JPS5994452A - 複合形トランジスタ - Google Patents
複合形トランジスタInfo
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- JPS5994452A JPS5994452A JP57203564A JP20356482A JPS5994452A JP S5994452 A JPS5994452 A JP S5994452A JP 57203564 A JP57203564 A JP 57203564A JP 20356482 A JP20356482 A JP 20356482A JP S5994452 A JPS5994452 A JP S5994452A
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- fet
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- bipolar
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/567—Circuits characterised by the use of more than one type of semiconductor device, e.g. BIMOS, composite devices such as IGBT
-
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/04—Modifications for accelerating switching
- H03K17/041—Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit
- H03K17/0412—Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit
- H03K17/04126—Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit in bipolar transistor switches
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- H03K17/0422—Anti-saturation measures
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/40—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00 with at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of IGFETs with BJTs
- H10D84/401—Combinations of FETs or IGBTs with BJTs
- H10D84/403—Combinations of FETs or IGBTs with BJTs and with one or more of diodes, resistors or capacitors
- H10D84/406—Combinations of FETs or IGBTs with vertical BJTs and with one or more of diodes, resistors or capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K2217/00—Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
- H03K2217/0036—Means reducing energy consumption
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、バイポーラトランジスタと電界効果トランジ
スタ(以下、FETと称する)とで構成される複合形ト
ランジスタに萌し、特に、各種の電力変換装置δのスイ
ッチング素子として好適な複合形トランジスタに関する
。
スタ(以下、FETと称する)とで構成される複合形ト
ランジスタに萌し、特に、各種の電力変換装置δのスイ
ッチング素子として好適な複合形トランジスタに関する
。
従来、この種のスイッチング素子の一例としては、第1
図示のようなダーリントン接続トランジスタがある。こ
こで、lは入力段のトランジスタ、2は出力段のトラン
ジスタであり、この両トランジスタ1および2は大きな
電流増幅率(hFE)を得るためにグーリドン接続され
ている。また、トランジスタ1および2はいずれもNP
N形のバイポーラトランジスタであり、双方の蓄積キャ
リアを外部回路を通じて除去するために、トランジスタ
