JPS6011697B2 - 有機半導体 - Google Patents
有機半導体Info
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- JPS6011697B2 JPS6011697B2 JP51069980A JP6998076A JPS6011697B2 JP S6011697 B2 JPS6011697 B2 JP S6011697B2 JP 51069980 A JP51069980 A JP 51069980A JP 6998076 A JP6998076 A JP 6998076A JP S6011697 B2 JPS6011697 B2 JP S6011697B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- phase transition
- resistance
- tcnq
- organic semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Thermistors And Varistors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可逆性の相転移を示す有機半導体に関するもの
であり、特に、7・7・8・8−テトラシアノキノジメ
タン(以下TCNQと略す)をアニオンとし、N一nー
プロピルピリジニウムカチオンとN一nーブチルピリジ
ニウムカチオンの一つのカチオンを有する3元系有機イ
オンーラジカル塩から成る有機半導体に関するものであ
る。
であり、特に、7・7・8・8−テトラシアノキノジメ
タン(以下TCNQと略す)をアニオンとし、N一nー
プロピルピリジニウムカチオンとN一nーブチルピリジ
ニウムカチオンの一つのカチオンを有する3元系有機イ
オンーラジカル塩から成る有機半導体に関するものであ
る。
更に詳しくは、本発明は可逆的固体−固体相転移の温度
ヒステリシスを異常に大きくするよな組成を有する有機
半導体に関するものである。有機半導体、特にTCN■
塩における相転移現象に比較的良く研究されており、可
逆あるいは非可逆の相転移を示す化合物がいくつか見出
されている。
ヒステリシスを異常に大きくするよな組成を有する有機
半導体に関するものである。有機半導体、特にTCN■
塩における相転移現象に比較的良く研究されており、可
逆あるいは非可逆の相転移を示す化合物がいくつか見出
されている。
これらの相転移は相転移点における抵抗−温度特性の異
常として観測され、この性質を利用して感熱素子あるい
は温度検出素子が提案されている。このような異常な抵
抗−温度特性を示す化合物としてはKepier氏等に
より、J.Chem.Phys.謙3期蓋、1311頁
(1963王)に示されたトリフェニルメチルフオスフ
オニウム(TCNQ)2あるいは発明者等によるN一n
−ブロピルピリジニウム(TCNQ)2(特豚昭49−
119658)などが提案されている。
常として観測され、この性質を利用して感熱素子あるい
は温度検出素子が提案されている。このような異常な抵
抗−温度特性を示す化合物としてはKepier氏等に
より、J.Chem.Phys.謙3期蓋、1311頁
(1963王)に示されたトリフェニルメチルフオスフ
オニウム(TCNQ)2あるいは発明者等によるN一n
−ブロピルピリジニウム(TCNQ)2(特豚昭49−
119658)などが提案されている。
また、極低感で低抗値が急変する化合物としてはテトラ
チオフルバレニウム(TCNQ)(一215qoで相転
移)が有名である。TCNQ塩の結晶は極く一部の例外
を除いて、TCNQ分子が互いに重なり合って鎖を形成
することを特徴としている。
チオフルバレニウム(TCNQ)(一215qoで相転
移)が有名である。TCNQ塩の結晶は極く一部の例外
を除いて、TCNQ分子が互いに重なり合って鎖を形成
することを特徴としている。
TCNQの鎖は鎖軸の垂直方向に対しては非常に弱い力
でしか結ばれていないため、この結晶の示す物理的性質
は一次元結晶のそれと考えた方がよい場合が多い。この
ような一次元性結晶は一般に不安定で、温度や圧力によ
って分子の配列が変化する。いわゆる相転移を示すこと
