JPS5998379A - 磁気記憶素子 - Google Patents
磁気記憶素子Info
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- JPS5998379A JPS5998379A JP57207012A JP20701282A JPS5998379A JP S5998379 A JPS5998379 A JP S5998379A JP 57207012 A JP57207012 A JP 57207012A JP 20701282 A JP20701282 A JP 20701282A JP S5998379 A JPS5998379 A JP S5998379A
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は膜面垂直方向を磁化容易方向とする強磁性体薄
膜に形成されるストライプドメインの境界を形成するブ
ロッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホラ
インを記憶単位として用いた磁気記憶素子に関する。よ
り詳しくは、ストライプドメイン周辺の磁壁に存在する
垂直プロッホラインの位置を安定化する磁気記憶素子に
関する。
膜に形成されるストライプドメインの境界を形成するブ
ロッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホラ
インを記憶単位として用いた磁気記憶素子に関する。よ
り詳しくは、ストライプドメイン周辺の磁壁に存在する
垂直プロッホラインの位置を安定化する磁気記憶素子に
関する。
磁気バブル素子の開発は高密度化を月相して各所でパー
マロイデバイス、イオン注入コンティギーアスディスク
デバイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたい
わゆる混成型デバイスについて盛んに行わnている。こ
れらのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形
成するためのフォトリングラフイー技術にあるといわれ
てきた。
マロイデバイス、イオン注入コンティギーアスディスク
デバイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたい
わゆる混成型デバイスについて盛んに行わnている。こ
れらのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形
成するためのフォトリングラフイー技術にあるといわれ
てきた。
しかし、近年、その技術が長足に進歩してきた。
その結果、高密度化のための材料すなわち、バブル径を
どこまで小さくできるかが問題視されるよウニなってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は0.3μmといわれている。したがっ
て、0.3μm径以下のバブルを保持するバブル材料は
ガーネット材料以外に求めなければならない。これは容
易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であるとさえ
考えられている。
どこまで小さくできるかが問題視されるよウニなってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は0.3μmといわれている。したがっ
て、0.3μm径以下のバブルを保持するバブル材料は
ガーネット材料以外に求めなければならない。これは容
易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であるとさえ
考えられている。
このようなバブル保持層の特性に基く高密度化限界を大
幅に改善する磁気記憶素子は、膜面垂直磁化膜に存在す
るストライプドメイン周辺に形成されるブロッホ磁壁内
の垂直プロッホラインを情報記憶単位とすることにより
実現でき、すでに提案されている。
幅に改善する磁気記憶素子は、膜面垂直磁化膜に存在す
るストライプドメイン周辺に形成されるブロッホ磁壁内
の垂直プロッホラインを情報記憶単位とすることにより
実現でき、すでに提案されている。
垂直プロッホラインメモリは膜面垂直磁化膜に存在する
ストライプドメイン周辺を形成するブロッホ磁壁内に存
在する垂直プロッホラインを情報記憶単位とするもので
ある。まず、メジャーマイナー構成を例にして垂直プロ
ッホラインメモリの−形式を述べる。ここではメジャー
ラインでは従来通りバブルドメインを情報単位とし、マ
イナーループをストライプドメインで構成し、その周辺
のブロッホ磁壁内に存在する垂直プロッホライン全体の
情報の流れを示すと、まず、発生器1で書込まれた情報
(バブルの有無)は書込みメジャーラインを上から下へ
移動する。この情報をマイナーループ2へ記憶させるた
めに、バブル3の有無で示されたメジャーライン上の情
報をマイナール−プへVBLの形でトランスファーでき
るように、マイナーループをVBLを保持できるブロッ
ホ磁壁で構成することがこの特徴であり、記憶容量の飛
躍的向上の重要なカギになっている。書込みライントラ
ンスファーゲート4により、マイナーループにトランス
ファーされた情報(VBL)はマイナーループを構成す
るストライプドメイン磁壁土を移動させることができる
。マイナーループから読出しメジャーラインへの情報ト
