモジコール部4Aは、横方向に並べられ
ているが、第2図ないし第4図に示したガス・フロー・
チャンネルのように横切っておらず204で示すように
ガス・フロー・チャンネル内軸方向に延びている。第5
図おJ:び第6図に示した構造では、第2図および第4
図に示した19個のモジュール部材に代えでまたつIc
の5個のモジコール部材210が設(プられでいる。第
5図から明らかなように、各モジュール部材210もま
た、第2図ないし第4図に示したように点局212の2
本のラインを含んでいるが、第5図および第6図では、
各電極のラインは第2図ないし第4図に示した構成のよ
うにチャンネル内通るガスの流れに平行ではなく、チャ
ンネル204を通るガスの流れを横切って延びている。
第6図は、この発明の第2の実施例を示し、ここでは2
10で示されるモジコール部4Aは、横方向に並べられ
ているが、第2図ないし第4図に示したガス・フロー・
チャンネルのように横切っておらず204で示すように
ガス・フロー・チャンネル内軸方向に延びている。第5
図おJ:び第6図に示した構造では、第2図および第4
図に示した19個のモジュール部材に代えでまたつIc
の5個のモジコール部材210が設(プられでいる。第
5図から明らかなように、各モジュール部材210もま
た、第2図ないし第4図に示したように点局212の2
本のラインを含んでいるが、第5図および第6図では、
各電極のラインは第2図ないし第4図に示した構成のよ
うにチャンネル内通るガスの流れに平行ではなく、チャ
ンネル204を通るガスの流れを横切って延びている。
第5図および第6図に示した構造の重要な利点の1つは
、カス・フロー・チャンネル内下流側のバラスト・コン
デンサ214(第6図)を、チャンネルの」−流側のバ
ラスト・コンデンサよりも低いインピーダンス値を右す
るように設けるのに都合が良く、それによって上述のよ
うに、チャンネルの様々な部分を横切る実質的に一定の
電圧を発生ずることが可能になるということである。し
たがって、ガス・フロー・チャンネル204の上流側(
第5図の上方)のモジュール部材210は、チャンネル
の下流側のモジュール部材110内のバラス1〜・コン
デンサより−し高いインピーダンス値バラスト・コンデ
ンサーで構成され得る。
、カス・フロー・チャンネル内下流側のバラスト・コン
デンサ214(第6図)を、チャンネルの」−流側のバ
ラスト・コンデンサよりも低いインピーダンス値を右す
るように設けるのに都合が良く、それによって上述のよ
うに、チャンネルの様々な部分を横切る実質的に一定の
電圧を発生ずることが可能になるということである。し
たがって、ガス・フロー・チャンネル204の上流側(
第5図の上方)のモジュール部材210は、チャンネル
の下流側のモジュール部材110内のバラス1〜・コン
デンサより−し高いインピーダンス値バラスト・コンデ
ンサーで構成され得る。
第5図および第6図の放電装置の構造における他の特徴
は、モジコール部材210内に含まれる冷却部材が、冷
却フィン116ではなく、216で示すような水導入管
であることにある1、これらの冷却管216もまた、モ
ジュール部材のプラスチック材料218内に埋め込まれ
ており、かつ第2図ないし第4図の実施例の冷N1フィ
ンよりも大ぎな速度で熱を取出1ことを可能とでる。
は、モジコール部材210内に含まれる冷却部材が、冷
却フィン116ではなく、216で示すような水導入管
であることにある1、これらの冷却管216もまた、モ
ジュール部材のプラスチック材料218内に埋め込まれ
ており、かつ第2図ないし第4図の実施例の冷N1フィ
ンよりも大ぎな速度で熱を取出1ことを可能とでる。
第5図おJ、び第6図に示した構成のざらに他の相)θ
点は、内面の絶縁シート(第2図ないし第4図の実施例
の124)が除去されており、モジコール部材の内面が
モジュール部材により占められるガス・フロー・チャン
ネル204の壁の各部分を構成していることにある。
点は、内面の絶縁シート(第2図ないし第4図の実施例
の124)が除去されており、モジコール部材の内面が
モジュール部材により占められるガス・フロー・チャン
ネル204の壁の各部分を構成していることにある。
このように、第6図に特に示されているように、ビン電
極が各モジュールの2本の線内に配列されており、この
ラインは好ましくは2個の電極212a 、 2−12
bに示されているように千鳥状に配置されている。また
、電極212aに対してコンデンサ214aにJ:す、
電極212bに対してバラスト・コンデンサ214bに
より示されているように、各電極に対して1個のバラス
ト・コンデンサが存在する。各モジュール部材は、さら
に、バラスト・:1ンデンサの2本のラインの間に延び
ており、かつこれらの双方と熱的に結合しくいる1個の
水導入管216を含む。水導入管216は銅から構成さ
れることができ、かつ各モジュール内の電極に対する高
電圧接続として機能する。