1のベースBとエミッタEとの間にスピードアップ用の
ダイオード3が接続されている。なお、図中、Cはコレ
クタ、Eはエミッタを表わしている。
図示のようなダーリントン接続トランジスタがある。こ
こで、lは入力段のトランジスタ、2は出力段のトラン
ジスタであり、この両トランジスタ1および2は大きな
電流増幅率(hFE)を得るためにグーリドン接続され
ている。また、トランジスタ1および2はいずれもNP
N形のバイポーラトランジスタであり、双方の蓄積キャ
リアを外部回路を通じて除去するために、トランジスタ
1のベースBとエミッタEとの間にスピードアップ用の
ダイオード3が接続されている。なお、図中、Cはコレ
クタ、Eはエミッタを表わしている。
しかしながら、この様なダーリントン接続トランジスタ
では次の様な諸問題が生じていた。
では次の様な諸問題が生じていた。
(1) バイポーラトランジスタ1および2をダーリ
ントン接続すると、エミッタ接地直流電流増幅率(bp
E)は通常50−100程度に増加する。この程度のh
Ftでも、例えば電流値が10OAのダーリントントラ
ンジスタを駆動するにはIA以上のl111mバイアス
電流が要求されるので、その消費電力が大きい。
ントン接続すると、エミッタ接地直流電流増幅率(bp
E)は通常50−100程度に増加する。この程度のh
Ftでも、例えば電流値が10OAのダーリントントラ
ンジスタを駆動するにはIA以上のl111mバイアス
電流が要求されるので、その消費電力が大きい。
(2) クーリントン接続における出力段のトランジ
スタ2は、本来の飽和電圧より高いコレクタ・エミッタ
間電圧で、すなわち、活性領域で動作することになる。
スタ2は、本来の飽和電圧より高いコレクタ・エミッタ
間電圧で、すなわち、活性領域で動作することになる。
そのため、出力段のトランジスタ2の蓄積キャリアは単
独トランジスタとして用いた場合よりも少なくなるので
、そのターンオフ時間も短くなる。しかし、全体のター
ンオフ時間は、人力段と出力段のトランジスタlおよび
2のターンオフ時間の和となり、通常、入力段のトラン
ジスタ1のターンオフ時間は出力段のトランジスタ2に
比べかなり長い。これを短縮するために、ダイオード3
により逆バイアス電流を供給して、導通期間内にベース
領域内に蓄積したキャリアを外部回路を通じて放出させ
ているか、それでも全体のターンオフ時間は単独トラン
ジスタを用いる場合より長くなり、スイッチイブ速度の
向上が得られない。これは、入力段のトランジスタ1に
7へイポーラトランジスタを使用しているので、ダイオ
ード3だけではキャリア蓄積効果の影響が完全には避け
られないためである。
独トランジスタとして用いた場合よりも少なくなるので
、そのターンオフ時間も短くなる。しかし、全体のター
ンオフ時間は、人力段と出力段のトランジスタlおよび
2のターンオフ時間の和となり、通常、入力段のトラン
ジスタ1のターンオフ時間は出力段のトランジスタ2に
比べかなり長い。これを短縮するために、ダイオード3
により逆バイアス電流を供給して、導通期間内にベース
領域内に蓄積したキャリアを外部回路を通じて放出させ
ているか、それでも全体のターンオフ時間は単独トラン
ジスタを用いる場合より長くなり、スイッチイブ速度の
向上が得られない。これは、入力段のトランジスタ1に
7へイポーラトランジスタを使用しているので、ダイオ
ード3だけではキャリア蓄積効果の影響が完全には避け
られないためである。
本発明の目的は、上述した欠点を除去し、FETとバイ
ポー輿うトランジスタとを適切に組み合わせることによ
り、低電力で駆動でき、かつ、スイッチイブ速度の向上
が得られる複合形トランジスタを提供することにある。
ポー輿うトランジスタとを適切に組み合わせることによ
り、低電力で駆動でき、かつ、スイッチイブ速度の向上
が得られる複合形トランジスタを提供することにある。
そのために、本発明はバイポーラトランジスタ2、該バ
イポーン、ウッジ8ヶを、イ、2チ、グ動作させる一組
の電界効果トランジスタとを有し、バイポーラトランジ
スタのコレクタとベースとの間には電力の電界効果トラ
ンジスタのドレインおよびソースを接続し、バイポーラ
トランジスタのベースとエミッタとの間には他方の電界
効果トランジスタのドレインおよびソースを接続したこ
とを特徴とするものである。
イポーン、ウッジ8ヶを、イ、2チ、グ動作させる一組
の電界効果トランジスタとを有し、バイポーラトランジ
スタのコレクタとベースとの間には電力の電界効果トラ
ンジスタのドレインおよびソースを接続し、バイポーラ
トランジスタのベースとエミッタとの間には他方の電界
効果トランジスタのドレインおよびソースを接続したこ
とを特徴とするものである。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第2図は、本発明複合形トランジスタの構成の一例化示