ランスファーはVBLからバブルへの変換を伴う。なお
、この耽出しトランスファーゲート5はブロックレプリ
ケータ機能も合せ持っている。変換されたメイジャーラ
イン上のバブルは検出器6で外部に読出される。
ストライプドメイン周辺を形成するブロッホ磁壁内に存
在する垂直プロッホラインを情報記憶単位とするもので
ある。まず、メジャーマイナー構成を例にして垂直プロ
ッホラインメモリの−形式を述べる。ここではメジャー
ラインでは従来通りバブルドメインを情報単位とし、マ
イナーループをストライプドメインで構成し、その周辺
のブロッホ磁壁内に存在する垂直プロッホライン全体の
情報の流れを示すと、まず、発生器1で書込まれた情報
(バブルの有無)は書込みメジャーラインを上から下へ
移動する。この情報をマイナーループ2へ記憶させるた
めに、バブル3の有無で示されたメジャーライン上の情
報をマイナール−プへVBLの形でトランスファーでき
るように、マイナーループをVBLを保持できるブロッ
ホ磁壁で構成することがこの特徴であり、記憶容量の飛
躍的向上の重要なカギになっている。書込みライントラ
ンスファーゲート4により、マイナーループにトランス
ファーされた情報(VBL)はマイナーループを構成す
るストライプドメイン磁壁土を移動させることができる
。マイナーループから読出しメジャーラインへの情報ト
ランスファーはVBLからバブルへの変換を伴う。なお
、この耽出しトランスファーゲート5はブロックレプリ
ケータ機能も合せ持っている。変換されたメイジャーラ
イン上のバブルは検出器6で外部に読出される。
このようにマイナーループをバブル材料に存在するスト
ライプドメインで構成し、マイナール−プ上での情報整
位としてバブルドメインの代りにVBLを用いることに
より、従来のノくプルドメインを用いた素子に比較して
約2桁の記憶密度向上を達成できる。
ライプドメインで構成し、マイナール−プ上での情報整
位としてバブルドメインの代りにVBLを用いることに
より、従来のノくプルドメインを用いた素子に比較して
約2桁の記憶密度向上を達成できる。
この素子の構成例と動作をざら沓こ詳しく説明する。メ
ジャーラインは書込み、読出しともに電流、駆動方式を
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成するストライプドメインヘッドとの
相互作用を用いている。メジャーライン上にバブルドメ
インがあると、それにつながるマイナーループを構成し
ているストライプドメインのヘッドはバブルとストライ
プドメインとの反発相互作用のため、バブルから遠ざか
ることを利用している。書込みメジャーラインにバブル
がないとき、マイナーループのストライプドメイン磁壁
にVBLを書込む。VBLをストライプドメインヘッド
に作る手段として、ストライプドメインヘッドをそれに
接するコンダクタ−パターンにパルス電流を与えること
により、ダイナミックに移動させ、ヘッド部磁壁をダイ
ナミックコンバージ〜ヨンさせることを利用している。
ジャーラインは書込み、読出しともに電流、駆動方式を
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成するストライプドメインヘッドとの
相互作用を用いている。メジャーライン上にバブルドメ
インがあると、それにつながるマイナーループを構成し
ているストライプドメインのヘッドはバブルとストライ
プドメインとの反発相互作用のため、バブルから遠ざか
ることを利用している。書込みメジャーラインにバブル
がないとき、マイナーループのストライプドメイン磁壁
にVBLを書込む。VBLをストライプドメインヘッド
に作る手段として、ストライプドメインヘッドをそれに
接するコンダクタ−パターンにパルス電流を与えること
により、ダイナミックに移動させ、ヘッド部磁壁をダイ
ナミックコンバージ〜ヨンさせることを利用している。
この方法で、VBLが2つできるが、これらは互いに性
質が異なり、再結合しやすい。そこで、情報を安定化で
きるようにストライプドメインの長手方向に面内磁界を
加え、ストライプドメイン側の2本のコンダクタ−によ
ってストライプドメインヘッドを切離すことにより、ス
トライプドメイン中に2つの同じ性質のVBLを作る。
質が異なり、再結合しやすい。そこで、情報を安定化で
きるようにストライプドメインの長手方向に面内磁界を
加え、ストライプドメイン側の2本のコンダクタ−によ
ってストライプドメインヘッドを切離すことにより、ス
トライプドメイン中に2つの同じ性質のVBLを作る。
同じ性質のVBLは互いに近づいても安定に存在する。
メジャーラインにバブルが存在しているところに対応す
るマイナーループのストライプドメインヘッドはバブル
との反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから離
れているため、VBLは形成されない。結果的にメジャ
ーラインの情報′1“をマイナーループ内にVBL対が
ない状態としてトランスファーしたことになる。マイナ
ーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツトとして
情報が記憶される。レプリケータ−作用の安置性を考え
てQVBL対を使っている。マイナーループ内のビット
周期つまり、VBL間隔を一定に保つように、1ビツト
ずつ逐次転送できるように転送パターンをつける。−例
として、上記マイナーループを構成するストライブドメ