がいまいまある。TCN則塩あるいは一般に有機物の相
転移が工学的に注目される理由の一つに、相転移パラメ
ータを人為的に変化させ得ることがある。それは、有機
物の多様性を利用して、結晶中に不整を導入したり、同
形化合物を導入したりすることが無機化合物に比して容
易であることに由来する。同形化合物の合金を製造して
相転移の転移点を動かした例は、(トリフヱニルメチル
フオスフオニウム)(TCNQ)2と(トリフエニルメ
チルアルソニウム)(TCNQ)2の合金および(テト
ラチオフルパレン)(TCNQ)と(テトラセレノフル
パレン)(TCNQ)の合金がある。(ここで、これら
の化合物は厳密な意味での金属ではなし、が、“ALL
OY’という意味で「合金」という術語を用いた。)従
来例として示した合金においては相転移温度は組成比と
ともに単調に移動するこが示されている。本発明の目的
とする所は、同一発明者等により発明された(N−n一
プロピルピリジニウム)(TCNQ)2の可逆の相転移
パラメータを(N−n−ブチルピリジニウム)(TCN
Q)2の添加により、制御しようとするものであるが、
後者の前者に対するモル比がある特定の範囲にある場合
に限り、上記相転移のヒステリシスが異常に大きくなる
ことを示し、特異な感熱素子および回路素子として有効
な新規な有機半導体を提供しようとすものである。
でしか結ばれていないため、この結晶の示す物理的性質
は一次元結晶のそれと考えた方がよい場合が多い。この
ような一次元性結晶は一般に不安定で、温度や圧力によ
って分子の配列が変化する。いわゆる相転移を示すこと
がいまいまある。TCN則塩あるいは一般に有機物の相
転移が工学的に注目される理由の一つに、相転移パラメ
ータを人為的に変化させ得ることがある。それは、有機
物の多様性を利用して、結晶中に不整を導入したり、同
形化合物を導入したりすることが無機化合物に比して容
易であることに由来する。同形化合物の合金を製造して
相転移の転移点を動かした例は、(トリフヱニルメチル
フオスフオニウム)(TCNQ)2と(トリフエニルメ
チルアルソニウム)(TCNQ)2の合金および(テト
ラチオフルパレン)(TCNQ)と(テトラセレノフル
パレン)(TCNQ)の合金がある。(ここで、これら
の化合物は厳密な意味での金属ではなし、が、“ALL
OY’という意味で「合金」という術語を用いた。)従
来例として示した合金においては相転移温度は組成比と
ともに単調に移動するこが示されている。本発明の目的
とする所は、同一発明者等により発明された(N−n一
プロピルピリジニウム)(TCNQ)2の可逆の相転移
パラメータを(N−n−ブチルピリジニウム)(TCN
Q)2の添加により、制御しようとするものであるが、
後者の前者に対するモル比がある特定の範囲にある場合
に限り、上記相転移のヒステリシスが異常に大きくなる
ことを示し、特異な感熱素子および回路素子として有効
な新規な有機半導体を提供しようとすものである。
(N一m一プロピルピリジニウム)(TCNQ)2(以
下Aと略す)は次のよな化学構造式で表わされる。
下Aと略す)は次のよな化学構造式で表わされる。
この化合物は可逆性の相転移を示し、相転移点において
抵抗がジャンプする。
抵抗がジャンプする。
常温から昇温すると108つ0の温度において抵抗値が
急激に減少し、約1′10となる。温度を再び下げると
約9ぴ○から抵抗が増加し元の値に戻る。昇温時の相転
移温度をTH、降温時の相転移温度をTIとするとTH
=108℃、T,=90qoで、ヒステリシスはTH−
T,で定義され、18℃となる。一方、本発明でとり上
げる第2の成分は(N−n−プチルピリジニウム)(T
CNQ)2(以下Bと略す)で、次の構造式を持て〕。
Bも相転移を示す化合物で、その特徴は高温で抵抗が増
加するようなもので、PTC(PositiveTem
peratureCoemcient)特性と呼ばれる
抵抗−温度変化を示す。
急激に減少し、約1′10となる。温度を再び下げると
約9ぴ○から抵抗が増加し元の値に戻る。昇温時の相転
移温度をTH、降温時の相転移温度をTIとするとTH
=108℃、T,=90qoで、ヒステリシスはTH−
T,で定義され、18℃となる。一方、本発明でとり上
げる第2の成分は(N−n−プチルピリジニウム)(T