極が各モジュールの2本の線内に配列されており、この
ラインは好ましくは2個の電極212a 、 2−12
bに示されているように千鳥状に配置されている。また
、電極212aに対してコンデンサ214aにJ:す、
電極212bに対してバラスト・コンデンサ214bに
より示されているように、各電極に対して1個のバラス
ト・コンデンサが存在する。各モジュール部材は、さら
に、バラスト・:1ンデンサの2本のラインの間に延び
ており、かつこれらの双方と熱的に結合しくいる1個の
水導入管216を含む。水導入管216は銅から構成さ
れることができ、かつ各モジュール内の電極に対する高
電圧接続として機能する。
各モジュールの内面にはガス・フロー・チャンネル内に
突出するように、電極が通る開口225の形成されたセ
ラミック・ブロック224が設けられいることを除い−
(は、第2図ないし第4図に示した実施例のように、各
モジュール210の電極、バラス1−・コンデンサ°お
よび水導入管216がエポーヤシ充填材料218内にず
べて埋め込まれている。絶縁モールド224が、セラミ
ック・ブロックにエポキシ充填材料218を接着ツ°る
のに用いられており、このモールドはモジコールのため
のライナー224として保持されかつ機能する。
突出するように、電極が通る開口225の形成されたセ
ラミック・ブロック224が設けられいることを除い−
(は、第2図ないし第4図に示した実施例のように、各
モジュール210の電極、バラス1−・コンデンサ°お
よび水導入管216がエポーヤシ充填材料218内にず
べて埋め込まれている。絶縁モールド224が、セラミ
ック・ブロックにエポキシ充填材料218を接着ツ°る
のに用いられており、このモールドはモジコールのため
のライナー224として保持されかつ機能する。
また、ガス・フロー・チャンネル内の電極のチップには
、第2図ないし第4図の実施例ようにかつ第5図によく
示されているように、チャンネルを通るガスの流れの方
向を横切るJ:うに延びるレッグが形成されている。各
モジュールの内面にはセラミックブロック224が形成
されているので、第2図ないし第4図の実施例のように
、各ピン電極のまわりにセラミック・スリーブを設ける
ことが必要ではないが、電極に対するセラミックブロッ
ク内の開口225は、2個の部材の間の空間すなわちク
リアランスを与えるように、電極の外径よりbいや大き
な径を有づることが好ましい。
、第2図ないし第4図の実施例ようにかつ第5図によく
示されているように、チャンネルを通るガスの流れの方
向を横切るJ:うに延びるレッグが形成されている。各
モジュールの内面にはセラミックブロック224が形成
されているので、第2図ないし第4図の実施例のように
、各ピン電極のまわりにセラミック・スリーブを設ける
ことが必要ではないが、電極に対するセラミックブロッ
ク内の開口225は、2個の部材の間の空間すなわちク
リアランスを与えるように、電極の外径よりbいや大き
な径を有づることが好ましい。
第7図の放電装置の構造
第7図は、この発明のさらに他の実施例を示し、ここで
は全体を310で示すモジュール部材の各電極が、30
4て・示J゛カス・フロー・チャンネルの内面に実質的
に平行に延びる平坦な金属層312となっている。各モ
ジュール部材は、さらに、1層の誘電体材料314を含
んでおり、この誘電体祠料層はガス・フ[1−・チャン
ネル304の各部分にお+Jるモジコール部材の内面を
構成し、また各電極にス・1してのバラスト・コンデン
サの誘電体として機能Jる。
は全体を310で示すモジュール部材の各電極が、30
4て・示J゛カス・フロー・チャンネルの内面に実質的
に平行に延びる平坦な金属層312となっている。各モ
ジュール部材は、さらに、1層の誘電体材料314を含
んでおり、この誘電体祠料層はガス・フ[1−・チャン
ネル304の各部分にお+Jるモジコール部材の内面を
構成し、また各電極にス・1してのバラスト・コンデン
サの誘電体として機能Jる。
第7図に示づように、このように、各モジュール部材3
12は、1列の平坦な電極312と、ガス・フロー・チ
ャンネル304を横切つC延びる誘電体層314を含/
Vでおり、そのためそれぞれ、バラスト・コンデンサが
設けられた1列の電極と電気的に等価に形成されている
。各モジコール部材は、さらに、モジュール部材の長さ
方向端縁に沿って延び、かつ平坦な電極312のライン
の内面に接触する水導入管316を含む。水導入管31
6もまた、先に説明した実施例において、電気導体32
0により示されているように、平坦な電極に高電圧電気
的接続を形成づるためにも用いられる。各モジュール内
のすべての前述の部材は、先に)ホベた実施例のように
エポキシ樹脂318にで埋め込まれていてもよい。
12は、1列の平坦な電極312と、ガス・フロー・チ
ャンネル304を横切つC延びる誘電体層314を含/
Vでおり、そのためそれぞれ、バラスト・コンデンサが
設けられた1列の電極と電気的に等価に形成されている
