JPS6012087B2 - 反応器の温度制御 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は反応器から流出する生成物の流れの一部が再循
環し、かつ該反応器へ流入する供聯合物と混合する該化
学反応器の制御に関する。

一面において本発明は、反応器から流出する生成物の流
れの一部が再循環し「かつ該反応器へ流入する供Ｖ給物
と混合する該反応器を越えての温度上昇を制御するため
の方法及び反応器から流出する反応物の流れの一部が再
循環し、かつ該反応器へ流入する供給物と混合する該反
応器の入口温度を制御するための方法及び装置に関する
。なおその他の面において本発明は、反応器から流出す
る生成物の流れの一部が再循環し、かつ該反応器へ流入
する供給物と混合する該反応器へ１種よりも多い反応物
が流入する場合において該反応器へ流入する少くとも２
種の反応物の比を制御するための方法及び装置に関する
。反応器から流出する生成物の流れの一部が再循環し、
かつ該反応器へ流入する供給物と混合する反応器は多く
の化学的方法に利用されている。

反応物の「所望の生成物への所望の転イＢ率％を得るた
めに反応器の入口温度と、反応器を越えての温度上昇と
の両者を制御することが屡々必要である。反応器を越え
ての温度上昇を厳密に制御することは安全の目的に対し
ても必要である。したがって、反応器から流出する生成
物の流れの一部が再循環し、かつ該反応器に流入する供
聯合物と混合する該反応器を越えての温度上昇を制御す
るための方法及び装置を提供することが本発明の目的で
ある。

反応器から流出する生成物の流れの一部が再循環し、か
つ該反応器に流入する供Ｖ給物と混合する該反応器の入
口温度を制御するための方法及び装置を提供することが
本発明のもう一つの目的である。反応器から流出する生
成物の流れの一部が再循環し、かつ該反応器に流入する
供給物と混合する該反応器を使用する多くの化学的方法
においては、少くとも２種の反応物を、反応器への導入
に先立って混合する。

確実に所望の生成物が得られ、しかも反応物の浪費を回
避するためには該反応物の比を厳密に制御することが必
要である。したがって、反応器から流出する生成物の流
れの一部が再循環し、かつ該反応器に流入する供給物と
混合する該反応器へ、１種よりも多い反応物が流入する
場合において、該反応器に流入する少くとも２種の反応
物の比を制御するための方法及び装置を提供することが
本発明のもう一つの目的である。反応器から流出する生
成物の流れの一部が再循環し、かつ該反応器に流入する
供給物と混合する該反応器に流入する少くとも１種の反
応物の流量を測定する方法及び装置が本発明により提供
される。

この測定された流量は該反応器への再循環の流れの流量
に対する設定値（Ｓｅｔｐｏｉｎｔ）を設定するために
利用される。このようにして、該反応器へ流入する供給
物において、少くとも１種の反応物の所望の濃度が維持
され、したがって該反応器を越えての所望の温度上昇が
保証される。反応器の入口温度の制御は、該反応器の入
口温度を測定し、その測定された入口温度に応じて再循
環の流れの温度を調節し、それにより該反応器の入口温
度を所望の温度に維持することによって遂行する。１種
よりも多い反応物を反応器に流入させる場合における該
反応物の比の制御は、反応物の１種の流量を測定し、こ
の測定された流量を利用して残りの反応物の流量に対す
る設定値を導き出すことによって遂行する。

本発明のその他の目的及び利点は前記特許請求の範囲及
び図面についての詳細な説明から明らかであろう。

図面は反応器から流出する生成物の流れの一部が再循環
し、かつ該反応器に流入する供給物と混合する該反応器
、及びそれに付随する制御系についての図面的説明であ
る。

本発明をメチル第三プチルェーテルの製造方法により説
明し、かつ記載する。

しかしながら本発明は反応器を越えての温度上昇及び反
応器に対する入口温度ならびに該反応器に流入する反応
物の比を制御することが望ましい、その他の製造方法に
対して応用することができる。メチル第三ブチルェーテ
ルを生成するには本質的に２種の反応物、すなわちメタ
ノール及びィソブチレンのみが必要である。

しかしながら反応物の比の制御は２種よりも多い反応物
に対して適用できる。本発明の温度制御は、反応器に供
給される２種の反応物について記載しているけれど１種
の反応物のみが供給される反応器に対しても適用するこ
とができる。本発明を特定の反応器構成及び該反応器に
対する特定の制御系により説明し、かつ記載するけれど
本発明は、反応器から流出する生成物の流れの一部が再
循環し、かつ該反応器に流入する供給物と混合する該反
応器の、異った形式及び構成のもの、ならびに本発明の
目的を達成する、異つた形式の制御方式に対しても適用
することができる。

