JPS60109027A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60109027A JPS60109027A JP58216557A JP21655783A JPS60109027A JP S60109027 A JPS60109027 A JP S60109027A JP 58216557 A JP58216557 A JP 58216557A JP 21655783 A JP21655783 A JP 21655783A JP S60109027 A JPS60109027 A JP S60109027A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic recording
- thin film
- recording medium
- present
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は録音、録画、情報処理等に於て、短波長記録特
性に優れた磁気記録媒体に関する。
性に優れた磁気記録媒体に関する。
従来例の構成とその問題点
従来より磁気記録媒体としては非磁性支持体上にγ−F
e OCOを含有したr F IB 20 s 。
e OCOを含有したr F IB 20 s 。
23’
Fe5o4.COを含有したFe3O4,CrO2等の
酸化物磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材
料を塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、スチレン・ブタ
ジェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめ塗布乾燥させる塗布型の
ものが広く使用されてきている。しかし近年高密度記録
への要求の高まりと共に、真空蒸着、スバ、7タリング
、イオンブレーティング、無電解めっき等の薄膜化技術
により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金
属薄膜型磁気記録媒体が注目をあびており、一部で実用
になり、用途拡大が試みられはじめている。
酸化物磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材
料を塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、スチレン・ブタ
ジェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめ塗布乾燥させる塗布型の
ものが広く使用されてきている。しかし近年高密度記録
への要求の高まりと共に、真空蒸着、スバ、7タリング
、イオンブレーティング、無電解めっき等の薄膜化技術
により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金
属薄膜型磁気記録媒体が注目をあびており、一部で実用
になり、用途拡大が試みられはじめている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では、飽和磁化の小さい酸
化物磁性粉末を主として用いているため、高密度記録を
実現すべく磁気記録層を薄くすると信号出力の低下をも
たらす。これに反し、金属薄膜型の磁気記録媒体では、
酸化物−より大きな飽和磁化を有する強磁性金属をバイ
ンダーの如き非磁性物質を介在させない状態で、極めて
薄い層として形成でき電磁変換特性上非常に有利である
。
化物磁性粉末を主として用いているため、高密度記録を
実現すべく磁気記録層を薄くすると信号出力の低下をも
たらす。これに反し、金属薄膜型の磁気記録媒体では、
酸化物−より大きな飽和磁化を有する強磁性金属をバイ
ンダーの如き非磁性物質を介在させない状態で、極めて
薄い層として形成でき電磁変換特性上非常に有利である
。
更にCo−Cr等の特殊な合金薄膜は、条件により、磁
化容易軸を支持体面と垂直に出来、この磁気記録層は短
波長になる程、自己減磁損失が小さくなる特長を有して
おり、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体
は、高密度磁気記録の担い手として期待され、実用化が
急がれている。
化容易軸を支持体面と垂直に出来、この磁気記録層は短
波長になる程、自己減磁損失が小さくなる特長を有して