。各モジコール部材は、さらに、モジュール部材の長さ
方向端縁に沿って延び、かつ平坦な電極312のライン
の内面に接触する水導入管316を含む。水導入管31
6もまた、先に説明した実施例において、電気導体32
0により示されているように、平坦な電極に高電圧電気
的接続を形成づるためにも用いられる。各モジュール内
のすべての前述の部材は、先に)ホベた実施例のように
エポキシ樹脂318にで埋め込まれていてもよい。
誘電体層314は、チタン酸バリウムのような強誘電体
セラミック材料からなるものでもよい。
セラミック材料からなるものでもよい。
これらの層は、異なるモジコールにおいて異なる厚みで
あってもよい。先に説明した2個の実施例のように、チ
ャンネルの様々な部分を横切る実質的に一定な電圧を発
生させるために、ガス・フロー・ヂI7ンネルの上流側
でのモジュール部材312により低いインピーダンス値
を与えるためである。
あってもよい。先に説明した2個の実施例のように、チ
ャンネルの様々な部分を横切る実質的に一定な電圧を発
生させるために、ガス・フロー・ヂI7ンネルの上流側
でのモジュール部材312により低いインピーダンス値
を与えるためである。
一例として、上)ホしたすべての実施例における電極(
、艮、150k W、200ボルト(RM S )、1
0 K l−1zの電源に接続覆ることができる。
、艮、150k W、200ボルト(RM S )、1
0 K l−1zの電源に接続覆ることができる。
この発明は、いくつかの好ましい実施例について説明し
てきたが、この発明について他の多くの変形、腹圧おJ
:び応用をなし得ることがわかるであろう。
てきたが、この発明について他の多くの変形、腹圧おJ
:び応用をなし得ることがわかるであろう。
第1図は、この発明を特に有効に応用することができる
高出力流動ガス・レーザの一形態を示づ図である。第2
図は、第1図のレーザにおける各ガス・フロー・チャン
ネルの一構成を示づ拡大斜視図ひある。第3図は、第2
図のガス・フロー・チャンネルの1モジユールの構造を
示す部分切欠断面図である。第4図は、第3図のモジュ
ール内の1個の電極に関連する部品をより詳細に示寸拡
大断面図である。第5図は、第1図のレーザにおける各
ガス・フ[]−・チャンネルの第2の構造例を示す斜視
図である。第6図は、第5図の各七ジュールの各電極に
関連する部品を示す拡大断面図である。第7図は、第1
図のレーザにおりる各ガス・フロー・ヂトンネルの第3
の構造例を示ず図である。 図において、2は外側ハウジング、3は光学装置、3a
、3cはレッグ、4a、、4Cはガス・フ[1−・チ
ャンネル、5は放電装置、41は羽根車、42はモータ
、44はディフューザ、45は壁、46は熱交換器、4
7は導管、50は独立の取付部材、59はベース、60
はつ1ブ、64は柔軟なリードスルー、93はハウジン
グの端部壁、94.95は環状フランジ、103はレー
ザ・チャンネル・レッグ、104はガス・フロー・チャ
ンネル、105は放電装置、110はモジュール部々、
4.112は電極、114はバラスト・インピーダンス
、116は冷却フィン、120は外部冷却管、122は
高電圧高周波電源、124は耐熱シート、126はセラ
ミック・スリーブ、130は固着部材、204はガス・
フロー・チ11ンネル、210は七ジ]−ル部材、21
6は冷却管、218はプラスチック材料、224はセラ
ミック・ブロック、225は開口、304はガス・フロ
ー・チトンネル、310はモジュール部材、312は平
坦な金属層、314は誘電体材料層、316は水導入管
、318はエポキシ樹脂、320は導電体を示す。
高出力流動ガス・レーザの一形態を示づ図である。第2
図は、第1図のレーザにおける各ガス・フロー・チャン
ネルの一構成を示づ拡大斜視図ひある。第3図は、第2
図のガス・フロー・チャンネルの1モジユールの構造を
示す部分切欠断面図である。第4図は、第3図のモジュ
ール内の1個の電極に関連する部品をより詳細に示寸拡
大断面図である。第5図は、第1図のレーザにおける各
ガス・フ[]−・チャンネルの第2の構造例を示す斜視
図である。第6図は、第5図の各七ジュールの各電極に
関連する部品を示す拡大断面図である。第7図は、第1
図のレーザにおりる各ガス・フロー・ヂトンネルの第3
の構造例を示ず図である。 図において、2は外側ハウジング、3は光学装置、3a
、3cはレッグ、4a、、4Cはガス・フ[1−・チ
ャンネル、5は放電装置、41は羽根車、42はモータ
、44はディフューザ、45は壁、46は熱交換器、4
7は導管、50は独立の取付部材、59はベース、60
はつ1ブ、64は柔軟なリードスルー、93はハウジン
グの端部壁、94.95は環状フランジ、103はレー
ザ・チャンネル・レッグ、104はガス・フロー・チャ
ンネル、105は放電装置、110はモジュール部々、
4.112は電極、114はバラスト・インピーダンス
、116は冷却フィン、120は外部冷却管、122は
