JPS5994744A - 全固体電気発色表示素子 - Google Patents
全固体電気発色表示素子Info
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- JPS5994744A JPS5994744A JP20452182A JP20452182A JPS5994744A JP S5994744 A JPS5994744 A JP S5994744A JP 20452182 A JP20452182 A JP 20452182A JP 20452182 A JP20452182 A JP 20452182A JP S5994744 A JPS5994744 A JP S5994744A
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- JP
- Japan
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- layer
- electrochromic
- short
- solid
- substrate
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
この発明は全固体電気発色表示素子に関する。
ＷＯｓに代表される遷移金属酸化物を用いた眠気発色表
示素子はその優れた視認性から注目されてきている。
示素子はその優れた視認性から注目されてきている。
全固体型電気発色表示素子では、ｉｎ：Ｍ質に１体亀解
質を用いるためｆｎ液亀解質を用いるものに比較して素
子の構造が簡単になる、釉液の問題がないなどの利点を
有している。全固体電気発色表示素子は一般に第１図に
ボした構造を持っている。
質を用いるためｆｎ液亀解質を用いるものに比較して素
子の構造が簡単になる、釉液の問題がないなどの利点を
有している。全固体電気発色表示素子は一般に第１図に
ボした構造を持っている。
すなわちガラス基板（１）上に形成さｎた透明電極（２
）に遷移金属酸化物よりなる眠気発色層（３）を積層す
る。これに５ｉｆｔ ｅＭｙＦ、＊ＮｊＯｓｓｉＯ等の
固体電解質層（４）を積層し対向也偽（５）を設けて成
る。
）に遷移金属酸化物よりなる眠気発色層（３）を積層す
る。これに５ｉｆｔ ｅＭｙＦ、＊ＮｊＯｓｓｉＯ等の
固体電解質層（４）を積層し対向也偽（５）を設けて成
る。
このように全固体型電気発色表示素子は形成が極めて容
易であるが、発明者らが実験を蒐ねた結果次のよう表問
題点かあることを見出した。すなわち、透明電極と対向
成極を高々１μの厚さの１・硫化物、フッ化物層をへだ
てて積層形成しているため、電極間の短絡が起こりやす
い。Ｋ！間に短絡が生じると、電気発色層、固体電解質
層に電場が印加されず、電気発色層へのイオンの注入が
起こらず、従って眠気発色が生じない不良品の原因とな
る。
易であるが、発明者らが実験を蒐ねた結果次のよう表問
題点かあることを見出した。すなわち、透明電極と対向
成極を高々１μの厚さの１・硫化物、フッ化物層をへだ
てて積層形成しているため、電極間の短絡が起こりやす
い。Ｋ！間に短絡が生じると、電気発色層、固体電解質
層に電場が印加されず、電気発色層へのイオンの注入が
起こらず、従って眠気発色が生じない不良品の原因とな
る。
電極間の短絡０、原因は、通常、亀気発色層、固体電解
質層、ビンホ〜ル９割れに帰せられる。従って短絡を防
止するには、ピンホールの原因トする作業室中の塵を減
らすこと、具体的にはクリーンルーム中での作業が有効
と考えら扛１割れを防ぐには、ＰＩＬ気発気層色固体電
解質層を緻密に形成することが必要である。
質層、ビンホ〜ル９割れに帰せられる。従って短絡を防
止するには、ピンホールの原因トする作業室中の塵を減
らすこと、具体的にはクリーンルーム中での作業が有効
と考えら扛１割れを防ぐには、ＰＩＬ気発気層色固体電
解質層を緻密に形成することが必要である。
しかしながらこれらの対策は次のような問題点を持って
いる。まずクリーンルーム作業は、設備に多大な役員を
必要とし、かつこれを充分機能させるためにはその維持
管理にも労力と経費がかさみ何よりも作業性が低下して
しまう。まｆｃ眠気発色表示素子の発色原理が、電気発
色層と固体電解質層との間のイオンの拡散に基いている
ため、電気発色層、固体酸解質層を緻密に形成すること
自体が、これらの薄膜中でのイオンの拡散を阻害するこ
とになりｉａ電気発色特性劣化すなわち、表示コントラ
ストの低下、応答速度の低下を惹起する。
いる。まずクリーンルーム作業は、設備に多大な役員を
必要とし、かつこれを充分機能させるためにはその維持
管理にも労力と経費がかさみ何よりも作業性が低下して
しまう。まｆｃ眠気発色表示素子の発色原理が、電気発
色層と固体電解質層との間のイオンの拡散に基いている
ため、電気発色層、固体酸解質層を緻密に形成すること
自体が、これらの薄膜中でのイオンの拡散を阻害するこ
とになりｉａ電気発色特性劣化すなわち、表示コントラ
ストの低下、応答速度の低下を惹起する。
従ってＶＩＬ極短絡の問題は、全固体形ＥＣＤの製造上
、極めて大きな制約として存在していた。かつまた、現
実の文字バタンを表示する素子においては電気発色層が
形成されていない透明亀他部分が、大きな面積を占める
が、かがる透明屯）似部分も固体電解質層をはさんで対
向ｌ（−に対向するので。
、極めて大きな制約として存在していた。かつまた、現