イン上ヒにストライブト、メインの長手方向に直角方向
にVBI間の安定間隔Soの2倍の周期で、幅S。のパ
ーマロイ薄膜で作った平行細線パターンを形成し、平行
細線の両側に誘起される磁極とVBLとの相互作用を利
用する。VBLのマイナーループに沿っての転送は一つ
の方法として、ストライプドメインにパルスバイアス磁
界を加えてダイナミックに行なう。3本の平行コンダク
タ−からなる読出しトランスファーゲートはマイナール
ープを形成しているストライプドメイン磁壁にVBLと
して記憶されている情報をバブルに変換してメジャーラ
インにトランスファーアウトし、かつ、マイナーループ
上の情報が破壊されないようにするレプリケータ−の働
きも兼備えている。動作原理を説明する。VBI。
るマイナーループのストライプドメインヘッドはバブル
との反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから離
れているため、VBLは形成されない。結果的にメジャ
ーラインの情報′1“をマイナーループ内にVBL対が
ない状態としてトランスファーしたことになる。マイナ
ーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツトとして
情報が記憶される。レプリケータ−作用の安置性を考え
てQVBL対を使っている。マイナーループ内のビット
周期つまり、VBL間隔を一定に保つように、1ビツト
ずつ逐次転送できるように転送パターンをつける。−例
として、上記マイナーループを構成するストライブドメ
イン上ヒにストライブト、メインの長手方向に直角方向
にVBI間の安定間隔Soの2倍の周期で、幅S。のパ
ーマロイ薄膜で作った平行細線パターンを形成し、平行
細線の両側に誘起される磁極とVBLとの相互作用を利
用する。VBLのマイナーループに沿っての転送は一つ
の方法として、ストライプドメインにパルスバイアス磁
界を加えてダイナミックに行なう。3本の平行コンダク
タ−からなる読出しトランスファーゲートはマイナール
ープを形成しているストライプドメイン磁壁にVBLと
して記憶されている情報をバブルに変換してメジャーラ
インにトランスファーアウトし、かつ、マイナーループ
上の情報が破壊されないようにするレプリケータ−の働
きも兼備えている。動作原理を説明する。VBI。
対で形成される1ビツトの片割れを例えば、面内磁界を
加えてストライブドメインヘッドに固定する。その後コ
ンダクタ−パターンを用いて、このストライブドメイン
ヘッドを切りとり、バブルにする。そうすると、バブル
を切りとった後のストライブドメインヘッドには切りと
ったVBLと同じVBLが構成される。このようなVB
Lのレプリケート作用はマイナス符号のVBLに対して
のみ生じる。マイナーループのストライブドメインヘッ
ドから切りとられたバブルはメジャーライン上を検出器
に向けて転送される。ここではストライブドメインヘッ
ドにVBLがある場合とない場合とでストライブドメイ
ンヘッドを切りとる。パルス電流値が異なることを利用
している。ストライブドメインヘッドにVBLがない場
合は切れにくい。したがって、ストライブドメインヘッ
ドにVBL がある場合はメジャーラインにバブルを送
り込めるか、VBIがない場合はバブルはない。
加えてストライブドメインヘッドに固定する。その後コ
ンダクタ−パターンを用いて、このストライブドメイン
ヘッドを切りとり、バブルにする。そうすると、バブル
を切りとった後のストライブドメインヘッドには切りと
ったVBLと同じVBLが構成される。このようなVB
Lのレプリケート作用はマイナス符号のVBLに対して
のみ生じる。マイナーループのストライブドメインヘッ
ドから切りとられたバブルはメジャーライン上を検出器
に向けて転送される。ここではストライブドメインヘッ
ドにVBLがある場合とない場合とでストライブドメイ
ンヘッドを切りとる。パルス電流値が異なることを利用
している。ストライブドメインヘッドにVBLがない場
合は切れにくい。したがって、ストライブドメインヘッ
ドにVBL がある場合はメジャーラインにバブルを送
り込めるか、VBIがない場合はバブルはない。
つまり、マイナーループ上のVBLの鳴無(i、o)は
読出しメジャーライン上ではバブルの有無に変換されて
いる。
読出しメジャーライン上ではバブルの有無に変換されて
いる。
VBI対の消去法について述べる。消去したいVBI対
を書込みメジャーライン側のマイナーループのストライ
ブドメインヘッドの最近接位置におく。次に面内磁界H
ipを加えて、消去したいVBL 対と、そのとなりの
VBI対の片割れをストライブドメインヘッドにもって
きて、情報書込みの際、プラスのVBLを切りとるため
に用いた平行コンダクタ−を使ってストライブドメイン
ヘッドを切りとる。バブルドメインを切りとったあとの
ストライブドメインヘッドには、消去したいVBL 対
と共にもってきたVHLがレプリケートされる。結局、
消去したいVBI対のみが消去されることになる。なお
。マイナーループ全体をクリアする場合は予め、バイア
ス磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦消去し
たあと、S=1バブルからマイナーループスドライブド
メインを形成することにより、VBLが全熱ない全ピッ
ト零の状態を作ることができる。
を書込みメジャーライン側のマイナーループのストライ