CNQ)2(以下Bと略す)で、次の構造式を持て〕。
Bも相転移を示す化合物で、その特徴は高温で抵抗が増
加するようなもので、PTC(PositiveTem
peratureCoemcient)特性と呼ばれる
抵抗−温度変化を示す。
相転移温度は前述の定義を用いて表現すると、TH=1
33℃、TI=110℃となる。本発明で開示れる新物
質はA,‐xBxなる式で表わされる合金であるが、こ
れを詳しく書くと次のようになる。
33℃、TI=110℃となる。本発明で開示れる新物
質はA,‐xBxなる式で表わされる合金であるが、こ
れを詳しく書くと次のようになる。
カチオンが2成分、アニオンが1成分含まれるという意
味で、本発明ではA,TBxを3成分有機半導体と呼ぶ
ことにする。
味で、本発明ではA,TBxを3成分有機半導体と呼ぶ
ことにする。
本発明ではxの値がある特定の範囲内にあるときに、ヒ
ステリシス(TH−T・三△T)が異常に大きくなると
いう従来にない全く新規な特性が出現し、この特異な相
転移現象が、感熱素子および回路素子として有用である
。以下の実施例において、新物質の製造方法、特性適用
例などについて述べる。実施例 1 Aを8.5夕、Bを2.2夕をめのおの乳鉢中でよく粉
砕混合し、これを3〜4トン/地の圧力で成型し、更に
この成型体を粉砕し混合した。
ステリシス(TH−T・三△T)が異常に大きくなると
いう従来にない全く新規な特性が出現し、この特異な相
転移現象が、感熱素子および回路素子として有用である
。以下の実施例において、新物質の製造方法、特性適用
例などについて述べる。実施例 1 Aを8.5夕、Bを2.2夕をめのおの乳鉢中でよく粉
砕混合し、これを3〜4トン/地の圧力で成型し、更に
この成型体を粉砕し混合した。
得られた混合物を6トンノ流の圧力で直径3助長さ5柵
の棒状試料に成型し、電気的性質を測定した。なお成型
体はAo.8Bo.2で表わされる合金であった。常温
におけるAの比抵抗が20000仇、Bが500瓜であ
ったのに対し、上記のAMBo.2の試料は2200肌
の比抵抗を示した。このAo.88o.2は120℃以
上の温度で約10分間熱処理をすると常温での比抵抗値
が約1200肌の化合物が得られ、この化合物はAと同
じタイプの可逆性相転移を示した。その転移温度は:T
H=11ro、TI=65qoであり、ヒステリシスは
46℃となった。T一における抵抗値の変化は約1び分
の1であった。ヒステリシス温度が46℃であることは
、Aの1ぷ○、Bの2チ0に比較するとおどろくべき値
であることがわかる。実施例 2ABの合金を更に完全
に形成させるために、実施例1で縛られたAo.88o
.2の合金を少量の溶媒と共に混練した結果を示す。
の棒状試料に成型し、電気的性質を測定した。なお成型
体はAo.8Bo.2で表わされる合金であった。常温
におけるAの比抵抗が20000仇、Bが500瓜であ
ったのに対し、上記のAMBo.2の試料は2200肌
の比抵抗を示した。このAo.88o.2は120℃以
上の温度で約10分間熱処理をすると常温での比抵抗値
が約1200肌の化合物が得られ、この化合物はAと同
じタイプの可逆性相転移を示した。その転移温度は:T
H=11ro、TI=65qoであり、ヒステリシスは
46℃となった。T一における抵抗値の変化は約1び分
の1であった。ヒステリシス温度が46℃であることは
、Aの1ぷ○、Bの2チ0に比較するとおどろくべき値
であることがわかる。実施例 2ABの合金を更に完全
に形成させるために、実施例1で縛られたAo.88o
.2の合金を少量の溶媒と共に混練した結果を示す。
溶媒としてはアセトニトリルとアセトンの1:1の混合
溶媒を用いた。AMBo.25のこ対し溶媒を3の‘添
加してペーストを作り、遠心式ボールミルを用いて約1
時間粉砕混練を施した。120o○の温度で約2時間真
空乾燥した後に、実施例1と同様に直径3肋のサンプル
を成型して電気的特性を測定した。
溶媒を用いた。AMBo.25のこ対し溶媒を3の‘添
加してペーストを作り、遠心式ボールミルを用いて約1
時間粉砕混練を施した。120o○の温度で約2時間真
空乾燥した後に、実施例1と同様に直径3肋のサンプル
を成型して電気的特性を測定した。
常温における比抵抗は150〜2000弧で、TH=1