し、第1図と同様の部分には同一符号を付してその詳細
な説明は省略する。ここで、4はMOS形(絶縁ゲート
形)でNチャネル形のFET、5はMOS形でPチャネ
ル形のFETである。トランジスタ2のベースBとFE
T 4のソースSとを接続し、トランジスタ2のコレク
タCとFET 4のドレインDとを接続する。また、ト
ランジスタ2のベースBとFET 5のドレインDとを
接続し、トランジスタ2のエミッタEとFET 5のソ
ースSとを接続する。さらに、本例ではMOS形のFE
Tを用いるので、FET 4および5のそれぞれのゲー
トGを互いに接続し、3端子のスイタチング素子として
構成する。
し、第1図と同様の部分には同一符号を付してその詳細
な説明は省略する。ここで、4はMOS形(絶縁ゲート
形)でNチャネル形のFET、5はMOS形でPチャネ
ル形のFETである。トランジスタ2のベースBとFE
T 4のソースSとを接続し、トランジスタ2のコレク
タCとFET 4のドレインDとを接続する。また、ト
ランジスタ2のベースBとFET 5のドレインDとを
接続し、トランジスタ2のエミッタEとFET 5のソ
ースSとを接続する。さらに、本例ではMOS形のFE
Tを用いるので、FET 4および5のそれぞれのゲー
トGを互いに接続し、3端子のスイタチング素子として
構成する。
本例においては、トランジスタ2としてNPN形のもの
を用いているが、PNP形のトランジスタを用いて構成
することもできる。ただし、この場合には、FET 4
はPチャネル形のFETに、FET 5はNチャネル形
のFETにそれぞれ置き換えること勿論である。
を用いているが、PNP形のトランジスタを用いて構成
することもできる。ただし、この場合には、FET 4
はPチャネル形のFETに、FET 5はNチャネル形
のFETにそれぞれ置き換えること勿論である。
次に、第2図示の回路の動作を説明する。
(1) 導通時の動作
ゲートGに例えば+IOVの制御電圧を供給すると、ト
ランジスタ2のベースとコレクタとの間に接続したNチ
ャネル形のFET 4が導通し、このFET 4を通し
てトランジスタ2にベース順バイアス電流が流れ、トラ
ンジスタ2が導通ずる。このとき、FET 4の導通抵
抗がたとえ0Ωであっても、トランジスタ2はそのベー
スとコレクタとの間が短絡されるだけであるので、その
コレクタ参エミッタ間電圧はベース・エミッタ間飽和電
圧より低くならない。そのため、トランジスタ2は活性
領域で動作し、トランジスタ2のベース領域内に生じる
蓄積キャリアは少なく、第1図に示すようなバイポーラ
トランジスタlを入力段として使用した従来例の場合と
同様にキャリア蓄積効果による悪影響が軽減される。ま
た、FET 4はMOS形のFET’であるから第1図
示のバイポーラトランジスタ形のトランジスタlより小
さな容量のもので足りる。
ランジスタ2のベースとコレクタとの間に接続したNチ
ャネル形のFET 4が導通し、このFET 4を通し
てトランジスタ2にベース順バイアス電流が流れ、トラ
ンジスタ2が導通ずる。このとき、FET 4の導通抵
抗がたとえ0Ωであっても、トランジスタ2はそのベー
スとコレクタとの間が短絡されるだけであるので、その
コレクタ参エミッタ間電圧はベース・エミッタ間飽和電
圧より低くならない。そのため、トランジスタ2は活性
領域で動作し、トランジスタ2のベース領域内に生じる
蓄積キャリアは少なく、第1図に示すようなバイポーラ
トランジスタlを入力段として使用した従来例の場合と
同様にキャリア蓄積効果による悪影響が軽減される。ま
た、FET 4はMOS形のFET’であるから第1図
示のバイポーラトランジスタ形のトランジスタlより小
さな容量のもので足りる。
(2) ターンオフ時の動作
次に、ゲートGにOvあるいは一10Vの制御電圧を供
給すると、FET 4は非導通となって、トランジスタ
2のベースとエミッタとの間に接続したPチャネル形の
FET 5が導通ずる。これにより、トランジスタ2へ
の順バイアス電>Xjの供給が停止され、トランジスタ
2のベース・エミッタ接合の接合電位によって、FET
5を通してベース逆バイアス電流が流れるため、ベー
ス領域内に蓄積されたキャリアが放出される。また、F
ET 5もMOS形のFETであるから第1図示のトラ
ンジスタlより小さな容量のもので足りる。
給すると、FET 4は非導通となって、トランジスタ
2のベースとエミッタとの間に接続したPチャネル形の
FET 5が導通ずる。これにより、トランジスタ2へ
の順バイアス電>Xjの供給が停止され、トランジスタ
2のベース・エミッタ接合の接合電位によって、FET
5を通してベース逆バイアス電流が流れるため、ベー
ス領域内に蓄積されたキャリアが放出される。また、F
ET 5もMOS形のFETであるから第1図示のトラ
ンジスタlより小さな容量のもので足りる。