ブドメインヘッドの最近接位置におく。次に面内磁界H
ipを加えて、消去したいVBL 対と、そのとなりの
VBI対の片割れをストライブドメインヘッドにもって
きて、情報書込みの際、プラスのVBLを切りとるため
に用いた平行コンダクタ−を使ってストライブドメイン
ヘッドを切りとる。バブルドメインを切りとったあとの
ストライブドメインヘッドには、消去したいVBL 対
と共にもってきたVHLがレプリケートされる。結局、
消去したいVBI対のみが消去されることになる。なお
。マイナーループ全体をクリアする場合は予め、バイア
ス磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦消去し
たあと、S=1バブルからマイナーループスドライブド
メインを形成することにより、VBLが全熱ない全ピッ
ト零の状態を作ることができる。
このようなVBLメモリではVBI対が高密度に等間隔
で存在している。ときは、VBLの間隔S0はほぼ特性
長lに安定化される。しかし、VBI対が不連続に存在
している場合、VBI対を定在化させ、VBI対が存在
しない状態に情報をもたせることが困難である。VBI
対の個数を記憶情報として表現することも可能であるが
、n(正整数)ビットの記憶情報を表現するのに(2’
−1)組のVBI、対を必要とし、記憶密度が著しく低
下する。このため、VBI対が存在する場合を″1“、
存在しない場合を10“とじて、不連続なVBI対とな
る・h報列’001010001・・・“等を1ビット
ずつ逐次転送できるように、マイナーループとなるスト
ライブドメイン上にその長手方向と直角方向に2Soの
周期で、幅S。のパーマロイ薄膜の平行細線パターンを
形成し、平行細線パターンの両側に誘起される磁極とプ
ロッホラインの磁極との相互作用を利用する方法が提案
されている。
で存在している。ときは、VBLの間隔S0はほぼ特性
長lに安定化される。しかし、VBI対が不連続に存在
している場合、VBI対を定在化させ、VBI対が存在
しない状態に情報をもたせることが困難である。VBI
対の個数を記憶情報として表現することも可能であるが
、n(正整数)ビットの記憶情報を表現するのに(2’
−1)組のVBI、対を必要とし、記憶密度が著しく低
下する。このため、VBI対が存在する場合を″1“、
存在しない場合を10“とじて、不連続なVBI対とな
る・h報列’001010001・・・“等を1ビット
ずつ逐次転送できるように、マイナーループとなるスト
ライブドメイン上にその長手方向と直角方向に2Soの
周期で、幅S。のパーマロイ薄膜の平行細線パターンを
形成し、平行細線パターンの両側に誘起される磁極とプ
ロッホラインの磁極との相互作用を利用する方法が提案
されている。
しかしながら、このような方法は幅S0、ピッチ28o
の平行細線パターンの形成で超微細加工精度を必要とす
る。1μmバブル材料を用いるとS。−0,125μm
にすることが可能であるが、幅0.125μm1ピッチ
0.25μmの平行細線パターンを形成することは現状
の露光技術では困難である。すなわち、既に提案されて
いるVBLメモリにおけるマイナーループの形成方法は
、平行細線パターンの形成精度で記憶密度が制限され、
ビットコストの上昇をもたらす欠点を有していた。
の平行細線パターンの形成で超微細加工精度を必要とす
る。1μmバブル材料を用いるとS。−0,125μm
にすることが可能であるが、幅0.125μm1ピッチ
0.25μmの平行細線パターンを形成することは現状
の露光技術では困難である。すなわち、既に提案されて
いるVBLメモリにおけるマイナーループの形成方法は
、平行細線パターンの形成精度で記憶密度が制限され、
ビットコストの上昇をもたらす欠点を有していた。
本発明の目的は上記従来の欠点を容易に解決した磁気記
憶素子を提供することにある。
憶素子を提供することにある。
すなわち、本発明の磁気記憶素子は、情報の読出し、書
込み及び蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容゛
易方向とする強磁性体膜に存在する単位として用い、該
垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を
有する磁気記憶素子において、記憶情報となる符号化さ
れた前記垂直プロッホライン対を支持する第1の強磁性
体膜と、この、第1の強磁性体膜に接する非磁性体膜と
、この非磁性体膜を介して、密につめられた前記垂直プ
ロッホライン対を支持する第2の強磁性体膜とを含むこ
とを特徴とする。
込み及び蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容゛
易方向とする強磁性体膜に存在する単位として用い、該
垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を
有する磁気記憶素子において、記憶情報となる符号化さ
れた前記垂直プロッホライン対を支持する第1の強磁性
体膜と、この、第1の強磁性体膜に接する非磁性体膜と
、この非磁性体膜を介して、密につめられた前記垂直プ
ロッホライン対を支持する第2の強磁性体膜とを含むこ
とを特徴とする。
以下図面を用いて本発明について詳細に説明するO
第2図は本発明による磁気記憶素子の断面図である。磁
気記憶素子にはガドミウム・ガリウム・ガーネッ)(G
GG) 等の非磁性材料で形成されたサブストレイト