実の文字バタンを表示する素子においては電気発色層が
形成されていない透明亀他部分が、大きな面積を占める
が、かがる透明屯）似部分も固体電解質層をはさんで対
向ｌ（−に対向するので。
固体醒解質層に生じた欠陥は直に短絡に結びつき素子の
動作を阻害する。このように薄膜積層型全固体電気発色
素子は形成容易かっ、素子厚みも薄く極めて有望な素子
ながら現実に製造する上では大きな困難を有していた。
動作を阻害する。このように薄膜積層型全固体電気発色
素子は形成容易かっ、素子厚みも薄く極めて有望な素子
ながら現実に製造する上では大きな困難を有していた。
この発明は、上述した全固体型眠気発色素子の欠点ない
しは問題点を解消すべ（なされたもので、電極間短絡の
生じにくい構造の全固体型眠気発色素子を提供しようと
するものである。
しは問題点を解消すべ（なされたもので、電極間短絡の
生じにくい構造の全固体型眠気発色素子を提供しようと
するものである。
本発明の全固体眠気発色素子に１．緻密な膜を形成する
ことが容易な絶縁体層を、電気発色層が積層される透明
電極上に厚さ５００Ｘ以下の膜厚で（以下第１短絡防止
層という）、かつ眠気発色ＩＬが積層されない透明電極
上に厚さ５００ Ａ以上の膜厚でｃ以下第２短絡防止層
というン、送＃１４庖愼と対向ｆｌｉ極の間に設けこｒ
しによシｔｆｉ間の短絡を防止するものである。
ことが容易な絶縁体層を、電気発色層が積層される透明
電極上に厚さ５００Ｘ以下の膜厚で（以下第１短絡防止
層という）、かつ眠気発色ＩＬが積層されない透明電極
上に厚さ５００ Ａ以上の膜厚でｃ以下第２短絡防止層
というン、送＃１４庖愼と対向ｆｌｉ極の間に設けこｒ
しによシｔｆｉ間の短絡を防止するものである。
本発明の電気絶縁体は、異なる膜ノ早の部分を有する一
枚の膜で構成してもよいし、また第３ないし５図に示し
たように複数の膜で構成することもできる。複数膜で形
成した方が一般的に１って作−Ｊは容易である。透ｕＡ
曳他と対向電極間に短絡防止層を設けることは鴫気色邑
層と固体用解質との間のイオン交換を阻害し、電気発色
特性を悪化させるように推測されるが、上記第１短絡防
止層が薄く、かつ高訪電率の物質を用いることにより、
予測に反して実用上電気発色特性に殆んど影響を与えな
い。
枚の膜で構成してもよいし、また第３ないし５図に示し
たように複数の膜で構成することもできる。複数膜で形
成した方が一般的に１って作−Ｊは容易である。透ｕＡ
曳他と対向電極間に短絡防止層を設けることは鴫気色邑
層と固体用解質との間のイオン交換を阻害し、電気発色
特性を悪化させるように推測されるが、上記第１短絡防
止層が薄く、かつ高訪電率の物質を用いることにより、
予測に反して実用上電気発色特性に殆んど影響を与えな
い。
以下、実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。
実施例１
第２図は、本発明の全固体眠気発色素子の製造工程を示
す図であり、図を用いて説明する。ガラス基板（１）上
に形成され所望のパタンにバタン化さｔＬ、 Ｉｃ透明
電極（２）上に、スパッタ法を用いて第１短絡防止層（
６）を５００λ以下の膜厚で全面に堆積させる（第２図
Ｂ）。次にかかる第１短絡防止層上にフォトレジスト（
７）を塗布露光し透明−極上心気発色層を堆積させる部
分のみにフォトレジストＩｎ （７）を残すべくバタン
化する（第２図Ｃ）。（呼びスパッタ法を用いてかがる
基板上に８１３２短絡防止層（８）を５００＾以上の膜
厚に全面形成する。しかるのち。
す図であり、図を用いて説明する。ガラス基板（１）上
に形成され所望のパタンにバタン化さｔＬ、 Ｉｃ透明
電極（２）上に、スパッタ法を用いて第１短絡防止層（
６）を５００λ以下の膜厚で全面に堆積させる（第２図
Ｂ）。次にかかる第１短絡防止層上にフォトレジスト（
７）を塗布露光し透明−極上心気発色層を堆積させる部
分のみにフォトレジストＩｎ （７）を残すべくバタン
化する（第２図Ｃ）。（呼びスパッタ法を用いてかがる
基板上に８１３２短絡防止層（８）を５００＾以上の膜
厚に全面形成する。しかるのち。
レジストを除去する（いわゆるリフトオフ工程）と第２
図りの如き透明電極上で電気発色層が形成さｎる部分ｔ
′１５００ Ａ以下膜厚の艶縁１１１がが、形成さｎな
い部分には５００＾以上の膜厚の絶縁膜が夫々形成され
た基板が得られる。かかる基板上に例えばＷＯｓよフな
る電気発色層をマスク蒸Ｘｉ法あるいはフォトエツチン
グ法でバタン化し、その上にたとればＺ ｒ Ｏ，より
なる固体）Ｌｆ、ｉｖｃ質ハ′否と金（Ａｕ）よ〕なる
対対向極を蒸着あるいはスパッタ形成して本発明にかか
る電気発色素子が得られる。それを第３図に断面的に示
す。このようにして得られた全固体電気発色表示素子の
特性を表１に示した。
図りの如き透明電極上で電気発色層が形成さｎる部分ｔ
′１５００ Ａ以下膜厚の艶縁１１１がが、形成さｎな
い部分には５００＾以上の膜厚の絶縁膜が夫々形成され
た基板が得られる。かかる基板上に例えばＷＯｓよフな
る電気発色層をマスク蒸Ｘｉ法あるいはフォトエツチン
グ法でバタン化し、その上にたとればＺ ｒ Ｏ，より
なる固体）Ｌｆ、ｉｖｃ質ハ′否と金（Ａｕ）よ〕なる
対対向極を蒸着あるいはスパッタ形成して本発明にかか
る電気発色素子が得られる。それを第３図に断面的に示
す。このようにして得られた全固体電気発色表示素子の
特性を表１に示した。