一般に、FETはキャリア蓄積効果の影響がなく、その
スイッチング速度も非常に早いことが知られている。従
って、出力段のバイポーラトランジスタ2の前後にFE
T 4および5を用いて構成している本発明複合形トラ
ンジスタによれば、入力段にバイポーラトランジスタl
を用いて第1図示の従来例と比較してターンオフ時間を
9F3縮できる。しかも、本例では、出力段のバイポー
ラトランジスタ2のベースとエミッタとの間を短絡する
のに必要なだけのベース逆バイアス電流の供給で充分実
用性のあるターンオフ時間か得られる。さらに、本例で
は順バイアス用および逆バイアス用ともにFETを用い
、単に電圧の制御のみにより出力側そスイッチング制御
できるので、全体としての消費電力が軽減される。
スイッチング速度も非常に早いことが知られている。従
って、出力段のバイポーラトランジスタ2の前後にFE
T 4および5を用いて構成している本発明複合形トラ
ンジスタによれば、入力段にバイポーラトランジスタl
を用いて第1図示の従来例と比較してターンオフ時間を
9F3縮できる。しかも、本例では、出力段のバイポー
ラトランジスタ2のベースとエミッタとの間を短絡する
のに必要なだけのベース逆バイアス電流の供給で充分実
用性のあるターンオフ時間か得られる。さらに、本例で
は順バイアス用および逆バイアス用ともにFETを用い
、単に電圧の制御のみにより出力側そスイッチング制御
できるので、全体としての消費電力が軽減される。
第3図および第4図はそれぞれ本発明複合形トランジス
タの他の構成例を示し、第2図と同一の部分には同一符
号を付してその説明を省略する。
タの他の構成例を示し、第2図と同一の部分には同一符
号を付してその説明を省略する。
まず、第3図に示す実施例では、第2図示のFET 5
をNチャネル形のFET ’6で置き換え、FET4と
FET 6のゲートGをそれぞれ分離して構成している
点が第2図の回路と異なる。
をNチャネル形のFET ’6で置き換え、FET4と
FET 6のゲートGをそれぞれ分離して構成している
点が第2図の回路と異なる。
第4図に示す実施例では、第2図示のFET 4および
5を接合形のFET 7およびFET 8に置き換え、
それらのゲートGをそれぞれ分離させた点が第2図示の
回路と異なる。FET 7はNチャネル形のFET 、
FET 8はPチャネル形のFETである。図示では
トランジスタ2はNPN形としたが、これに代えてPN
P形のものを用いることもできる。ただし、この場合に
は、FET7はPチャネル形のものに、またFET 8
はNチャネル形のものにそれぞれ置き換える。
5を接合形のFET 7およびFET 8に置き換え、
それらのゲートGをそれぞれ分離させた点が第2図示の
回路と異なる。FET 7はNチャネル形のFET 、
FET 8はPチャネル形のFETである。図示では
トランジスタ2はNPN形としたが、これに代えてPN
P形のものを用いることもできる。ただし、この場合に
は、FET7はPチャネル形のものに、またFET 8
はNチャネル形のものにそれぞれ置き換える。
第3図および第4図示の回路の動作は基本的に第2図示
のものと異ならないが、入力側に2つのゲートGを設け
ているので制御信号を別個に供給することができる点が
異なる。
のものと異ならないが、入力側に2つのゲートGを設け
ているので制御信号を別個に供給することができる点が
異なる。
以上説明したように、本発明によれば、大容藁のバイポ
ーラトランジスタと小容量のFETとを組み合わせるこ
とにより大きな電流を制御電圧によっテスイッチング制
御するとともにキャリア蓄積効果の影響を軽減したので
、低電力で駆動でき、かつ、スイ・ンチング詩間が短縮
された複合形トランジスタが得られる。さらに、MOS
形FETを使用して3端子で構成すれば、簡単でしかも
消費電力のきわめて少ないドライブ回路を構成でき、素
子の大幅な小型化、高効率化、および低廉化が可能とな
る。
ーラトランジスタと小容量のFETとを組み合わせるこ
とにより大きな電流を制御電圧によっテスイッチング制
御するとともにキャリア蓄積効果の影響を軽減したので
、低電力で駆動でき、かつ、スイ・ンチング詩間が短縮
された複合形トランジスタが得られる。さらに、MOS
形FETを使用して3端子で構成すれば、簡単でしかも
消費電力のきわめて少ないドライブ回路を構成でき、素
子の大幅な小型化、高効率化、および低廉化が可能とな
る。
第1図は従来のスイッチング素子の構成の一例を示す回
路図、第2図〜第4図はそれぞれ本発明複合形トランジ
スタの構成例を示す回路図である。 1.2・・・トランジスタ、 3・・・ダイオード、 4〜8・・・FET 。 特 許 出 願 人 富士電機製造株式会社第2図 C 第4図
路図、第2図〜第4図はそれぞれ本発明複合形トランジ