20の上に、サブストレイトと同様な非磁性体膜21を
はさんで第1、第2の強磁性体膜22.23が形成され
ている。さらに、第1の強磁性体膜22上に4本のコン
ダクタu125.26.27からなる書込みトランスフ
ァーゲート4と、2本のコンダクタア、29からなる読
出しトランスファーゲート5が形成されている。また、
第1、第2の強磁性体膜22、nにはマイナーループと
なるストライプドメインが形成されている。第1の強磁
性体膜22には記憶情報となる11“ %O“に符号化
さnた■Bも対が格納され、第2の強磁性体膜おには第
1の強磁性体膜22内のVBL対を支持する密につめら
れたVBL対が格納されている。
気記憶素子にはガドミウム・ガリウム・ガーネッ)(G
GG) 等の非磁性材料で形成されたサブストレイト
20の上に、サブストレイトと同様な非磁性体膜21を
はさんで第1、第2の強磁性体膜22.23が形成され
ている。さらに、第1の強磁性体膜22上に4本のコン
ダクタu125.26.27からなる書込みトランスフ
ァーゲート4と、2本のコンダクタア、29からなる読
出しトランスファーゲート5が形成されている。また、
第1、第2の強磁性体膜22、nにはマイナーループと
なるストライプドメインが形成されている。第1の強磁
性体膜22には記憶情報となる11“ %O“に符号化
さnた■Bも対が格納され、第2の強磁性体膜おには第
1の強磁性体膜22内のVBL対を支持する密につめら
れたVBL対が格納されている。
第3図はマイナーループとなるストライブドメインへの
VBLの書込み手順を示す。バブルは書込みメイジャー
ラインの第1の強磁性体膜22にのみ存在でき、VBL
の書込みは、書込みメイジャーラインにバブルが存在し
ない状態で行なわれる。
VBLの書込み手順を示す。バブルは書込みメイジャー
ラインの第1の強磁性体膜22にのみ存在でき、VBL
の書込みは、書込みメイジャーラインにバブルが存在し
ない状態で行なわれる。
トランスファーゲートは4本の平行コンダクタ−24,
25,26,27からできている。マイナーループを構
成するストライブドメインはメジャーラインにバブルが
ない場合、第3図(a)に示す位置にp磁化させておく
。第1、第2の強磁性体膜22、お内のストライプドメ
インヘッドへのVBLの形成はコンダクタ−ライン邪に
パルス電流工p1を与え、ストライプドメインヘッドを
第3図(b)に示す方向にダイナミックに移動させて行
なう。こうすることによって、第1、第2の強磁性体膜
22.23内のストライプヘッド部3oのブロッホ磁壁
部の磁化は180° 回転し、第3図(a)(7)向き
から第3図(b)、(C)の向きに変る。これは磁壁構
造のダイナミックコンXI−%−ジョンという。こうす
ることにより、第1、第2の強磁性体膜22、n内のス
トライプドメインヘッドの両側に、ブロッホ磁壁の磁化
が互いにぶつかり合うところ31.32ができる。その
部分がVBL と呼ばれるところである。いま述べた
ような方法でVBLを作ると、必ず■VBL31とθV
BL32が対になっている。eVBLとeVBLが互い
に相隣り合って存在していると、それらは互いに再結合
しやすく、情報保持の安定性がよくない。第3図(b)
は外部面内磁界H1pを加えておくことにより、第1、
第2の強磁性体膜22、お内のストライプドメインヘッ
ド部のブロッホ磁壁磁化をH1p方向に固定し、eVB
Lと□VBL再結合を防いでいる。しかし、実際の素子
では常にHlpを加えておくことがVBL情報の安定性
の見地から不適当であることがわかっている。そこで、
ここではHipがなくてもVBL情報が安定化できるよ
うに、VBL のタイプを一種類にした。その際、読出
しライントランスファーゲートにレプリケータ機能を持
たせられることを考慮してeVBLを残すことにした。
25,26,27からできている。マイナーループを構
成するストライブドメインはメジャーラインにバブルが
ない場合、第3図(a)に示す位置にp磁化させておく
。第1、第2の強磁性体膜22、お内のストライプドメ
インヘッドへのVBLの形成はコンダクタ−ライン邪に
パルス電流工p1を与え、ストライプドメインヘッドを
第3図(b)に示す方向にダイナミックに移動させて行
なう。こうすることによって、第1、第2の強磁性体膜
22.23内のストライプヘッド部3oのブロッホ磁壁
部の磁化は180° 回転し、第3図(a)(7)向き
から第3図(b)、(C)の向きに変る。これは磁壁構
造のダイナミックコンXI−%−ジョンという。こうす
ることにより、第1、第2の強磁性体膜22、n内のス
トライプドメインヘッドの両側に、ブロッホ磁壁の磁化
が互いにぶつかり合うところ31.32ができる。その
部分がVBL と呼ばれるところである。いま述べた
ような方法でVBLを作ると、必ず■VBL31とθV
BL32が対になっている。eVBLとeVBLが互い
に相隣り合って存在していると、それらは互いに再結合
しやすく、情報保持の安定性がよくない。第3図(b)
は外部面内磁界H1pを加えておくことにより、第1、
第2の強磁性体膜22、お内のストライプドメインヘッ
ド部のブロッホ磁壁磁化をH1p方向に固定し、eVB
Lと□VBL再結合を防いでいる。しかし、実際の素子
では常にHlpを加えておくことがVBL情報の安定性
の見地から不適当であることがわかっている。そこで、
ここではHipがなくてもVBL情報が安定化できるよ
うに、VBL のタイプを一種類にした。その際、読出