おり、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体
は、高密度磁気記録の担い手として期待され、実用化が
急がれている。
しかし、強磁性金属薄膜、酸化鉄薄膜などの薄い磁性層
は、結合樹脂を含1ないので、記録・再生過程で磁気ヘ
ッドとの摺接により、傷ついたり、けずりとられたりし
易いために、耐摩耗性を向上させるために、磁気記録層
表面に保護被膜を設けるのが一般的である。
は、結合樹脂を含1ないので、記録・再生過程で磁気ヘ
ッドとの摺接により、傷ついたり、けずりとられたりし
易いために、耐摩耗性を向上させるために、磁気記録層
表面に保護被膜を設けるのが一般的である。
この保護被膜は、記録波長が短かくなると、スペーシン
グ損失を減少させるために0.05μm 以下、好まし
くは0.01μm 以下で、その効果が持続性のあるも
のでなければならない。
グ損失を減少させるために0.05μm 以下、好まし
くは0.01μm 以下で、その効果が持続性のあるも
のでなければならない。
しかし現状では、無機系の材料では、この性能を満足で
きるものは見当らないし、有機系材料でも最も保護膜と
して優れているといわれているテフロンの被膜でも40
℃80%RHなどの過酷な環境で、回転ヘリカルスキャ
ン方式のビデオテープレコーダに用いるには、耐久性か
ら厚みが0.05μm は必要であり、記録波長がc)
、Bpmでは、この保護被膜の厚みのだめのスペーシン
グ損失分が約5dBとなり、改良が望まれている。
きるものは見当らないし、有機系材料でも最も保護膜と
して優れているといわれているテフロンの被膜でも40
℃80%RHなどの過酷な環境で、回転ヘリカルスキャ
ン方式のビデオテープレコーダに用いるには、耐久性か
ら厚みが0.05μm は必要であり、記録波長がc)
、Bpmでは、この保護被膜の厚みのだめのスペーシン
グ損失分が約5dBとなり、改良が望まれている。
発明の目的
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、短波長記
録特性に優れ、且つ耐久性の改良された磁気記録媒体を
提供することを目的とする。
録特性に優れ、且つ耐久性の改良された磁気記録媒体を
提供することを目的とする。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体は、強磁性薄膜を磁気記録層とし
、その強磁性薄膜が酸化膜か部分酸化膜のいずれかで酸
素を含むもので、その上の保護被膜カホ’)エステル、
ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリパラ
キシレン、ポリアミドのうちいずれか一つからなるもの
であり、短波長記録特性に優れると共に、かつ耐久性の
改良されたものである。
、その強磁性薄膜が酸化膜か部分酸化膜のいずれかで酸
素を含むもので、その上の保護被膜カホ’)エステル、
ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリパラ
キシレン、ポリアミドのうちいずれか一つからなるもの
であり、短波長記録特性に優れると共に、かつ耐久性の
改良されたものである。
実施例の説明
以F本発明の実施例について、図面を参照しながら説明
する。
する。
図は本発明の実施例における磁気記録媒体の基本構成を
示す図である。図において、1は高分子フィルムからな
る支持体で、支持体1上に酸素を含む強磁性薄膜2が形
成され、さらにその上に保護被膜が形成されている。
示す図である。図において、1は高分子フィルムからな
る支持体で、支持体1上に酸素を含む強磁性薄膜2が形
成され、さらにその上に保護被膜が形成されている。
本発明の構成と、それ以外の構成との差異については、
明白ではないが、酸素が介在して、前記[7た保護被膜
材料とが強固な化学吸着を誘起していると技術推定され
るもので、後述するように、保愚被膜の製法として用い
た溶剤による塗布法と溶剤を用いない有機蒸着法、又前
処理法による差は小さく、本発明の構成が高温高湿での
耐久性には支配的に作用していることが数多くの実験で
確認されているのである。
明白ではないが、酸素が介在して、前記[7た保護被膜
材料とが強固な化学吸着を誘起していると技術推定され
るもので、後述するように、保愚被膜の製法として用い
た溶剤による塗布法と溶剤を用いない有機蒸着法、又前
処理法による差は小さく、本発明の構成が高温高湿での
耐久性には支配的に作用していることが数多くの実験で
確認されているのである。
本発明で用いられる支持体は、表面粗さが、触針式の粗
