JPS5992936A - 無水プリフオ−ムロツドの製造方法 - Google Patents
無水プリフオ−ムロツドの製造方法Info
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- JPS5992936A JPS5992936A JP20338582A JP20338582A JPS5992936A JP S5992936 A JPS5992936 A JP S5992936A JP 20338582 A JP20338582 A JP 20338582A JP 20338582 A JP20338582 A JP 20338582A JP S5992936 A JPS5992936 A JP S5992936A
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- Japan
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- compound
- anhydrous
- preform rod
- gas
- halogen compounds
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は通信用光ファイバの前身たる無水ブリフォーム
ロンドの製造方法に関する。
ロンドの製造方法に関する。
光ファイバの伝送特性を向上させる上で問題となるのは
、如何にしてＯＨ基を低減させるかである。
、如何にしてＯＨ基を低減させるかである。
従来ＯＨ基の低減化を図るため、知相軸イ」法または外
付ＣＶＤ法により製造した多孔質母材を、フッ素化合物
、臭素化合物または塩素化合物等のハロゲン化合物の中
から選んだ１つをヘリウムガス中に添加した雰囲気にさ
ら１．なから、またはさらした後、高温下で透明ガラス
化していた。
付ＣＶＤ法により製造した多孔質母材を、フッ素化合物
、臭素化合物または塩素化合物等のハロゲン化合物の中
から選んだ１つをヘリウムガス中に添加した雰囲気にさ
ら１．なから、またはさらした後、高温下で透明ガラス
化していた。
しかしかかる従来の方法では充分な脱水効果が得られに
りく、得られるにしてもその処理にかなりの時間を要し
ていた。
りく、得られるにしてもその処理にかなりの時間を要し
ていた。
本発明は上記ハロゲン化合物の中から相異なるハロゲン
の化合物を２種以上選んでヘリウムガスに添加し、当該
ヘリウムガスを主成分とする雰囲気に母材をさらしなが
ら、またはさらした後、透明ガラス化することによって
上記問題点を解決しようというもので、これを図面に示
す実施例を参照しながら説明すると、フッ素化合物、塩
素化合物または臭素化合物の気体の中から相異なるハロ
°ゲンの化合物を２種以上選び、これらの混合気体に多
孔質母材をさらすと、相異なるハロゲン、即ちフッ素と
塩素、塩素と臭素または臭素とフッ素の共存により、脱
水化が一層進む現象がみられる。
の化合物を２種以上選んでヘリウムガスに添加し、当該
ヘリウムガスを主成分とする雰囲気に母材をさらしなが
ら、またはさらした後、透明ガラス化することによって
上記問題点を解決しようというもので、これを図面に示
す実施例を参照しながら説明すると、フッ素化合物、塩
素化合物または臭素化合物の気体の中から相異なるハロ
°ゲンの化合物を２種以上選び、これらの混合気体に多
孔質母材をさらすと、相異なるハロゲン、即ちフッ素と
塩素、塩素と臭素または臭素とフッ素の共存により、脱
水化が一層進む現象がみられる。
本発明はかかる現象を利用し、上記混合気体をヘリウム
ガスに添加したヘリウムガスを主成分とする雰囲気に、
多孔質母材をさらしながら、捷たはさらした後、同母材
を透明ガラス化することによってＯＨ基の低減化を図る
ものである。
ガスに添加したヘリウムガスを主成分とする雰囲気に、
多孔質母材をさらしながら、捷たはさらした後、同母材
を透明ガラス化することによってＯＨ基の低減化を図る
ものである。
図面は、上記ヘリウムガスを主成分とする混合気体に、
気相軸付法または外（ｔ ＣＶ Ｄ法により製造した多
孔質母材をさらしつつ高温下で透明ガラス化する工程を
示す説明図て、炉芯管（１）に、フッ素化合物、塩素化
合物または臭素化合物の中から選んだ２種以上の気体を
添加したヘリウムガスを主成分とする混合気体Ｃｌ４人
するＯ この際重要なことは同種のハロゲンの化合物列えばＣＦ
４、ＢＦ３の組合せてはなく、相異なるハロゲンの化合
物、例えばＣＦいＳ ｉ Ｃｔ４の組合せによる混合気
体を添加するということである。
気相軸付法または外（ｔ ＣＶ Ｄ法により製造した多
孔質母材をさらしつつ高温下で透明ガラス化する工程を
示す説明図て、炉芯管（１）に、フッ素化合物、塩素化
合物または臭素化合物の中から選んだ２種以上の気体を
添加したヘリウムガスを主成分とする混合気体Ｃｌ４人