しライントランスファーゲートにレプリケータ機能を持
たせられることを考慮してeVBLを残すことにした。
次に、□VBLだけをマイナールーブの第1、第2の強
磁性体膜22、n内のストライフ。
磁性体膜22、n内のストライフ。
ドメイン磁壁に残す方法を述べる。まず、第3図(d)
に示す向きに)(ipを加える。そうすると、ブロッホ
磁壁磁化をH1p向きに向ける方が七゛−マンエネ、、
ギーを得するので、eVBLがストライブドメインヘッ
ドにくる。この状態で、コンダクタ−26,27に互い
に逆向きにパルス電流Ip2を与え、ストライプドメイ
ンヘッドを第2図(e)のよ徨こ切離す。そうすると、
eVBLを切りとられたストライブドメインヘッドには
□VBL33が形成される。この(9VBLとマイナー
ルーズに残しておいたθ■BL32の計2本の□VBL
を対にしてビ゛ットを形成する。この一連の動作番こよ
り、書込みメジャーライン上の情報10“をマイチール
レープ内番こeVBLの対34としてトランスファーで
きた。同じ符号のVBI、は互いに近づいても安定に存
在する。書込みメジャーラインに)くプルが存在してG
)るところに対応するマイナーループのストライフ。
に示す向きに)(ipを加える。そうすると、ブロッホ
磁壁磁化をH1p向きに向ける方が七゛−マンエネ、、
ギーを得するので、eVBLがストライブドメインヘッ
ドにくる。この状態で、コンダクタ−26,27に互い
に逆向きにパルス電流Ip2を与え、ストライプドメイ
ンヘッドを第2図(e)のよ徨こ切離す。そうすると、
eVBLを切りとられたストライブドメインヘッドには
□VBL33が形成される。この(9VBLとマイナー
ルーズに残しておいたθ■BL32の計2本の□VBL
を対にしてビ゛ットを形成する。この一連の動作番こよ
り、書込みメジャーライン上の情報10“をマイチール
レープ内番こeVBLの対34としてトランスファーで
きた。同じ符号のVBI、は互いに近づいても安定に存
在する。書込みメジャーラインに)くプルが存在してG
)るところに対応するマイナーループのストライフ。
ドメインヘッドはバブルとの反発相互作用を利用してコ
ンダクタ−27の右側にくるようにしておくと、第3図
に示す一連の動作ではそのストライプドメインヘッド状
態は不変である。した力3って、結果的に書込みメジャ
ーラインの情報′1“をマイナーループ内にVBL対が
なG1状態としてトランスファーしたことになる。なお
、トランスファーゲートで切りとった不用ノくプルは第
3図(f)1こ示すように、コンダクタ−24,26に
平行ノー、67レス電流■ を与えて、書込みメジャー
ラインへ移動さ3 せ、最後に消去する。
ンダクタ−27の右側にくるようにしておくと、第3図
に示す一連の動作ではそのストライプドメインヘッド状
態は不変である。した力3って、結果的に書込みメジャ
ーラインの情報′1“をマイナーループ内にVBL対が
なG1状態としてトランスファーしたことになる。なお
、トランスファーゲートで切りとった不用ノくプルは第
3図(f)1こ示すように、コンダクタ−24,26に
平行ノー、67レス電流■ を与えて、書込みメジャー
ラインへ移動さ3 せ、最後に消去する。
このようにして、第1、第2の強磁性体22.23内の
ストライブドメインにVBL対を形成することができる
。ここでIpl 、ip2 、ip3 よりそれぞれ
小さな振幅の電流パルスIp4、ip5、Ips (i
p4<Ipt、Ips < II)2、IpG< II
)3 )をそれぞれ前に述べた手順でコンダクタ25に
ip4を、コンタ゛クタ26.27にip5を、及びコ
ンダクタ24.264こIpGを印カロすることにより
、第1の強磁性体膜22内のストライブドメインのみに
VBL対を形成することりSできる。
ストライブドメインにVBL対を形成することができる
。ここでIpl 、ip2 、ip3 よりそれぞれ
小さな振幅の電流パルスIp4、ip5、Ips (i
p4<Ipt、Ips < II)2、IpG< II
)3 )をそれぞれ前に述べた手順でコンダクタ25に
ip4を、コンタ゛クタ26.27にip5を、及びコ
ンダクタ24.264こIpGを印カロすることにより
、第1の強磁性体膜22内のストライブドメインのみに
VBL対を形成することりSできる。
また、メジャーライン上にノくプルが存在するときのス
トライブドメインは第3図(a)(こ示す位置にではな
く、第3図(f)に示す位置に安定化する。
トライブドメインは第3図(a)(こ示す位置にではな
く、第3図(f)に示す位置に安定化する。
したがって、メイジ七−ライン上のバブルの有無により
、マイナーループへのVBL対の形成を制御できること
ζこなる。
、マイナーループへのVBL対の形成を制御できること
ζこなる。
第1の強磁性体膜22内のストライプドメインに既に形
成されているVBL対の消去は次のように行なわれる。
成されているVBL対の消去は次のように行なわれる。
第4図はVBL対を消去するための動作手順を示す。第
1の強磁性体膜22内のストライブドメインの消去した
いVBL対を第4図(a)に示すように書込みメジャー
ライン側のマイナーループのストライブドメインヘッド
の最近接位置におく。次に第4図(b)及び(C)に示
すように面内砒界Hipを加えて、消去したいVf3L
対と、そのとなりのVBL対の片割れをストライブドメ
インヘッドにもってきて、情報書込みの際、プラスのV
BLを切りとるために用いた平行コンダクタ−26,2
