JPS6010672Y2 - ガス処理塔

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【考案の詳細な説明】本考案は、水又は薬液による洗浄、又は吸着などを行う
ガス処理塔に関する。

排ガス中の有害成分を除去する方法として洗浄法があり
、その有害成分の種類により、水洗、薬洗になどが行な
われるが、この際には、従来は別々に独立した水洗塔、
薬洗塔を設置し処理していた。

この方法では設置スペースおよびコスト面で割高となる
ため、殆んど一塔処理９例えばアルカリ洗浄または水洗
浄ですまされているが、前者ではＨＣＩなど酸性有害成
分などには効果があるが、ＮＨ３などのアルカリ性有害
成分などには効果はない。

後者はＮＨ３など水に容易に吸収されるものには効果が
あるが、その他の有害成分には効果が少く不完全である
。

本考案は一塔で異性の有害成分を除去できるコンパクト
化した洗浄法による排ガス処理装置を提供するものであ
る。

本考案か塔内構造を二重に腰その内筒部および外筒部を
個々に独立させた排ガス処理装置である。

本構造によれば、排ガス中の有害成分に応じて水洗、ア
ルカリ洗、酸洗を目的によって二種類選択し実施でき、
コンパクト化がはかられ設置スペースおよび低コストで
二液処理ができる。

また、内筒部又は外筒部少なくとも一方を吸着剤充填塔
として使用することもできる。

又ガスの吸収率を上げるために同質の濃い液を薄い液で
処理することも出来る。

第１図は本考案の一実施例であり、第２図は第１図のＩ
−Ｉ矢視図である。

第１図及び第２図に於て、１は排ガス導入管であって、
２は一次処理を行なう外筒室、３は充填物、４は液のス
プレーノズル、４′は補給液ノズル、５はデミスタ−１
７は二次処理を行なう内筒室であって、外筒室２より導
管６によって導入される。

８は内筒室内の充填物、９は液のスプレーノズル、９′
は補給液ノズル（水洗浄以外のときは４′および９′は
必要はない）、１０はデミスタであって、１１は排ガス
排出管である。

１４は液供給管であって、ノズル４に供給される。

１２は外筒液の排出管、また１５は内筒液の供給管でノ
ズル９に供給される。

１３は内筒液の排出管である。

排ガス導入管１により導入された排ガスは、スプレーノ
ズル４から噴霧された液（水洗のときはＨ２Ｏ，アルカ
リ洗のときはＮａＯ■容液など）と向流し充填物３によ
って気流接触が充分行なわれた後、デミスタ５を経て導
管３によって内筒室（二次処理筒）へ導かれる。

その間にデミスタ、充填物によってミスト、ヒユーム、
ダストはガス処理と同時に除去される。

内筒室７内の作用（二次処理、薬洗のときはＮａＯＨ，
Ｈ２ＳＯ４，ＨＣｌ０などの溶液）も外筒室２と同様で
あり、排ガス排出管１１より有害成分を除去された後、
排出される。

外筒室２の排出液は排出管１２からポンプを経て液供給
管１４に循環され、内筒室７の排出液も同様に独立した
ポンプを経て、供給管１５のノズルへ循環される。

これらの液の操作は従来方法と同様である。

本考案によれば、二液処理方法が排ガス中の有害成分に
応じて効果的に実施できるので有害ガス処理が完全に行
なえる。

また二段処理なのでミスト、ヒユーム、ダストの除去も
より完全となり、−前方式なのでコンパクト化でき設置
面積の節減と、低コスト化がはかられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、一実施態様の立面図、第２図はその断面図で
ある。２・・・・・・外筒室、６・・・・・・導管、７・・・
・・・内筒室。