するＯ この際重要なことは同種のハロゲンの化合物列えばＣＦ
４、ＢＦ３の組合せてはなく、相異なるハロゲンの化合
物、例えばＣＦいＳ ｉ Ｃｔ４の組合せによる混合気
体を添加するということである。
そして炉芯管（１）をヒータ（２）で高温に加熱しつつ
多孔質母材（３）を炉芯管（１）に装入し、透明ガラス
化づ−る〇 尚、図面において、（４）は上記混合気体Ｇの供給口、
（５）は同気体の排気口である。
多孔質母材（３）を炉芯管（１）に装入し、透明ガラス
化づ−る〇 尚、図面において、（４）は上記混合気体Ｇの供給口、
（５）は同気体の排気口である。
ところで、上記方法に使用されるフッ素化合物としては
、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ４、Ｃ２Ｆ６、ＢＦ３またはＳＦ６の
中の何れかが効果的であり、臭素化合物としては、Ｂ
ｒ２ 、ＢＢ ｒ３ 、Ｓ ｉ Ｂ ｒ３、ＰＢ ｒ３
またはＣＯＢ ｒ３の中の何れかが、また塩素化合
物としてはＣｌ３．５ＩＣｔ４、ＧｅＣｔ４、ＢＣｔ３
、ＰＯＣｌ２．５ＯＣＬ２．５２ＣＬ２、ＣＣｌ４また
はＣ０Ｃｔ２の中の何れかが効果的である。
、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ４、Ｃ２Ｆ６、ＢＦ３またはＳＦ６の
中の何れかが効果的であり、臭素化合物としては、Ｂ
ｒ２ 、ＢＢ ｒ３ 、Ｓ ｉ Ｂ ｒ３、ＰＢ ｒ３
またはＣＯＢ ｒ３の中の何れかが、また塩素化合
物としてはＣｌ３．５ＩＣｔ４、ＧｅＣｔ４、ＢＣｔ３
、ＰＯＣｌ２．５ＯＣＬ２．５２ＣＬ２、ＣＣｌ４また
はＣ０Ｃｔ２の中の何れかが効果的である。
またヘリウムガスに添加する混合気体の混合比は、少な
くとも各気体が１０モル飴以上であることが好ましく、
さらにハロゲンの組合せとしては何れの組合せの場合で
も塩素化合物を含むことが好ましい。
くとも各気体が１０モル飴以上であることが好ましく、
さらにハロゲンの組合せとしては何れの組合せの場合で
も塩素化合物を含むことが好ましい。
ここでよ抄具体的な例について述べると、気相軸付法に
より、グレーデッドインデックス型光ファイバ用の多孔
質母材を作製し、これをシリコニット炉内に取り付け、
速度５０ ｒａｍ／ ｈｒ。
より、グレーデッドインデックス型光ファイバ用の多孔
質母材を作製し、これをシリコニット炉内に取り付け、
速度５０ ｒａｍ／ ｈｒ。
で下降させる。
シリコニット類の温度は約１５００℃である。
この時炉内へはヘリウムガスを１５Ａ／ｖｉａ導入した
。
。
脱水剤としては、臭素化合物としてＢＢ ｒ３、塩素化
合物として５ｏｃｚ２を使用した。
合物として５ｏｃｚ２を使用した。
何れも常温での蒸気圧は１００ ｗｉＨｇ前後であった
。
。
ヘリウムガスと脱水剤との混合は、ＢＢｒ３と５ＯＣ１
２を酸素でバブリングすることにより行なった。
２を酸素でバブリングすることにより行なった。
そしてＢＢ ｒ３とｓ ｏ ｃ ｉ２との混合比を、こ
れらの合計を一定に保持しつつ酸素のバブリング量を調
節して変化させた。
れらの合計を一定に保持しつつ酸素のバブリング量を調
節して変化させた。
このようにして得られた透明ガラス棒を、コラプスして
プリフォームロッドとし、夫々をコア径５０μｍ、外径
１２５μｍの光ファイバに線引して伝送損失を測定した
ところ第２図に示すような結果が得られた。
プリフォームロッドとし、夫々をコア径５０μｍ、外径
１２５μｍの光ファイバに線引して伝送損失を測定した
ところ第２図に示すような結果が得られた。
同図において縦軸は波長１３８μ？ｎにおけるＯ Ｈ基
の吸収（こよる損失αを示し、横軸は５ＯＣｔ２とＢＢ
ｒ３との７昆合比γを示す。
の吸収（こよる損失αを示し、横軸は５ＯＣｔ２とＢＢ
ｒ３との７昆合比γを示す。
伝送損失が小さい程脱水効果があったことになる。
尚、同図において・印は上記フッ素化合物、塩素化合物
または臭素化合物の中かｒ−）選んだｊつのハロゲン化
合物を添加した従来例の結果を示し、Ｏ印は上記具体例
の結果を示す。
または臭素化合物の中かｒ−）選んだｊつのハロゲン化
合物を添加した従来例の結果を示し、Ｏ印は上記具体例
の結果を示す。
同図かられかるように、斜線内の混合比に４゜・いては
伝送損失が少ない。
伝送損失が少ない。
この斜線内の混合比は、５ＯＣｔ２またはＢＢ ｒ３の
何れか一方を１０モルφ以上とし、残余を他方のハロゲ
ン化合物とした場合である最も少ない伝送損失の混合比
（ま、夫々５０モル飴の比率、即ち１：ｌのとぎである
。
何れか一方を１０モルφ以上とし、残余を他方のハロゲ
ン化合物とした場合である最も少ない伝送損失の混合比
（ま、夫々５０モル飴の比率、即ち１：ｌのとぎである
。
この時の伝送損失は０．１ｄＢ／に１ｎ″′Ｃあった。
次の表１１こ上記具体例と同一条件下て各種のハロゲン
化合物を種々の比率て混合して得られた光ファイバの伝
送損失を示す。