スタの構成例を示す回路図である。 1.2・・・トランジスタ、 3・・・ダイオード、 4〜8・・・FET 。 特 許 出 願 人 富士電機製造株式会社第2図 C 第4図
Claims (1)
- バイポーラトランジスタと、該バイポーラトランジスタ
をスイッチング動作させる一組の電界効果トランジスタ
とを有し、バイポーラトランジスタのコレクタとベース
との間には一方の電界効果トランジスタのドレインおよ
びソースを接続し、バイポーラI・ランジスタのベース
とエミッタとの間には他方の電界効果トランジスタのド
レインおよびソースを接続したことを特徴とする複合形
トランジスタ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57203564A JPS5994452A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 複合形トランジスタ |
| EP83110610A EP0109576A3 (de) | 1982-11-22 | 1983-10-24 | Transistorelement |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57203564A JPS5994452A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 複合形トランジスタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994452A true JPS5994452A (ja) | 1984-05-31 |
Family
ID=16476218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57203564A Pending JPS5994452A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 複合形トランジスタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0109576A3 (ja) |
| JP (1) | JPS5994452A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19534388B4 (de) * | 1994-09-19 | 2009-03-19 | International Rectifier Corp., El Segundo | IGBT-Transistorbauteil |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4066917A (en) * | 1976-05-03 | 1978-01-03 | National Semiconductor Corporation | Circuit combining bipolar transistor and JFET's to produce a constant voltage characteristic |
| US4366522A (en) * | 1979-12-10 | 1982-12-28 | Reliance Electric Company | Self-snubbing bipolar/field effect (biofet) switching circuits and method |
| FR2505102B1 (fr) * | 1981-04-29 | 1986-01-24 | Radiotechnique Compelec | Amplificateur de type darlington forme d'un transistor a effet de champ et d'un transistor bipolaire, et sa realisation en structure semi-conductrice integree |
| JPS57186833A (en) * | 1981-05-13 | 1982-11-17 | Hitachi Ltd | Switching element |
-
1982
- 1982-11-22 JP JP57203564A patent/JPS5994452A/ja active Pending
-
1983
- 1983-10-24 EP EP83110610A patent/EP0109576A3/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0109576A2 (de) | 1984-05-30 |
| EP0109576A3 (de) | 1985-10-16 |
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