JPS6010772Y2 - 高融点金属細線の製造装置 - Google Patents
高融点金属細線の製造装置Info
- Publication number
- JPS6010772Y2 JPS6010772Y2 JP10467181U JP10467181U JPS6010772Y2 JP S6010772 Y2 JPS6010772 Y2 JP S6010772Y2 JP 10467181 U JP10467181 U JP 10467181U JP 10467181 U JP10467181 U JP 10467181U JP S6010772 Y2 JPS6010772 Y2 JP S6010772Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melting point
- high melting
- metal wire
- point metal
- manufacturing equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Continuous Casting (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は高融点金属細線の製造装置に関する。
従来、金属細線の製造装置として、細長い固体材料の端
部を溶解させて垂下滴を形威し、該垂下滴に直接または
該滴を無冷却オリフィスに収容し、その底部垂下滴に、
■字形断面の外周縁を有する回転冷却部材を接触させて
細線を製造する装置は知られている。
部を溶解させて垂下滴を形威し、該垂下滴に直接または
該滴を無冷却オリフィスに収容し、その底部垂下滴に、
■字形断面の外周縁を有する回転冷却部材を接触させて
細線を製造する装置は知られている。
（特開昭５０−１１９３５号公報参照）該装置は細長い
固体材料の端部のみを溶解させて垂下滴を作るため、材
料を予め成形して細長いものにすることが必要であり、
塊状、粒状、または粉状の原料はそのまま使用すること
ができない。
固体材料の端部のみを溶解させて垂下滴を作るため、材
料を予め成形して細長いものにすることが必要であり、
塊状、粒状、または粉状の原料はそのまま使用すること
ができない。
その上に融滴をオリフィスに収容する場合、該オリフィ
スが冷却されていないため、Ｎｂ。
スが冷却されていないため、Ｎｂ。
Ｈｆ、 Ｔａのような活性で、かつ高融点の金属を原料
とすると、オリフィスと反応したり、あるいはオリフィ
スからの不純物の混入等により得られる細線が不良のも
のとなる等の欠点がある。
とすると、オリフィスと反応したり、あるいはオリフィ
スからの不純物の混入等により得られる細線が不良のも
のとなる等の欠点がある。
本考案は従来の前記欠点のない原料の形状に関係なく使
用し得られ、且つＮｂ、 Ｈｆ、 Ｔａのような活性で
あり、且つ高融点原料でも容易に、しかも不純物の混入
することがない優れた細線が製造し得られる装置を提供
するにある。
用し得られ、且つＮｂ、 Ｈｆ、 Ｔａのような活性で
あり、且つ高融点原料でも容易に、しかも不純物の混入
することがない優れた細線が製造し得られる装置を提供
するにある。
次に本考案装置の一実施態様を図面に基づいて説明する
。
。
第１図は本考案装置のプラズマ電子ビームを使用した場
合における横断側面図である。
合における横断側面図である。
図中１は真空槽、２は電子銃、３は同集束用コイル、４
は底部に開口を有する冷却した銅ハース（第２図ａ）、
５は冷却胴回転円盤、６はワイパー、７は試料収集板、
８は回転円盤移動用ハンドルである。
は底部に開口を有する冷却した銅ハース（第２図ａ）、
５は冷却胴回転円盤、６はワイパー、７は試料収集板、
８は回転円盤移動用ハンドルである。
先づ、真空槽１内を真空に引いた後、電子銃２から放射
される電子ビームを同集束用コイル３により集束しなが
ら、予め冷却した銅ハース４上に置いた原料に衝撃させ
て溶解する。
される電子ビームを同集束用コイル３により集束しなが
ら、予め冷却した銅ハース４上に置いた原料に衝撃させ
て溶解する。
第２図ａに示したように、溶解した金属９は重力により
底部の開口から垂れ下り、自らの表面張力により融滴と
して保持される。
底部の開口から垂れ下り、自らの表面張力により融滴と
して保持される。
ハンドル８を操作して冷却胴回転円盤５を移動させ、該
回転円盤５の先端を融滴の下面に接触させると、融液が
極小量づつ連続的に凝固しながら遠心力により接線方向
に細線となつて飛び出す。
回転円盤５の先端を融滴の下面に接触させると、融液が
極小量づつ連続的に凝固しながら遠心力により接線方向
に細線となつて飛び出す。
これを試料収集板７に当って収集される。
収集された細線は真空槽１を大気圧に戻した後回収する
。
。
原料金属が粘性が大きく、流動性が悪く、融液が開口か
ら垂れ下らない場合は、第２図すに示すように、冷却銅
回転円盤５の接線方向に平行な間隙を有する割り型の冷
却した銅ハース４を使用する。
ら垂れ下らない場合は、第２図すに示すように、冷却銅
回転円盤５の接線方向に平行な間隙を有する割り型の冷
却した銅ハース４を使用する。
この場合、冷却銅回転円盤５の先端を間隙内部に入り込
ませ、溶解金属の下面に接融させる。
ませ、溶解金属の下面に接融させる。
なお、ワイパー６は一定圧力で冷却回転円盤５の先端に
押し付けられており、凝固時に付着した金属細片、酸化
物等の微細な異物を拭い去る作用をする。
押し付けられており、凝固時に付着した金属細片、酸化
物等の微細な異物を拭い去る作用をする。
得られる細線の断面形状は、冷却回転円盤の先端形状に
依存する。
依存する。
先端の曲率半径が大きくなるにつれ、円形から半月形、
テープ状の断面に変化するが、テープ巾が５Ｔｒｔｊｎ
を超えると均一な断面を得るのが困難となる。
テープ状の断面に変化するが、テープ巾が５Ｔｒｔｊｎ