比較例として第１及び第２短絡防止層をもｌヒない従来
型の４気発色表示素子をっり９１１−η性を比較し１こ
。表に示されたように短絡防止層を設けると電極間の短
絡を著しく低減することが可能となる。
型の４気発色表示素子をっり９１１−η性を比較し１こ
。表に示されたように短絡防止層を設けると電極間の短
絡を著しく低減することが可能となる。
眠気発色層と固体電解質Ｊ−の間に第１及び第２短絡防
止層を設けた本実施例においては、特に第１知絡防止層
の膜厚が大であると屯気色Ｉｌ！！、特性を劣化させる
。これ＆−ｉ、第１短絡防止ＪＶがイオンの拡散路１ｉ
ｌＩを阻害した結果と考えられる。
止層を設けた本実施例においては、特に第１知絡防止層
の膜厚が大であると屯気色Ｉｌ！！、特性を劣化させる
。これ＆−ｉ、第１短絡防止ＪＶがイオンの拡散路１ｉ
ｌＩを阻害した結果と考えられる。
表１に示した第１短絡防止層の誘電率は、スパッタ形成
した膜厚５０００Ａの薄膜の周波数ＩＲ４Ｈｚにおける
値である。いずれの試料においても短絡防止１慢の効果
が明白に認められる。表よシ、第１短路防止層の誘電率
は大であり第２短絡防止層の誘電率は小である方が電気
発色特性におよほす影響は少ないことがわかる。こｒｕ
ｓｔ、短絡防止層の眠気容ｌが犬になり分極電荷によっ
て眠気発色層と電解質層の間のイオンのやりと９による
電流を吸収できるからである。逆に第２短絡防止層の誘
電率が大であると素子自体の靜阻容量が大になり着消色
速度が低下してしまう。
した膜厚５０００Ａの薄膜の周波数ＩＲ４Ｈｚにおける
値である。いずれの試料においても短絡防止１慢の効果
が明白に認められる。表よシ、第１短路防止層の誘電率
は大であり第２短絡防止層の誘電率は小である方が電気
発色特性におよほす影響は少ないことがわかる。こｒｕ
ｓｔ、短絡防止層の眠気容ｌが犬になり分極電荷によっ
て眠気発色層と電解質層の間のイオンのやりと９による
電流を吸収できるからである。逆に第２短絡防止層の誘
電率が大であると素子自体の靜阻容量が大になり着消色
速度が低下してしまう。
実施例２
上述の実施例では第１短絡防止層が透明電極上全面に設
けられていたが、第１短絡防止層をバタン化工程して第
４図に断面的に示した構造すなわち電気発色層を積層す
る部分に限定して設けることもできる。バタン化工程が
増すが酊気的にはこれが最も好しい。
けられていたが、第１短絡防止層をバタン化工程して第
４図に断面的に示した構造すなわち電気発色層を積層す
る部分に限定して設けることもできる。バタン化工程が
増すが酊気的にはこれが最も好しい。
また第５図に示したように先に第２短絡防止ＪｖＪを形
成した後に第１短絡防止層を形成することも可能である
。
成した後に第１短絡防止層を形成することも可能である
。
以上実施例において説明したように本発明にかかる全固
体眠気発色表示素子は形成も容易で製造歩留も高（実用
上大きな利点を有するといえる。
体眠気発色表示素子は形成も容易で製造歩留も高（実用
上大きな利点を有するといえる。
本発明によれば、緻密で均一な薄膜よりなる短絡防止層
で透明電極と対向電極との間を絶縁するため電極短絡が
生じにくい素子が得られる。
で透明電極と対向電極との間を絶縁するため電極短絡が
生じにくい素子が得られる。
ニス千輩白
第１図は全固体電気発色表示素子の従来例の断は本発明
にかかる全固体電気発色表示素子の断面模式図である。 （１）・・・ガラス基板、（２）・・・透明電極、（３
）・・・眠気発色層、（４）・・・固体電解質、（５）
・・・対向電極、（６）・・・第１短絡防止層、（７）
・・・フォトレジストバタン、（８）・・・第２短絡防
止層。 代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第１図 ＜Ｃ） （／り／ 第８図 第４図 第５１１
にかかる全固体電気発色表示素子の断面模式図である。 （１）・・・ガラス基板、（２）・・・透明電極、（３
）・・・眠気発色層、（４）・・・固体電解質、（５）
・・・対向電極、（６）・・・第１短絡防止層、（７）
・・・フォトレジストバタン、（８）・・・第２短絡防
止層。 代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第１図 ＜Ｃ） （／り／ 第８図 第４図 第５１１
Claims (1)
- 透明電極を所定の形にバタンニングした基板上に少くと
も一層の眠気発色層と少くとも一層の固体電解質層を積
層形成した上に対向電極を設けてなる全固体眠気発色表
示素子において、透明眠極上の電気発色層が積層される
部分の膜厚５００Ｘ以下であってかつ電気発色層が積層
されない部分の膜厚が５００Ｘ以上である電気絶縁性の
膜を該透明！極上に形成したことを特徴とする全固体電
気発色表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20452182A JPS5994744A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 全固体電気発色表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20452182A JPS5994744A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 全固体電気発色表示素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994744A true JPS5994744A (ja) | 1984-05-31 |