7に逆方向の電流パルスIp1を印加してストライブド
メインヘッドを切りとる。すると第4図(d)のように
バブルドメインを切りとった後のストライブドメインヘ
ッドには、消去したいVBL対と共にもってきたVBL
がレプリケートされる。結局、消去したいVBL対のみ
が消去されることになる。
1の強磁性体膜22内のストライブドメインの消去した
いVBL対を第4図(a)に示すように書込みメジャー
ライン側のマイナーループのストライブドメインヘッド
の最近接位置におく。次に第4図(b)及び(C)に示
すように面内砒界Hipを加えて、消去したいVf3L
対と、そのとなりのVBL対の片割れをストライブドメ
インヘッドにもってきて、情報書込みの際、プラスのV
BLを切りとるために用いた平行コンダクタ−26,2
7に逆方向の電流パルスIp1を印加してストライブド
メインヘッドを切りとる。すると第4図(d)のように
バブルドメインを切りとった後のストライブドメインヘ
ッドには、消去したいVBL対と共にもってきたVBL
がレプリケートされる。結局、消去したいVBL対のみ
が消去されることになる。
また、ip7より大きな振幅を有する電流パルスをコン
ダクタ26.27に印加することにより、第2の強磁性
体膜23内のストライブドメインのVBL対も同時に消
去することができる。
ダクタ26.27に印加することにより、第2の強磁性
体膜23内のストライブドメインのVBL対も同時に消
去することができる。
第5図はマイナーループを構成するストライブドメイン
のブロッホ磁壁における断面図である。
のブロッホ磁壁における断面図である。
マイナーループは非研性のサブストレイト20上にガー
ネット等の2層の強磁性体膜で形成さn1第1の強磁性
体膜22には記憶情報となるVBL対を保持し、非磁曲
体膜2■を介して第1の強磁性体膜22に対向する第2
の強磁性体膜231こはVBL対が第3図(こ示した方
法で密につめられている。記憶情報を形成する第1の強
磁性体膜22内のVBL対は、第2の強磁性体膜23内
に密につめられた”v’BL対との磁気的相互作用によ
り安定化される。第1の強磁性体膜22と第2の強磁性
体膜23内で異なる向きのVBL間には吸引力が作用し
、同方向のVBL 間反発力が作用するため、第1の
強磁性体膜22内のVBL対は第2の強磁性体膜お内の
VBL対により安定にたもたれる。
ネット等の2層の強磁性体膜で形成さn1第1の強磁性
体膜22には記憶情報となるVBL対を保持し、非磁曲
体膜2■を介して第1の強磁性体膜22に対向する第2
の強磁性体膜231こはVBL対が第3図(こ示した方
法で密につめられている。記憶情報を形成する第1の強
磁性体膜22内のVBL対は、第2の強磁性体膜23内
に密につめられた”v’BL対との磁気的相互作用によ
り安定化される。第1の強磁性体膜22と第2の強磁性
体膜23内で異なる向きのVBL間には吸引力が作用し
、同方向のVBL 間反発力が作用するため、第1の
強磁性体膜22内のVBL対は第2の強磁性体膜お内の
VBL対により安定にたもたれる。
第1の強磁性体膜22におけるVBL対及びその空き部
分の移動は、第2の強磁性体膜23内のV’BL対の移
動に同期して行なわれる。第5図では、第2の強磁性体
膜23内のVBL対に対応する第1の強磁性体膜22内
にVBL対がない場合を10“、ある場合を11−“と
する■〜■で示される’ 1011101“の7ビツト
の情報が形成されている。このVBLの間隔はS。以上
となり、ビット間隔すなわちVBL対の間隔は2So以
上となる。
分の移動は、第2の強磁性体膜23内のV’BL対の移
動に同期して行なわれる。第5図では、第2の強磁性体
膜23内のVBL対に対応する第1の強磁性体膜22内
にVBL対がない場合を10“、ある場合を11−“と
する■〜■で示される’ 1011101“の7ビツト
の情報が形成されている。このVBLの間隔はS。以上
となり、ビット間隔すなわちVBL対の間隔は2So以
上となる。
第1の強磁性体膜22内のVBL対を1ビツトずつ逐次
転送できるように、マイナーループを構成する第2の強
磁性体膜23上にストライブドメインの長手方向と直角
方向に幅S。のパーマロイ薄膜の細線パターンを少なく
とも1本形成する。この細線パターンの両側に誘起され
る磁極とVBLとの相互作用によって、第2の強磁性体
膜Z3内のVBL対の1ビツト転送が可能となる。この
細線パターンは1ビツト毎に形成する必要はなく、マイ
ナーループ上に少なくとも1本あれば良い。このため、
細線パターンの形成精度によって、マイナーループ内の
ビット密度が制限さイ1.ず、著しく記憶容量を増大さ
せることが可能となる。
転送できるように、マイナーループを構成する第2の強
磁性体膜23上にストライブドメインの長手方向と直角
方向に幅S。のパーマロイ薄膜の細線パターンを少なく
とも1本形成する。この細線パターンの両側に誘起され
る磁極とVBLとの相互作用によって、第2の強磁性体
膜Z3内のVBL対の1ビツト転送が可能となる。この
細線パターンは1ビツト毎に形成する必要はなく、マイ
ナーループ上に少なくとも1本あれば良い。このため、
細線パターンの形成精度によって、マイナーループ内の
ビット密度が制限さイ1.ず、著しく記憶容量を増大さ
せることが可能となる。
以上説明したように、本発明によりは、マイナーループ
上にパーマロイ細線パターンを1ビツト毎に形成する必
要はなく、この細線パターンの形成精度で記憶密度が制