図面において信号線として示す線は本発明の好ましい実
施態様における電気及び空気についてのものである。し
かしながら本発明は情報伝達のための機械的、油圧また
はその他の信号手段に対しても適用できる。殆んどすべ
ての制御系においてこれらの信号の形式の数種の組合せ
が使用されるであろう。しかしながら使用される方法及
び装置に適合する任意のその他の信号伝達形式の使用は
本発明の範囲内である。ここに示される制御装置として
は比例 （ｐｒｏｐｏｒｏｏｎａｌ）式、比例−積分（ｉｎにｇ
ｒａｌ）式、比例−微分（ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ）式ま
たは比例−積分−微分式のような種々の制御方式を採用
することができる。

本発明の好ましい実施態様においては比例−積分式制御
装置を使用するけれど、２種の入力信号を受入れること
ができ、しかも該２種の入力信号の比較を示すような割
合で定められた出力信号を生じることのできる任意の制
御装置は本発明の範囲内にある。比例−積分式制御装置
の操作は当業者に周知である。比例−積分式制御装置の
出力制御信号は、Ｓ＝Ｋ，Ｅ＋Ｋ２ＪＥｄｔ （式中、 Ｓ＝出力制御信号 Ｅ＝２種の入力信号の差 Ｋ，及びＫ２＝定数 である）として表わすことができる。

出力信号を、制御装置を基準にして定めることは制御系
業界において周知である。

本質的に制御装置の出力は任意の所望のファクターまた
は変数を表わすような基準で定めることができる。この
例としては、所望の圧力と実際の圧力とが制御装置によ
り比較される場合である。該出力は所望の圧力と実際の
圧力とを等しくするために必要な或る種のガスの流量に
ついての、所望の変化を示す信号であることができる。
他方、出力信号を、百分率基準で定めることができ、あ
るいは所望の圧力と実際の圧力とを等しくさせるに必要
な温度を基準にして定めることができる。制御装置の出
力が典型的な３〜１５ポンドｌこわたることができる場
合には、出力信号が、５０％に相当する圧力、或る特定
流量、または或る特定温度を有するように該出力信号を
定めることができる。本方法を特徴づけるパラメータ、
及びそれによって発生する種々の信号を測定するために
使用される種々の変換手段は種々の形状または形式をと
ることができる。

例えば、系の制御要素ま電気的アナログ、デジタルエレ
クトロニクス、空気力、油圧、機械的もしくはその類似
の各形式の装置またはそのような装置形式の１種または
それ以上の組合せを使用して遂行することができる。目
下における本発明の好ましい実施態様においては電気的
アナログ信号処理装置及びほん訳装置と空気制御要素と
の組合せを使用することが好ましいけれど、本発明の装
置及び方法は当業者に入手可能で、かつ理解されている
種々の特定の装置を使用して遂行することができる。同
様にして、信号形式を個々の設備、安全係数、測定装置
及び制御装魔の物理的特性ならびにその他の類似のファ
クターの必要条件に適合させるために、種々の信号の形
式を実質的に修正することができる。例えば、差圧オリ
フィス流量計により得られる生の流れの測定信号は通常
には、実際の流量の平方に対して一般的な比例関係を示
すであろう。その他の側庭装置は、測定されたパラメー
タに比例する信号を生じさせることができ、更にまたそ
の他の変換手段は測定されたパラメータに対し、より複
雑化された、しかし公知の関係を有する信号を生成する
ことがでる。そのほか、「ライブゼ。（ｌｉｖｅｚｅｒ
ｏ）を提供し、かつ装置が、誤って「低一もし〈は「高
一の測定、または制御信号として通訳されるのを防止す
るために、すべての信号を「抑制されたゼロ（ｓｕｐｐ
ｒｅｓｓｅｄｚｅｒｏ）」またはその他の類似の形式に
はん訳することができる。信号の形式または信号とパラ
メータとの正確な関係、または所望のプロセス値の代表
値に無関係に、特定信号値により特定測定値または特定
所望値を指示させる測定パラメータまたは所望値に対す
る関係を有する。したがって、プロセス測定値または所
望プロセスを表わす信号は、信号単位と測定プロセス単
位または所望プロセス単位との間の正確な数学的関係と
は無関係に、該信号から測定値または所望値に関する情
報を容易に回収し得る信号である。図面においてメチル
第三プチルェーテル反応器１１を説明する。