さ計のチャートより読み取った最大値と最小値の差即ち
p−v値が0.2μm以下、好寸しくけ0.06μm
以下の高分子フィルムが適しており、ポリエチレンテレ
フグレートなどのポリエステル類、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン類。
さ計のチャートより読み取った最大値と最小値の差即ち
p−v値が0.2μm以下、好寸しくけ0.06μm
以下の高分子フィルムが適しており、ポリエチレンテレ
フグレートなどのポリエステル類、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン類。
セルロースジアセテート、ニトロセルロース等のセルロ
ース誘導体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ
アミド、ポリイミド等が挙げられ、必要に応じて、粒子
を分散させた下塗り層を配したものが用いられる。
ース誘導体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ
アミド、ポリイミド等が挙げられ、必要に応じて、粒子
を分散させた下塗り層を配したものが用いられる。
本発明で用いられる強磁性薄膜は、γ−Fe2O3゜F
e3041等の酸化膜Co 、Fe 、Ni 、Co−
Fe 。
e3041等の酸化膜Co 、Fe 、Ni 、Co−
Fe 。
Co−N i 、 Co−B 、 Co−Cu 、 C
o−Ge 、 Co −Gd 。
o−Ge 、 Co −Gd 。
Co −Mn 、 Co −Mg 、 Co−Mo 、
Co−P t 、 Co−Ru 。
Co−P t 、 Co−Ru 。
Co−Rh 、Co−3i 、Co−3n 、Co−8
m、Co−Cr 。
m、Co−Cr 。
Co−Ce 、Co−Ti 、Co−Ta 、Co−V
、Co−W。
、Co−W。
Co−Y 、Co−Zn 、Co−Ni−Cr 、Co
−Ni−Mg等の部分酸化膜である。
−Ni−Mg等の部分酸化膜である。
磁化容易軸の方向はいずれであっても良いが、真空蒸着
法で得ただけで自然に表面が酸化されることは良く知ら
れているが、この状態の薄膜は本発明でいう部分酸化膜
には含めない。後述するように部分酸化膜のひとつの目
安は、オージェ電子分光法で測定される表面酸化層厚み
が60〜60八以上の値を示すことである。
法で得ただけで自然に表面が酸化されることは良く知ら
れているが、この状態の薄膜は本発明でいう部分酸化膜
には含めない。後述するように部分酸化膜のひとつの目
安は、オージェ電子分光法で測定される表面酸化層厚み
が60〜60八以上の値を示すことである。
前記した薄膜の形成法は特に限定されるものではなく、
電子ビーム蒸着法、スノク、ツタリング法。
電子ビーム蒸着法、スノク、ツタリング法。
必要に応じて熱処理との組み合わせも可能である。
保護被膜として用いることのできるものはポリエステル
、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリパ
ラキシレン、ポリアミドのうちのいずれか1つの高分子
物質で、保護被膜の形成法は、スパッタリング、X空蒸
着、溶剤塗布などから適宜選択でき、厚みは0.01μ
m から0.005μmの範囲に制御するのが好ましい
。0.01μm 以上では、短波長になる程スペース損
失が犬きく、無視できなくなり、0.005μm以下で
は、耐久性が不足するからである。
、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリパ
ラキシレン、ポリアミドのうちのいずれか1つの高分子
物質で、保護被膜の形成法は、スパッタリング、X空蒸
着、溶剤塗布などから適宜選択でき、厚みは0.01μ
m から0.005μmの範囲に制御するのが好ましい
。0.01μm 以上では、短波長になる程スペース損
失が犬きく、無視できなくなり、0.005μm以下で
は、耐久性が不足するからである。
尚、潤滑剤と(−で、脂肪酸、脂肪酸エステル。
高級アルコール、等と併用することも本発明の要旨を逸
脱しない範囲で実施できる。
脱しない範囲で実施できる。
以下実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
(実施例−1)
20μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムを直
径1mの円筒状キャンに沿わせて移動させ最小入射角4