14こ○、TI=6?C、△T=520なる相転移パラ
メータが得られた。走査形差動熱量計(DSC)測定の
結果、T=THでは約3cal/夕の熱が吸収され、T
=TIでその熱が放出されているという。
14こ○、TI=6?C、△T=520なる相転移パラ
メータが得られた。走査形差動熱量計(DSC)測定の
結果、T=THでは約3cal/夕の熱が吸収され、T
=TIでその熱が放出されているという。
一次の相転移の証拠が得られた。実施例 3本実施例で
はヒステリシスの大きなAB系の合金を調製する他の方
法として共再沈澱という方法を検討した結果を示す。
はヒステリシスの大きなAB系の合金を調製する他の方
法として共再沈澱という方法を検討した結果を示す。
再沈澱は一般に次のようにして行なわれる。■、結晶を
得ようとする物質を良く溶かす溶媒を用い、濃厚な溶液
を作り、その温度を高くする。■、■で用いた溶媒と相
溶し物質を溶解しない第2の溶媒を多量に(■の溶液の
5の音以上)用意し、できるだけ低い温度に保つ、■、
■で作られた溶剤を激しく燈拝しながらその中に■の溶
液をゆっくり滴下する。この結果物質は■の溶剤中で急
激に結晶化して、非常に細かい粉末が得られる。例えば
、Aは再沈澱するには■の溶媒としてDM円、■の溶剤
として水あるいはエーテルを用い、■の濃度は10夕/
100泌とし、■の量は約20そとすればよい。■の温
度は50〜80℃、■の温度は水の場合000、エーテ
ルの場合−7籍○とする。収率はいずれの場合も85%
以上で、急激な結晶化が起り、結晶化ロスが殆どないこ
とが示された。AB系の合金をこの再沈澱法により調製
しようとするのは、この方法では■において完全な溶液
が作られ、■において急激な結晶化が起るので、実施例
1、2の場合と同様、仕込んだA、Bの比率と合金中の
ABの比率がほぼ等しいとみなし得るからである。
得ようとする物質を良く溶かす溶媒を用い、濃厚な溶液
を作り、その温度を高くする。■、■で用いた溶媒と相
溶し物質を溶解しない第2の溶媒を多量に(■の溶液の
5の音以上)用意し、できるだけ低い温度に保つ、■、
■で作られた溶剤を激しく燈拝しながらその中に■の溶
液をゆっくり滴下する。この結果物質は■の溶剤中で急
激に結晶化して、非常に細かい粉末が得られる。例えば
、Aは再沈澱するには■の溶媒としてDM円、■の溶剤
として水あるいはエーテルを用い、■の濃度は10夕/
100泌とし、■の量は約20そとすればよい。■の温
度は50〜80℃、■の温度は水の場合000、エーテ
ルの場合−7籍○とする。収率はいずれの場合も85%
以上で、急激な結晶化が起り、結晶化ロスが殆どないこ
とが示された。AB系の合金をこの再沈澱法により調製
しようとするのは、この方法では■において完全な溶液
が作られ、■において急激な結晶化が起るので、実施例
1、2の場合と同様、仕込んだA、Bの比率と合金中の
ABの比率がほぼ等しいとみなし得るからである。
以下にABの共再沈澱法による製造の過程を示す。A3
5夕、BII夕を125叫のジメチルフオルムアミド(
以下DMFと略す。
5夕、BII夕を125叫のジメチルフオルムアミド(
以下DMFと略す。
)に溶解し、80午0の温度に保った。次に水10そを
用意しこれを食塩を沈澱させた氷水により冷した。後者
をスターラーで充分燈拝しつつ、DMF溶液を滴下ロー
トから通下させた。水の中に分散した細かい結晶粉をガ
ラスロートで集め、水およびエーテルで十分洗浄し、6
5℃の温度で約8時間真空乾燥した。こうして得られた
結晶は2次粒子としてかなり大きな結晶塊を形成してい
るので、これをめのうの乳鉢で更に粉砕して、実施例1
と同様にべレットに成型した。なお合金の組成はAM7
Bo.23であった。常温での比抵抗は3.3Q伽であ
ったが、130℃以上の温度で30分以上熱処理すると
約3500仇の比抵抗を持つ合金に変化し、実施例2と
ほとんど同じ可逆性相転移を持つ合金が得られた。第1
図にこの合金の抵抗−温度特性を示す。この特性は直径
3側の棒状サンプルに金線を用いて4端子を施し、10
0〜10rAの電流を外側2端子に流し、中側2端子の
電圧の温度変化を測定して得られたものである。この結
果から、相転移パラメータとして次の値が得られた:T
HI15oo、T,=64℃、△T=5100。また、