化合物を種々の比率て混合して得られた光ファイバの伝
送損失を示す。
表 Ｉ
比較例として、一種のハロゲン化合物を使用した場合の
伝送損失を次の表■に示す。
伝送損失を次の表■に示す。
表 Ｕ
表■において、気体の一部は酸素希Ｖ→［７て、また液
体は酸素でバブリングしてヘリウムガスに添加した。
体は酸素でバブリングしてヘリウムガスに添加した。
上記表１、■かられかるように、一種のハロゲン化合物
を使用した場合に比較して、２種の相異なるハロゲンの
化合物を使用した場合の方が脱水効果（ＯＨ基の低減化
）が大きいことがわかる。
を使用した場合に比較して、２種の相異なるハロゲンの
化合物を使用した場合の方が脱水効果（ＯＨ基の低減化
）が大きいことがわかる。
またその中でも塩素と他のハロゲン化合物との組合せが
より効果的であるということがわかる。
より効果的であるということがわかる。
以上のように本発明においては、多孔質母材を、フッ素
化合物、塩素化合物または臭素化合物の気体の中から相
異なるハロゲンの化合物を２種以上選んでこれらを添加
したヘリウムガスを工分とする雰囲気にさらしながら、
またはさらした後、透明ガラス化するので、フッ素と塩
素、塩素と臭素または臭素とフッ素の共存による相乗効
果によってＯＨ基の低減化が一層促進されることになり
、したがって伝送特性が向上する○ また充分な脱水効果が得られるにもかかわらず、その処
理に要する時間は従来に比較してかなり短縮されること
になる。
化合物、塩素化合物または臭素化合物の気体の中から相
異なるハロゲンの化合物を２種以上選んでこれらを添加
したヘリウムガスを工分とする雰囲気にさらしながら、
またはさらした後、透明ガラス化するので、フッ素と塩
素、塩素と臭素または臭素とフッ素の共存による相乗効
果によってＯＨ基の低減化が一層促進されることになり
、したがって伝送特性が向上する○ また充分な脱水効果が得られるにもかかわらず、その処
理に要する時間は従来に比較してかなり短縮されること
になる。
第１図は本発明に係る方法の説明図、第２図はハロゲン
化合物の混合比と伝送損失との関係を示すグラフである
。 （３）・・・・・多孔質母材 Ｇ・・・・・２種以上の混合ガス 特許出願人 代理人 弁理士 井 藤 誠 ＢＢｒｓ１００ ５０ ０市原型八幡海岸
通６番地古河電 気工業株式会社千葉電線製造所 内 ０発 明 者 稲垣伸夫 茨城県那珂郡東海村太字白方字 白根１６２番地日本電信電話公社 茨城電気通信研究所内
化合物の混合比と伝送損失との関係を示すグラフである
。 （３）・・・・・多孔質母材 Ｇ・・・・・２種以上の混合ガス 特許出願人 代理人 弁理士 井 藤 誠 ＢＢｒｓ１００ ５０ ０市原型八幡海岸
通６番地古河電 気工業株式会社千葉電線製造所 内 ０発 明 者 稲垣伸夫 茨城県那珂郡東海村太字白方字 白根１６２番地日本電信電話公社 茨城電気通信研究所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 気相軸付法または外付ＣＶＤ法によって製造
した多孔質母材を、フッ素化合物、塩素化合物または臭
素化合物の気体の中から相異なるハロゲンの化合物を２
種以上選んでこれらを添加したヘリウムガスを主成分と
する雰囲気にさらしながら、または該雰囲気（こさらし
た後、高温下で透明ガラス化することを特徴とする無水
プリフォームロッドの製造方法０（２） フッ素化合
物はＣＦ４、Ｃ２Ｆ４、Ｃ２Ｆ６、ＢＦ３ またはＳＦ
ａ の中から、臭素化合物はＢｒ□、ＢＢｒ３、Ｓ
ｉ Ｂ ｒ ３ 、Ｐ Ｂ ｒ ３ ｔたはＣＯＢ ｒ
３の中から、また塩素化合物はＣＬ２．５ｉＣｔ、、
ＧｅＣｌ４、ＢＣｌ２、ＰＯＣｌ２．５ＯＣｔ２．５２
ＣＬ２、ＣＣｔ４ ｆ、たはＣＯＣＬ２の中から夫々選
ばれることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の無
水プリフォームロッドの製造方法。 （３） ハロゲン化合物間の比率は、各々少なくとも
１０モル％す、上であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項また（↓第２項記載の無水プリフォームロッド
のＷ ！方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20338582A JPS6037063B2 (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 無水プリフオ−ムロツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20338582A JPS6037063B2 (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 無水プリフオ−ムロツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5992936A true JPS5992936A (ja) | 1984-05-29 |