任意の所望の形式の反応器を使用することができるけれ
ど、目下のところは固定触媒床反応器が好ましい。反応
器１１においては任意の適当な触媒を使用することがで
きる。ロームァンドハース（Ｒｏｈｍａｎｄ舷ａｓ）社
から得ることのできるイオン交換樹脂であるアンバーリ
スト（Ａｍ皮ｒｌ＄ｔ）１５は好ましい触媒である。導
管１２及び１３の組合せを通してメタノールをミキサー
１４に供給する。導管１６及び１３の組合せを通してィ
ソプチレンをミキサー１４に供繋舎する。典型的には該
ィソブチレンは接触クラツキング菱瞳（ｃａ汎ｙｔｉｃ
ｃｒａｃｋｅｒ）からのＣ４の流れに供給する。該接触
クラツキング装置からのＣ４の流れは一般的にイソブチ
レン約１０％から約３０％までを含有する−。記反応物
を導管１３内で一緒にしてミキサー１４において混合す
る。このようにして混合された反応物を、導管１７を通
して反応器１ １に供弦貧する。反応生成物は導管２１
を通して反応器１１から取り出す。

該反応生成物の一部をポンプ手段２２から導管２４及び
２５の組合せを通して熱交換器２６に流す。導管２５を
通って流れる該反応生成物を、熱交換器２６から導管２
７を通してミキサー１４に供聯合する。導管２７を通っ
て流れる反応生成物を典型的には再循環の流れという。
再循環されない反応生成物の一部は生成物の流れとして
導管２８を通して取り出す。

該生成物の流れの一部は典型的にはメチル第三ブチルェ
ーテルである。加熱流体は導管３１及び３２の組合せを
通して熱交換器２６に供給する。

冷却流体は導管３４及び３２の組合せを通して熱交換器
２６に供給する。典型的には、反応器の始動中、該再循
環の流れに熱を供給しなければならない。反応が安定状
態に達した後は、典型的には、冷却流体により該再循環
の流れを冷却し、それにより反応器１１への所望の入口
温度を維持することが必要である。この点について記載
される方法はメチル第三ブチルェーテルの製造に対する
典型的な方法である。本発明の新規な特色を示すものは
、メチル第三プチルェーテルの製造方法を制御して、反
応器１１を越えての、所望の温度上昇を維持し、反応器
１１への所望の入口温度を維持し、かつ反応器１１へ流
入する反応物の所望の比率を維持する態様である。流れ
センサ４２と組合わされ、かつ導管１６中に作動可能に
設置される流れ変換器４１は導管１６を通って流れる供
給物の流量を表わす信号４３を設定する。

信号４３は流れ変換装置４１から、流れ制御装置４４、
比率変換器４６及び比率変換器４８に供給される。流れ
制御装置４４は設定値信号４９をも供給される。

この設定値信号は導管１６を通って流れる供給物の所望
の流量を示す。流れ制御装置４４は信号４３及び４９に
応じて、信号４３と４９との差に対して応答する出力信
号５１を設定する。信号５１は流れ制御装置４４から、
導管１６中に作動可能に配置される空気制御弁５３に供
給される。空気制御弁５３は信号５１に応じて操作され
、それにより、導管１６を通って流れる供給物の流量が
、設定値信号４９によって表わされる所望の流量に実質
的に等しく維持する。信号４３に応じて比率変換装置４
６が出力信号５４を設定する。

出力信号５４は、メタノール対イソブチレンの所望比を
維持するために必要な、導管１２を通って流れるメタノ
ールの流量を表わす。典型的には、メタノール対イソブ
チレンの所望比は約１：１から約１．２：１までの範囲
にわたる。信号５４は比率変換器４６から流れ制御装置
５５に供給される。流れセンサ５７と組合わされ、かつ
導管１２中に作動可能に設置される流れ変換器５６は、
導管１２を通って流れる供給物の流量を表わす出力信号
５８を設定する。

信号５８は第二の入力として流れ制御装置５５に供聯合
される。信号５４及び５８に応答して流れ制御装置５５
が、信号５４と５８との間の差に応ずる出力信号５９を
設定する。信号５９は流れ制御装置５５から、導管１２
中に作動可能に設置されている空気制御弁６１に供給さ
れる。空気制御弁６１は信号５９に応じて操作され、そ
れにより、導管１２を通って流れる供給物の流量を信号
５４により示される所望の流量に実質上等しく維持する
。この態様において反応器１１に流入するメタノール対
イソブチレンの比が所望の比に維持される。反応器１１
への入口温度は好ましくは約１３００Ｆの温度に保つ。