14yoにおける比抵抗は6.00肌で、THでは抵抗
が丁度1/10となるような急激な変化が起っていた。
実施例 4 AとBの組成比がいかなる場合に以上のような大きなヒ
ステリシスが現われるかを検討した。
用意しこれを食塩を沈澱させた氷水により冷した。後者
をスターラーで充分燈拝しつつ、DMF溶液を滴下ロー
トから通下させた。水の中に分散した細かい結晶粉をガ
ラスロートで集め、水およびエーテルで十分洗浄し、6
5℃の温度で約8時間真空乾燥した。こうして得られた
結晶は2次粒子としてかなり大きな結晶塊を形成してい
るので、これをめのうの乳鉢で更に粉砕して、実施例1
と同様にべレットに成型した。なお合金の組成はAM7
Bo.23であった。常温での比抵抗は3.3Q伽であ
ったが、130℃以上の温度で30分以上熱処理すると
約3500仇の比抵抗を持つ合金に変化し、実施例2と
ほとんど同じ可逆性相転移を持つ合金が得られた。第1
図にこの合金の抵抗−温度特性を示す。この特性は直径
3側の棒状サンプルに金線を用いて4端子を施し、10
0〜10rAの電流を外側2端子に流し、中側2端子の
電圧の温度変化を測定して得られたものである。この結
果から、相転移パラメータとして次の値が得られた:T
HI15oo、T,=64℃、△T=5100。また、
14yoにおける比抵抗は6.00肌で、THでは抵抗
が丁度1/10となるような急激な変化が起っていた。
実施例 4 AとBの組成比がいかなる場合に以上のような大きなヒ
ステリシスが現われるかを検討した。
合金調製は実施例3の共再沈澱法によったが、実施例2
のペースト混練法によっても殆ど同じ結果が得られた。
第2図にA−B系の相図を示す。
のペースト混練法によっても殆ど同じ結果が得られた。
第2図にA−B系の相図を示す。
Bのモル%が15から90の間にある場合のみ、△Tが
45ぴ0以上の大きなヒステリシスが出現していること
が明らかになった。Bが10%以下の場合は、Aの特性
が平行移動した特性が現われ、Bが91%以上の場合は
Bの特性とAの特性の混在が示された。従って、第2図
の両側の0%および100%に近い領域は本発明の範囲
からは除外されるべきである。図から明らかなようにA
,‐xBx(0.15<×<0.90)はその成分があ
るAともBとも異なる化合物であると言え、これは主に
その結晶構造の差に起因するものと思われる。このA,
‐xBxに特有の大きなヒステリシスは従来知られてい
ない現象であるので、現在の所理論的に解釈をすること
ができない。有機分子性結晶では不純物が添加されると
相転移の速度が大幅に遅れるという現象は従釆から知ら
れているが、本発明の物質は相転移の速度が遅いという
のではなくて、ある大きな温度のヒステリシスが逆反応
にとって必要であるということで、従来の化合物と全く
異なるものであると言える。以上述べたように、原理的
に明らかでない点が多いが、A,すBxの特性としては
次のことが明らかである。
45ぴ0以上の大きなヒステリシスが出現していること
が明らかになった。Bが10%以下の場合は、Aの特性
が平行移動した特性が現われ、Bが91%以上の場合は
Bの特性とAの特性の混在が示された。従って、第2図
の両側の0%および100%に近い領域は本発明の範囲
からは除外されるべきである。図から明らかなようにA
,‐xBx(0.15<×<0.90)はその成分があ
るAともBとも異なる化合物であると言え、これは主に
その結晶構造の差に起因するものと思われる。このA,
‐xBxに特有の大きなヒステリシスは従来知られてい
ない現象であるので、現在の所理論的に解釈をすること
ができない。有機分子性結晶では不純物が添加されると
相転移の速度が大幅に遅れるという現象は従釆から知ら
れているが、本発明の物質は相転移の速度が遅いという
のではなくて、ある大きな温度のヒステリシスが逆反応
にとって必要であるということで、従来の化合物と全く
異なるものであると言える。以上述べたように、原理的
に明らかでない点が多いが、A,すBxの特性としては
次のことが明らかである。
即ち、xが0.15と0.90の間にあるとき△T(T
H−T,)が異常に大きな相転移が出現し、THの値は
xと共に108qoから140午0まで変化し、TIは
60から8がoまで変化する。△Tはxに対してほとん