を超えると均一な断面を得るのが困難となる。
また断面積は回転円盤の回転速度、融液の熱伝導度、回
転円盤先端と融液との熱伝達係数等に依存する。
転円盤先端と融液との熱伝達係数等に依存する。
細線の場合は０．５〜１ｍｍの直径、テープの場合には
厚さ数十μｍ１巾１〜５ｍｍ位の断面を有する長尺線を
製造することができる。
厚さ数十μｍ１巾１〜５ｍｍ位の断面を有する長尺線を
製造することができる。
本考案の装置においては、底部に開口を有する冷却銅ハ
ースを使用し、この上で原料金属を電子ビーム等の超高
熱源で溶解するため、■、Ｚｒ。
ースを使用し、この上で原料金属を電子ビーム等の超高
熱源で溶解するため、■、Ｚｒ。
Ｎｂ、 Ｍｏ、 Ｈｆ、 Ｔａ等の１５００℃以上の高
融点金属でも、その形状を問わず極めて容易に溶融し得
られる。
融点金属でも、その形状を問わず極めて容易に溶融し得
られる。
接融された金属はハースが冷却された銅よりなるため、
これと反応することもなく、また溶解した金属中に不純
物を含ませることもない。
これと反応することもなく、また溶解した金属中に不純
物を含ませることもない。
しかも底部が開口されているため、溶解した金属下面に
高速回転する冷却回転を接触させて直ちに細線となし得
る特長を有している。
高速回転する冷却回転を接触させて直ちに細線となし得
る特長を有している。
従って、従来法におけるように、原料金属を棒状に加工
することを必要とせず、また冷却した銅ハースの容量に
応じて原料金属を溶解し収容し得、長尺細線も簡単容易
に製造し得られる効果も有する。
することを必要とせず、また冷却した銅ハースの容量に
応じて原料金属を溶解し収容し得、長尺細線も簡単容易
に製造し得られる効果も有する。
実施例 １
孔明き水冷銅ハース上に置いたＺｒ−２３ａｔ％Ｒｈ合
金を約２０００°Ｃで溶解し、室温の水で冷却した直径
２０ｃｍの銅製円盤を５００ｒｐｍで回転させて巾２顛
、厚さ５０μｍのテープ状の線材を得た。
金を約２０００°Ｃで溶解し、室温の水で冷却した直径
２０ｃｍの銅製円盤を５００ｒｐｍで回転させて巾２顛
、厚さ５０μｍのテープ状の線材を得た。
実施例 ２
孔明き水冷銅ハース上に置いたＮｂ−３Ｑａｔ％Ｚｒ合
金の棒状原料を約２５００°Ｃで溶解腰室温の水で冷却
した直径２０ｃｍの銅製円盤を５ｏｏｒｐｍで回転させ
て直径０．７ｒｒｒｊｎの円形断面の細線を得た。
金の棒状原料を約２５００°Ｃで溶解腰室温の水で冷却
した直径２０ｃｍの銅製円盤を５ｏｏｒｐｍで回転させ
て直径０．７ｒｒｒｊｎの円形断面の細線を得た。
第１図は熱源としてプラズマ電子ビームを利用した場合
における本考案装置の横断側面図、第２図は溶融金属の
生成状況を示す縦断面図で、第２図ａは孔明きハース、
第２図すは割り型ハースの場合。 １・・・・・・真空槽、２・・・・・・電子銃、３・・
・・・・同集束用コイル、４・・・・・・冷却した銅ハ
ース、５・・・・・・冷却した銅回転円盤、６・・・・
・・ワイパー、７・・・・・・試料収集板、８・・・・
・・回転円盤移動用ハンドル、９・・・・・・溶融金属
。
における本考案装置の横断側面図、第２図は溶融金属の
生成状況を示す縦断面図で、第２図ａは孔明きハース、
第２図すは割り型ハースの場合。 １・・・・・・真空槽、２・・・・・・電子銃、３・・
・・・・同集束用コイル、４・・・・・・冷却した銅ハ
ース、５・・・・・・冷却した銅回転円盤、６・・・・
・・ワイパー、７・・・・・・試料収集板、８・・・・
・・回転円盤移動用ハンドル、９・・・・・・溶融金属
。
Claims (1)
- 真空または不活性ガス雰囲気中で、底部に開口を有する
冷却銅ハース上に置いた高融点金属原料を、プラズマ電
子ビーム、電子ビーム、アーク等の超高熱源で溶解させ
る装置と、冷却した銅ハースの底部開口部の溶融した金
属の下面に、高速で回転する冷却円盤の先端を接触させ
る装置とを備えたものからなる高融点金属細線の製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10467181U JPS6010772Y2 (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 高融点金属細線の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10467181U JPS6010772Y2 (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 高融点金属細線の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57132755U JPS57132755U (ja) | 1982-08-18 |
| JPS6010772Y2 true JPS6010772Y2 (ja) | 1985-04-11 |
Family
ID=29899250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10467181U Expired JPS6010772Y2 (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 高融点金属細線の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6010772Y2 (ja) |
-
1981
- 1981-07-16 JP JP10467181U patent/JPS6010772Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57132755U (ja) | 1982-08-18 |
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