高電圧高周波電源、124は耐熱シート、126はセラ
ミック・スリーブ、130は固着部材、204はガス・
フロー・チ11ンネル、210は七ジ]−ル部材、21
6は冷却管、218はプラスチック材料、224はセラ
ミック・ブロック、225は開口、304はガス・フロ
ー・チトンネル、310はモジュール部材、312は平
坦な金属層、314は誘電体材料層、316は水導入管
、318はエポキシ樹脂、320は導電体を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) ガス・フロー・チャンネルを通るガスの流れを
横切る安定な放電を確立しかつ維持するための装置にお
いて、 前記ガス・フロー・チャンネルの壁の少なくとも一部が
、外部電源の電極に接続するための手段を有づる少なく
とも1個の電極をそれぞれが含む複数個のモジコール部
材と、前記電極に熱結合された冷却部材とにより占めら
れており、すべての前記構成部材が前記ガス・フロー・
チVンネル壁の各部分に沿つC延びる絶縁材料ブロック
に埋め込まれていることを特徴とする、ガス流を横切る
安定な放電を確立しかつ維持するだめの装置。 (2) 前記各モジコール部材は、各電極に電気的に接
続され、かつ前記冷却部材と熱結合された絶縁材わ1ブ
ロツク内に埋め込まれたバラスト・インピーダンスを含
む、特許請求の範囲第1項88載の装置。 (3) 前記各モジュール部材は、前記カス・フロー・
チャンネルについてのライン内に配列された複数個の電
極を含む、特許請求の範囲第1項記載の装置。 (4) 各モジュール部材内の電極のWit記ラインは
、ガス・フロー・チャンネルを通るガスの流れに平行に
延びる、特許請求の範囲第1項記載の装置。 (5) 各モジュール部材内の電極の前記ラインは、ガ
ス・フロー・チャンネルを通るガスの流れを横切って延
びる、特許請求の範囲第1項記載の装置。 (6) 前記ガス・フロー・チトンネルの下流側に設(
プられたモジュール部材内の前記l<ラスト・インピー
ダンスは、下流側のチャンネルを通るガスの流れのより
低いインピーダンスを補償し、かつチャンネルの様々な
位置を横切って実質的に一定の電圧を発生ずるように、
上流側に設けられたモジコール部材内のバラスト・イン
ピーダンスよりも低いインピーダンス値を有する、特許
請求の範囲第2項記載の装置。 〈7〉 前記各電極は、ガス・フロー・チャンネル内に
突出するようにモジュール部材の内面から突出づ−る金
属ビンと、電極に接続されかつ絶縁相別ブロック内に埋
め込まれたバラスト・インピーダンスとを含む、特8′
[請求の範囲第1項記載の装置。 (8) ガス・フロー・チャンネル内に突出する各金属
ビン電極のデツプには、前記チャンネルを通るガスの流
れの方向を横切るように延びるレッグが形成されている
、特許請求の範囲第7項記載の装置。 (9) 前記バラスト・インピーダンスは、絶縁材料ブ
ロック内に埋め込まれたコンデンサである、特許請求の
範囲第7項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US431254 | 1982-09-30 | ||
| US06/431,254 US4534032A (en) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | Apparatus for establishing and maintaining a stable electrical discharge across a stream of gas, and a high-power laser including such apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984484A true JPS5984484A (ja) | 1984-05-16 |
Family
ID=23711152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58180058A Pending JPS5984484A (ja) | 1982-09-30 | 1983-09-27 | ガスの流れを横切る安定な放電を確立しかつ維持するための装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4534032A (ja) |
| JP (1) | JPS5984484A (ja) |
| DE (1) | DE3335408A1 (ja) |
| GB (1) | GB2129202B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3579322D1 (de) * | 1985-12-10 | 1990-09-27 | Kyong H Nam | C.w.-gaslaser hoechster leistung mit selbstoptimierenden elektroden und pulsstabilisierung. |