ど変化しないが、最小48℃で最大59℃であった。実
施例 6 この実施例においては、本発明の有機半導体を用いた感
熱抵抗体素子の構成と特性、応用例について述べる。
H−T,)が異常に大きな相転移が出現し、THの値は
xと共に108qoから140午0まで変化し、TIは
60から8がoまで変化する。△Tはxに対してほとん
ど変化しないが、最小48℃で最大59℃であった。実
施例 6 この実施例においては、本発明の有機半導体を用いた感
熱抵抗体素子の構成と特性、応用例について述べる。
本発明の有機半導体から製造される抵抗体素子には加圧
成型によるディスク形素子およびスクリーン印刷による
厚膿素子の2つがある。第3図にディスク型素子の基本
的な構造を示す。これは実施例3あるいは4により作ら
れたA−B合金の粉末に5〜10%の高分子を添加して
5トン/地の圧力、150qoの温度の下で成型して作
られた。電極はカーボン粉末に高分子を添加したものを
上記AB合金の成型体に重ねて同時に成型して取付けら
れ、その上から銀ペーストによりリード線を取出した。
第3図において、1は本発明による感熱材料、2は電極
、3は外装材、4はリード線である。本材料を高分子と
共にスクリーン印刷、グラビャ印刷等の方法で印刷した
場合の厚膜抵抗体素子の製造法について述べる。
成型によるディスク形素子およびスクリーン印刷による
厚膿素子の2つがある。第3図にディスク型素子の基本
的な構造を示す。これは実施例3あるいは4により作ら
れたA−B合金の粉末に5〜10%の高分子を添加して
5トン/地の圧力、150qoの温度の下で成型して作
られた。電極はカーボン粉末に高分子を添加したものを
上記AB合金の成型体に重ねて同時に成型して取付けら
れ、その上から銀ペーストによりリード線を取出した。
第3図において、1は本発明による感熱材料、2は電極
、3は外装材、4はリード線である。本材料を高分子と
共にスクリーン印刷、グラビャ印刷等の方法で印刷した
場合の厚膜抵抗体素子の製造法について述べる。
本実施例では実施例4の再沈澱法により得られた粉末を
用い、目開き44山風のふるいをかけ粒度をそろえた後
に高分子、溶媒と共に濠練りしペーストとした。ペース
トの組成は粉末50夕、高分子(ポリビニルブチラ−ル
)7.5夕、溶媒(ブタノール+ブチルカルビトールア
セテート(1:1))400の‘であった。高分子の量
は要求される抵抗値によって5夕から50夕の間で変化
させることができた。印刷に使用したスクリーンは30
0メッシュのステンレススクリーンであった。前者のデ
ィスク形抵抗体(直径3柳、電極間隔1側、円筒状素子
)では常温の抵抗値が5から7000の間の素子が得ら
れ、後者の厚膿抵抗体(電極間隔2柵、有機半導体の幅
2柵)では10KQから700MQの間の素子が得られ
た。
用い、目開き44山風のふるいをかけ粒度をそろえた後
に高分子、溶媒と共に濠練りしペーストとした。ペース
トの組成は粉末50夕、高分子(ポリビニルブチラ−ル
)7.5夕、溶媒(ブタノール+ブチルカルビトールア
セテート(1:1))400の‘であった。高分子の量
は要求される抵抗値によって5夕から50夕の間で変化
させることができた。印刷に使用したスクリーンは30
0メッシュのステンレススクリーンであった。前者のデ
ィスク形抵抗体(直径3柳、電極間隔1側、円筒状素子
)では常温の抵抗値が5から7000の間の素子が得ら
れ、後者の厚膿抵抗体(電極間隔2柵、有機半導体の幅
2柵)では10KQから700MQの間の素子が得られ
た。
抵抗−温度特性は第1図の特性と全く同じものであった
。有機半導体(A一B)と反応するような高分子を用い
た場合、あるいは外装剤、電極が適当でない場合抵抗の
大きさ及び特性のシャープさに劣化が見られることもあ
った。高分子として使用可能なものは、以上の他にポリ
エチレン−酢酸ピニル、ポリビニルピロリドン、ポリウ
レタン、エチルセルロース、ポリ塩化ゴム、ポリビニル
フェルマールなどがある。本発明の材料を感熱素子とし
て用いた場合、大きなヒステリシスが有効に利用されて
、安全性の高い温度検知装置、警報装置が作られること
が重要な特徴となる。
。有機半導体(A一B)と反応するような高分子を用い
た場合、あるいは外装剤、電極が適当でない場合抵抗の
大きさ及び特性のシャープさに劣化が見られることもあ