| JPH0449694B2 JPH0449694B2 (ja) | 1992-08-12 |
Family
ID=16491905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20452182A Granted JPS5994744A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | 全固体電気発色表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5994744A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62188738U (ja) * | 1986-05-21 | 1987-12-01 | ||
| US5176604A (en) * | 1991-03-29 | 1993-01-05 | K. K. Sakamurakikai Seisakusho | Tool replacement for a multi-stage press machine |
| US10295880B2 (en) | 2011-12-12 | 2019-05-21 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US10409130B2 (en) | 2010-11-08 | 2019-09-10 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US10551711B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-02-04 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
| TWI689771B (zh) * | 2014-07-03 | 2020-04-01 | 美商唯景公司 | 雷射圖案化電致變色裝置 |
| US10795232B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-06 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US10802371B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-13 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11426979B2 (en) | 2011-12-12 | 2022-08-30 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11865632B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-01-09 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US12061402B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-08-13 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US12235560B2 (en) | 2014-11-25 | 2025-02-25 | View, Inc. | Faster switching electrochromic devices |
| US12259628B2 (en) | 2015-03-20 | 2025-03-25 | View, Inc. | Faster switching low-defect electrochromic windows |
| US12496809B2 (en) | 2010-11-08 | 2025-12-16 | View Operating Corporation | Electrochromic window fabrication methods |
| US12572047B2 (en) | 2013-02-08 | 2026-03-10 | View Operating Corporation | Fabrication of electrochromic devices |
| US12589575B2 (en) | 2019-12-10 | 2026-03-31 | View Operating Corporation | Laser methods for processing electrochromic glass |
-
1982
- 1982-11-24 JP JP20452182A patent/JPS5994744A/ja active Granted
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62188738U (ja) * | 1986-05-21 | 1987-12-01 | ||