| DE3705881A1 (de) * | 1986-02-25 | 1987-08-27 | Amada Co Ltd | Gaslasergenerator |
| US4730332A (en) * | 1986-03-20 | 1988-03-08 | Laser Corporation Of America | Laser oscillating apparatus |
| US4807242A (en) * | 1987-07-21 | 1989-02-21 | Kim Simon M | Gas laser discharge tube |
| FR2845440B1 (fr) * | 2002-10-03 | 2006-03-31 | Sagem | Dispositif de commande de valves |
| US7145926B2 (en) * | 2003-01-24 | 2006-12-05 | Peter Vitruk | RF excited gas laser |
| JP4360899B2 (ja) * | 2003-12-22 | 2009-11-11 | パナソニック電工株式会社 | 放電灯点灯装置及び照明器具 |
| CN102969645B (zh) * | 2012-11-21 | 2015-07-15 | 中国科学院光电研究院 | 双电极放电腔的导流装置及应用其的放电腔、准分子激光器 |
| WO2019030792A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | ギガフォトン株式会社 | コンデンサの冷却構造及びレーザ装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3860887A (en) * | 1972-10-20 | 1975-01-14 | Avco Corp | Electrically excited high power flowing gas devices such as lasers and the like |
| US4288756A (en) * | 1977-06-17 | 1981-09-08 | United Kingdom Atomic Energy Authority | CO2 Laser |
| US4449220A (en) * | 1977-12-27 | 1984-05-15 | United Technologies Corporation | Apparatus and method for deposition of electrical power in an electric discharge laser |
| GB2023922B (en) * | 1978-06-19 | 1982-11-24 | Lunev E | And others gas discharge electrodes |
| CA1147048A (en) * | 1979-06-14 | 1983-05-24 | Canadian Patents And Development Limited | High power laser and cathode structure therefor |
| US4423510A (en) * | 1979-08-17 | 1983-12-27 | Westinghouse Electric Corp. | Laser tube design incorporating low inductance capacitor |
-
1982
- 1982-09-30 US US06/431,254 patent/US4534032A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-09-27 JP JP58180058A patent/JPS5984484A/ja active Pending
- 1983-09-28 GB GB08325869A patent/GB2129202B/en not_active Expired
- 1983-09-29 DE DE19833335408 patent/DE3335408A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4534032A (en) | 1985-08-06 |
| GB2129202A (en) | 1984-05-10 |
| GB8325869D0 (en) | 1983-11-02 |
| DE3335408A1 (de) | 1984-04-05 |
| GB2129202B (en) | 1986-06-25 |
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