った。高分子として使用可能なものは、以上の他にポリ
エチレン−酢酸ピニル、ポリビニルピロリドン、ポリウ
レタン、エチルセルロース、ポリ塩化ゴム、ポリビニル
フェルマールなどがある。本発明の材料を感熱素子とし
て用いた場合、大きなヒステリシスが有効に利用されて
、安全性の高い温度検知装置、警報装置が作られること
が重要な特徴となる。
即ち、120℃に警報温度を設定した場合(材料はAM
4Bo.26)、温度が120℃を超すとIJレーある
いはサィリスタを介して警報あるいは安全装置が働くが
、温度が再び120℃より下っても直ちに警報が除かれ
ることはなく、温度が6400以下になったときはじめ
て警報が解除される訳である。実施例 6 ここでは、本発明の材料を用いた電子回路素子の例を示
す。
4Bo.26)、温度が120℃を超すとIJレーある
いはサィリスタを介して警報あるいは安全装置が働くが
、温度が再び120℃より下っても直ちに警報が除かれ
ることはなく、温度が6400以下になったときはじめ
て警報が解除される訳である。実施例 6 ここでは、本発明の材料を用いた電子回路素子の例を示
す。
第4図はその回路素子の一例であるところの傍熱形厚膜
スイッチ素子である。5は本発明の材料を実施例5の方
法でスクリーン印刷して得られた厚濃感熱素子である。
スイッチ素子である。5は本発明の材料を実施例5の方
法でスクリーン印刷して得られた厚濃感熱素子である。
この素子の特徴は感熱素子5をスイッチさせるための熱
源としてカーボン印刷ヒータ6を有することにある。7
は有機半導体用電極、8はカーボンヒータ用電極で、9
は5と6を分ける絶縁層である。
源としてカーボン印刷ヒータ6を有することにある。7
は有機半導体用電極、8はカーボンヒータ用電極で、9
は5と6を分ける絶縁層である。
なお10,11はそれぞれ基板および外装材である。有
機半導体感熱材料5は基本的には受動的な材料であるが
、このような構造にすることにより能動的な動作をする
ことが可能となる。ヒータ6に電圧が与えられると半導
体5の抵抗は500KQから約8皿Qに変化する。次に
ヒータを切ると抵抗は直ちに元の値に復帰するのではな
く、約25分の後に48雌○となった。完全に500K
Oとなるには約1時間の時間が必要であった。復帰時間
はその温度に依存し、ヒータ温度が45℃である場合に
は復帰に約2時間が必要であった。このように、ヒステ
リシスの大きい相転移の特性は、第4図のような制御ヒ
ータを持つ素子として組立てられた場合、遅延スイッチ
として利用できる訳である。遅延スイッチは具体的には
、電気扇風機用タイマー、室内灯の遅延消灯、換気扇の
間けっ動作など非常に広い用途を有する。以上のように
本発明では種々の方法で作られた(N一n一プロピルピ
リジニウム),サ(N−nーブチルピリジニウム).(
TCNQ)2のxの値が0.15から0.90の間にあ
る場合に非常に大きなヒステリシスを有する相転移が出
現し、それに伴なつて抵抗値が約IM音変化するという
新規な有機半導体合金を提供するものである。
機半導体感熱材料5は基本的には受動的な材料であるが
、このような構造にすることにより能動的な動作をする
ことが可能となる。ヒータ6に電圧が与えられると半導
体5の抵抗は500KQから約8皿Qに変化する。次に
ヒータを切ると抵抗は直ちに元の値に復帰するのではな
く、約25分の後に48雌○となった。完全に500K
Oとなるには約1時間の時間が必要であった。復帰時間
はその温度に依存し、ヒータ温度が45℃である場合に
は復帰に約2時間が必要であった。このように、ヒステ
リシスの大きい相転移の特性は、第4図のような制御ヒ
ータを持つ素子として組立てられた場合、遅延スイッチ
として利用できる訳である。遅延スイッチは具体的には
、電気扇風機用タイマー、室内灯の遅延消灯、換気扇の
間けっ動作など非常に広い用途を有する。以上のように
本発明では種々の方法で作られた(N一n一プロピルピ
リジニウム),サ(N−nーブチルピリジニウム).(
TCNQ)2のxの値が0.15から0.90の間にあ
る場合に非常に大きなヒステリシスを有する相転移が出
現し、それに伴なつて抵抗値が約IM音変化するという
新規な有機半導体合金を提供するものである。
この合金の調整法としては、以上述べた方法の他の再結