1°で、入射角が9ooから連続的に変化する斜め蒸着
で強磁性薄膜としてco磁性膜(膜厚0,2μm)を形
成した。蒸発源としては、前記キャン直下25儂に、電
子ビーム蒸発源を配し、使用し′#LCoは99.99
%の純度で、真空度は全圧5X10−5Torrで分圧
の高い気体1d酸”9−4 X 10 ” Torr
、水7 X 1O−6Torrの順であった。
径1mの円筒状キャンに沿わせて移動させ最小入射角4
1°で、入射角が9ooから連続的に変化する斜め蒸着
で強磁性薄膜としてco磁性膜(膜厚0,2μm)を形
成した。蒸発源としては、前記キャン直下25儂に、電
子ビーム蒸発源を配し、使用し′#LCoは99.99
%の純度で、真空度は全圧5X10−5Torrで分圧
の高い気体1d酸”9−4 X 10 ” Torr
、水7 X 1O−6Torrの順であった。
前記強磁性薄膜を構成するCo微粒子の表面は分析の結
果、約75人のCo0層で被覆されていた。
果、約75人のCo0層で被覆されていた。
こうして得られた酸素を含む強磁性薄膜上に、ホリエー
テルサルフォン薄膜を乾燥後の膜厚が0.01μmとな
るよう塗布した。乾燥条件は100℃、1O秒間とした
。用いた溶液はボI) エーテルサルフォノ1重量部、
メチレンクロライ)”200重散部から成るものである
。
テルサルフォン薄膜を乾燥後の膜厚が0.01μmとな
るよう塗布した。乾燥条件は100℃、1O秒間とした
。用いた溶液はボI) エーテルサルフォノ1重量部、
メチレンクロライ)”200重散部から成るものである
。
こうして得られたテープをamm幅にスリットし、ビデ
オテープAを得た。
オテープAを得た。
同様に前記強磁性薄膜上に、抵抗加熱法で約5八/se
cから12八/secの範囲でそれぞれの材料を蒸着し
た。蒸着は、直径30fflの円筒状キャンに沿わせて
強磁性薄膜を配したポリエチレンテレフタレートフィル
ムを移動させながら、lX10 ”Torrから3X1
0 Torrの酸素分圧を最大とする真空雰囲気で蒸着
した。膜厚ば0.007μmかうo、o1μmの範囲で
実施し、ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ポ
リバラキシレン、ポリアミドの薄膜を配したテープを夫
々ビデオテープB、C,D、Eとした。
cから12八/secの範囲でそれぞれの材料を蒸着し
た。蒸着は、直径30fflの円筒状キャンに沿わせて
強磁性薄膜を配したポリエチレンテレフタレートフィル
ムを移動させながら、lX10 ”Torrから3X1
0 Torrの酸素分圧を最大とする真空雰囲気で蒸着
した。膜厚ば0.007μmかうo、o1μmの範囲で
実施し、ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ポ
リバラキシレン、ポリアミドの薄膜を配したテープを夫
々ビデオテープB、C,D、Eとした。
(比較例−1)
実施例−1と同一の強磁性薄膜上に、ポリカーボネート
、ポリイミドを約○、008μm真空蒸着して得たテー
プをビデオテープ−1,−2とした。
、ポリイミドを約○、008μm真空蒸着して得たテー
プをビデオテープ−1,−2とした。
(比較例−2)
207zm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上
にco磁性膜(膜厚0.2μm)を斜め蒸着し、磁気テ
ープとした。蒸発源としては電子ビーム蒸発源を使用し
、これに99.95%の純度のCOをチャージし真空度
5X10 Torr中にて入射角が700 となるよう
斜め蒸着を行なった。
にco磁性膜(膜厚0.2μm)を斜め蒸着し、磁気テ
ープとした。蒸発源としては電子ビーム蒸発源を使用し
、これに99.95%の純度のCOをチャージし真空度
5X10 Torr中にて入射角が700 となるよう
斜め蒸着を行なった。
この蒸着膜の酸化層厚みは約30人であった。
こうして得られた強磁性薄膜上にポリエーテルサルフオ
ン薄膜を実施例−1の方法で塗布形成し、保護被膜とし
て得られたものと、ポリバラキシレンを真空蒸着により
0.008μm保護被膜として得られたテープをそれぞ
れビデオテープ−3,ビデオテープ−4とした。
ン薄膜を実施例−1の方法で塗布形成し、保護被膜とし
て得られたものと、ポリバラキシレンを真空蒸着により
0.008μm保護被膜として得られたテープをそれぞ
れビデオテープ−3,ビデオテープ−4とした。
上の実帷例及び比較例で得られたビデオテープを、ギヤ
・ノブ長0.22μmのアモルファス合金ヘッドを用い