| US5176604A (en) * | 1991-03-29 | 1993-01-05 | K. K. Sakamurakikai Seisakusho | Tool replacement for a multi-stage press machine |
| US10551711B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-02-04 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
| US11065845B2 (en) | 2010-11-08 | 2021-07-20 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US10409130B2 (en) | 2010-11-08 | 2019-09-10 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US12496809B2 (en) | 2010-11-08 | 2025-12-16 | View Operating Corporation | Electrochromic window fabrication methods |
| US10295880B2 (en) | 2011-12-12 | 2019-05-21 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US10802371B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-13 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US12370624B2 (en) | 2011-12-12 | 2025-07-29 | View Operating Corporation | Thin-film devices and fabrication |
| US11086182B2 (en) | 2011-12-12 | 2021-08-10 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US10795232B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-06 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11426979B2 (en) | 2011-12-12 | 2022-08-30 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11559852B2 (en) | 2011-12-12 | 2023-01-24 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11865632B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-01-09 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US12061402B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-08-13 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US12403676B2 (en) | 2011-12-12 | 2025-09-02 | View Operating Corporation | Thin-film devices and fabrication |
| US12572047B2 (en) | 2013-02-08 | 2026-03-10 | View Operating Corporation | Fabrication of electrochromic devices |
| TWI741514B (zh) * | 2014-07-03 | 2021-10-01 | 美商唯景公司 | 雷射圖案化電致變色裝置 |
| TWI689771B (zh) * | 2014-07-03 | 2020-04-01 | 美商唯景公司 | 雷射圖案化電致變色裝置 |
| US12235560B2 (en) | 2014-11-25 | 2025-02-25 | View, Inc. | Faster switching electrochromic devices |
| US12259628B2 (en) | 2015-03-20 | 2025-03-25 | View, Inc. | Faster switching low-defect electrochromic windows |
| US12589575B2 (en) | 2019-12-10 | 2026-03-31 | View Operating Corporation | Laser methods for processing electrochromic glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0449694B2 (ja) | 1992-08-12 |
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