限されず、極めて大容量の磁気記憶素子を実現すること
ができる。例えば、1μmバブル材料を用いると、1c
nL2チツプに約400メガビツトの記憶情報を収容で
きることになる。
上にパーマロイ細線パターンを1ビツト毎に形成する必
要はなく、この細線パターンの形成精度で記憶密度が制
限されず、極めて大容量の磁気記憶素子を実現すること
ができる。例えば、1μmバブル材料を用いると、1c
nL2チツプに約400メガビツトの記憶情報を収容で
きることになる。
またマイナールーズのビット数は第2の強磁性体膜23
′内のVBL対の個数となる。したがって、第2の強磁
性体膜n内に28o以上の間隔で任意の個数のVBL対
を形成することにより、同一チップでの各マイナールー
プのビット数を任意に選ぶことが可能となる。こnによ
り、高速のアクセス・タイムを必要とする応用に対して
はマイナーループのビット数を少なくシ、大容量を必要
とする応用に対してはマイナーループのビット数を大き
くすることが可能となる。このようにして、同一チップ
で種々の記憶容量を選択できる磁気記1.ハ累子を実現
でき、大量生産に伴なうコスト低減をもたらす。
′内のVBL対の個数となる。したがって、第2の強磁
性体膜n内に28o以上の間隔で任意の個数のVBL対
を形成することにより、同一チップでの各マイナールー
プのビット数を任意に選ぶことが可能となる。こnによ
り、高速のアクセス・タイムを必要とする応用に対して
はマイナーループのビット数を少なくシ、大容量を必要
とする応用に対してはマイナーループのビット数を大き
くすることが可能となる。このようにして、同一チップ
で種々の記憶容量を選択できる磁気記1.ハ累子を実現
でき、大量生産に伴なうコスト低減をもたらす。
なお、す、上の説明では上段の強磁性体膜22tこ記憶
情報となるVBL対を格納したが、逆に下段の強磁性体
膜23にそれを格納し、上段の強磁性体膜22にVBL
対を密につめることも可能である。したがって、以上の
実施例での記述は何ら本発明の請求範囲を制限するもの
でない。
情報となるVBL対を格納したが、逆に下段の強磁性体
膜23にそれを格納し、上段の強磁性体膜22にVBL
対を密につめることも可能である。したがって、以上の
実施例での記述は何ら本発明の請求範囲を制限するもの
でない。
第3図は書込み手順の説明図、第4図は消去手順の説明
図、第5図はストライブドメインの断面図である。 1・・・発生器、2・・・マイナーループ、3バブル、
4・・・書込みトランスファーゲート、5・・・読出し
トランスファーゲート、6・・・検出器、20・・・サ
ブストレイト、21・・・非磁性体膜、22・・・輿1
の強磁性体膜、23・・・第2の強磁性体膜、2/1〜
29・・・コンダクタパターン、30・・・ストライプ
ヘッド部、31〜33・・・垂直プロッホライン、34
・・・垂直プロツボライン対。 第 3 第 1 図 躬2図 メジイーライン 第4図 第5図
図、第5図はストライブドメインの断面図である。 1・・・発生器、2・・・マイナーループ、3バブル、
4・・・書込みトランスファーゲート、5・・・読出し
トランスファーゲート、6・・・検出器、20・・・サ
ブストレイト、21・・・非磁性体膜、22・・・輿1
の強磁性体膜、23・・・第2の強磁性体膜、2/1〜
29・・・コンダクタパターン、30・・・ストライプ
ヘッド部、31〜33・・・垂直プロッホライン、34
・・・垂直プロツボライン対。 第 3 第 1 図 躬2図 メジイーライン 第4図 第5図
Claims (1)
- 情報読出し、書込み及び蓄積手段を備え、膜面に垂直な
方向を磁化容易方向とする強磁性体膜に対を記憶情報単
位として用い、該垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内
で転送する手段を有する磁気記憶素子において、記憶情
報となる符号化された “ −前
記垂直プロッホライン対を支持する第1の強磁性体膜と
、この第1の強磁性体膜に接する非磁性体膜と、この非
磁性体膜を介して密につめられた前記垂直プロッホライ
ン対を支持する第2の強磁性体膜とを含むことを特徴と
する磁気記憶素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57207012A JPS5998379A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57207012A JPS5998379A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998379A true JPS5998379A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16532726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57207012A Pending JPS5998379A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998379A (ja) |
-
1982
- 1982-11-26 JP JP57207012A patent/JPS5998379A/ja active Pending
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