た回転ヘリ力ルスギャン方式の試作したビデオテープレ
コーダで耐久性について調べた。
・ノブ長0.22μmのアモルファス合金ヘッドを用い
た回転ヘリ力ルスギャン方式の試作したビデオテープレ
コーダで耐久性について調べた。
耐久性の評価法として、最もビデオテープの弱点である
高?:ヱ環境下のスチルモードでの再生出力の経時劣化
についてみた。再生出力が3dB低下する寸での時間を
スチル寿命と判定した。その結果を下表に示す。
高?:ヱ環境下のスチルモードでの再生出力の経時劣化
についてみた。再生出力が3dB低下する寸での時間を
スチル寿命と判定した。その結果を下表に示す。
以 下 余 白
上表の結果より本発明の磁気記録媒体のスチル寿命は実
用水準にある。上記は40℃、87%RHでのスチル寿
命であるが、本発明品は、ビデオテープレコーダで30
℃、80%RHで500回くり返し記録再生(従って走
行は1000回)行っても、ドロップアウトは増加しな
かったが、比較例では、ドロップアウトの増加が目立ち
、それは主として、ヘリカルに入ったキズのためで、こ
の点からみても本発明品の耐久性は良好なものといえる
。
用水準にある。上記は40℃、87%RHでのスチル寿
命であるが、本発明品は、ビデオテープレコーダで30
℃、80%RHで500回くり返し記録再生(従って走
行は1000回)行っても、ドロップアウトは増加しな
かったが、比較例では、ドロップアウトの増加が目立ち
、それは主として、ヘリカルに入ったキズのためで、こ
の点からみても本発明品の耐久性は良好なものといえる
。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、強磁性薄膜として酸素を含む
強磁性薄膜を用い、この薄膜上に配した保護被膜として
、ポリエステル、ポリスルフォンポリフェニレンオキサ
イド、ポリパラキンレン。
強磁性薄膜を用い、この薄膜上に配した保護被膜として
、ポリエステル、ポリスルフォンポリフェニレンオキサ
イド、ポリパラキンレン。
ポリアミドのうちいずれか0・どっからなる薄膜を組み
合わせることで、0.0171171以下で、スペーシ
ング損失を無視できる厚み範囲で、40℃、87%RH
の環境でもアモルファス合金ビデオヘッドでのスチル寿
命として30分以上の実用水準を確保でき、くり返し記
録、再生でスリキズの発生に基ずくドロップアウトの異
常増加もなく、高密度磁気記録の実用化に大きく貢献で
きるものである。
合わせることで、0.0171171以下で、スペーシ
ング損失を無視できる厚み範囲で、40℃、87%RH
の環境でもアモルファス合金ビデオヘッドでのスチル寿
命として30分以上の実用水準を確保でき、くり返し記
録、再生でスリキズの発生に基ずくドロップアウトの異
常増加もなく、高密度磁気記録の実用化に大きく貢献で
きるものである。
図は本発明の実権例における磁気記録媒体を示す断面図
である。 2・・・・強磁性薄膜、3・・・・・・保護被膜。
である。 2・・・・強磁性薄膜、3・・・・・・保護被膜。
Claims (1)
- 酸素を含む強磁性薄膜上に配した保護被膜が、ポリエス
テル、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポ
リバラギシレン、ポリアミドのうちいずれか一つからな
ることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58216557A JPS60109027A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58216557A JPS60109027A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60109027A true JPS60109027A (ja) | 1985-06-14 |
Family
ID=16690298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58216557A Pending JPS60109027A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60109027A (ja) |
-
1983
- 1983-11-17 JP JP58216557A patent/JPS60109027A/ja active Pending
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