| JPS6037063B2 JPS6037063B2 (ja) | 1985-08-23 |
Family
ID=16473157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20338582A Expired JPS6037063B2 (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 無水プリフオ−ムロツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037063B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6086045A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ−用ガラス母材の製造方法 |
| US4650511A (en) * | 1984-06-04 | 1987-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for the preparation of a dehydrated quartz glass material for light transmission |
| JPS6283323A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスの製造方法 |
| US4812155A (en) * | 1983-10-19 | 1989-03-14 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Method for production of glass preform for optical fibers |
| US5203898A (en) * | 1991-12-16 | 1993-04-20 | Corning Incorporated | Method of making fluorine/boron doped silica tubes |
| US6606883B2 (en) * | 2001-04-27 | 2003-08-19 | Corning Incorporated | Method for producing fused silica and doped fused silica glass |
-
1982
- 1982-11-19 JP JP20338582A patent/JPS6037063B2/ja not_active Expired
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6086045A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ−用ガラス母材の製造方法 |
| US4812155A (en) * | 1983-10-19 | 1989-03-14 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Method for production of glass preform for optical fibers |
| US4650511A (en) * | 1984-06-04 | 1987-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for the preparation of a dehydrated quartz glass material for light transmission |
| JPS6283323A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスの製造方法 |
| US5203898A (en) * | 1991-12-16 | 1993-04-20 | Corning Incorporated | Method of making fluorine/boron doped silica tubes |
| US6606883B2 (en) * | 2001-04-27 | 2003-08-19 | Corning Incorporated | Method for producing fused silica and doped fused silica glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6037063B2 (ja) | 1985-08-23 |
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