晶法、ホットプレス法などもある。実施例で示したと同
機に本発明の特徴となる大きなヒステリシスを出現させ
ることができる。また応用回路としては、実施例6を発
展させ、そのような、熱形厚膜素子を直列あるいは並列
に2つ以上結合することにより超低周波発振回路、遅延
線などが容易に構成され、更にはシフトレジスタなどの
低速論理回路に展開させることも不可能ではない。図面
の簡単な説明第1図は(N−n−プロピルピリジニゥム
)小76(N−nーブチルピリジニウム)。
晶法、ホットプレス法などもある。実施例で示したと同
機に本発明の特徴となる大きなヒステリシスを出現させ
ることができる。また応用回路としては、実施例6を発
展させ、そのような、熱形厚膜素子を直列あるいは並列
に2つ以上結合することにより超低周波発振回路、遅延
線などが容易に構成され、更にはシフトレジスタなどの
低速論理回路に展開させることも不可能ではない。図面
の簡単な説明第1図は(N−n−プロピルピリジニゥム
)小76(N−nーブチルピリジニウム)。
.24(TCNQ)2の示す抵抗−温度特性を示す図、
第2図は(N−n一プロピルピリジニウム)rX(N一
nーブチルピリジニウム)x(TCNQ)2におけるx
と相転移温度の関係を示す図、第3図は本発明の材料を
用いたディスク形感熱素子の一例を示す断面図、第4図
は本発明の材料を用いた回路素子の一例である傍熱形厚
膜スイッチ素子の断面図である。1…・・・有機半導体
、2……電極、3……外装材、4……リード線。
第2図は(N−n一プロピルピリジニウム)rX(N一
nーブチルピリジニウム)x(TCNQ)2におけるx
と相転移温度の関係を示す図、第3図は本発明の材料を
用いたディスク形感熱素子の一例を示す断面図、第4図
は本発明の材料を用いた回路素子の一例である傍熱形厚
膜スイッチ素子の断面図である。1…・・・有機半導体
、2……電極、3……外装材、4……リード線。
第1図
第2図
第3図
第4図
Claims (1)
- 1 (N−n−プロピルピリジニウム)_1_−_x(
N−n−ブチルピリジニウム)_x(7・7・8・8−
テトラシアノキノジメタン)_2(ここでxは0.15
から0.90の間にある)で表わされる有機半導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51069980A JPS6011697B2 (ja) | 1976-06-14 | 1976-06-14 | 有機半導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51069980A JPS6011697B2 (ja) | 1976-06-14 | 1976-06-14 | 有機半導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52152162A JPS52152162A (en) | 1977-12-17 |
| JPS6011697B2 true JPS6011697B2 (ja) | 1985-03-27 |
Family
ID=13418309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51069980A Expired JPS6011697B2 (ja) | 1976-06-14 | 1976-06-14 | 有機半導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011697B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58108381U (ja) * | 1982-01-19 | 1983-07-23 | ダイキン工業株式会社 | 空気調和機の気液分離器取付装置 |
-
1976
- 1976-06-14 JP JP51069980A patent/JPS6011697B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52152162A (en) | 1977-12-17 |
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