反応器１１を越えての温度上昇は好ましくは約２００Ｆ
に制限する。約１３００Ｆの入口温度により、出口温度
は約１５びＦとなる。この温度は典型的にはィソブチレ
ンの転イＧ率約９２重量％を与える。導管１３を通って
ミキサー１４へ流入する供給物の好ましい流量は約５供
聯合物客量ノ触媒容量／時間である。

典型的には、この好ましい流量において、導管２７を通
って流れる再循環の流れの流量は約１９事循環供給物容
量／触媒容量／時間、すなわち導管１３を通って流れる
供聯合物の１容量当り、再循環の流れ約３容量であるべ
きである。導管１６を通って流れる供給物の流れがィソ
プチレンを典型的に約１受容量％含有する場合に、反応
器を越えての温度上昇が、上記の希釈により典型的には
約２００Ｆに制限される。反応器を越えての温度上昇及
び反応器への入口温度を制御する態様は次のとおりであ
る。

信号４３に応じて比率変換器４８が出力信号６４を設定
する。該出力信号は、反応器１１に流入する反応物を、
反応物１１を越えての温度上昇を約２００Ｆに制限する
に十分な程度に希釈するのに要する、導管２５を通って
流れる再循環の流れの流量を示す。信号６４は比率変換
器４８から入力として流れ制御装置６５に供給される。
流れセンサ６７と組合わされ、かつ導管２５中に作動可
能に設置される流れ変換器６６は、導管２５を通って流
れる再循環の流れの流量を示す出力信号６９を設定する
。

信号６９は流れ変換器６６から、第二の入力として流れ
制御装置６５に供給される。信号６４及び６９に応じて
流れ制御装置６５は出力信号７１を設定する。出力信号
７１は信号６４と信号６９との差に応答するものである
。出力信号７１‘ま流れ制御装置６５から、導管２５に
作動可能に設置されている空気制御弁７２に供給される
。空気制御弁７２は信号７１に応じて操作され、それに
より、導管２５を通って流れる再循環の流れの流量を、
信号６４によって表わされる流量に実質上等しく保つ。
この態様において反応器ｌｉを越えての温度上昇が効果
的に制御される。導管１７に作動可能に設置される熱電
対のような温度感知装置と組合わされている温度変換器
７５が反応器１１の入口温度を示す出力信号７６を設定
する。

信号７６は第一入力として温度制御装置７８に供給され
る。温度制御装置７８‘ま、反応器１１の所望の入口温
度を示す、設定値信号７９をも供給される。信号７９は
、好ましくは約１３００Ｆ‘こ設定する。信号７６及び
７９に応じて、温度制御装置７８が、信号７６と７９と
の間の差に応答する出力信号８１を設定する。

信号８１は温度制御装置７８から、圧力（１／Ｐ）変換
器８２への流れに供艶貧され、また１／Ｐ変換器８４に
も供Ｖ給される。信号８１は１／Ｐ変換器８２により電
気形態から空気形態に変換され、信号８５として、空気
制御弁８６に供給される。空気制御弁８６は導管３１に
作動可能に設置されている。空気制御弁８６は信号８５
に応じて操作され、それにより、導管３１を通って流れ
る加熱流体の所望の流量を維持する。同様にして１／Ｐ
変換器８４により信号８１が電気形態から空気形態に変
換され、かつ信号８７として空気制御弁８９に供尊台さ
れる。空気制御弁８９は導管３４に作動可能に設置され
ている。空気制御弁８９は信号８７に応じて操作され、
それにより、導管３４を通って流れる冷却流体の所望の
流量を維持する。典型的には導管３１を通って流れる加
熱流体と導管３４を適って流れる冷却流体とは混合しな
い。

すなわち、任意の一時において、空気制御弁８６及び８
９のうちの一方のみが開くことを保証するため、分割範
囲制御（ｓｐｌｉｔｒａｎｇｅｃｏｎｔｒｏｌ）を採用
する。好ましくは空気制御弁８６は信号８５が３ポンド
の値を有する場合に十分に開き、信号８５が９ポンドま
たはそれ以上を有する場合に十分に閉じる。空気制御弁
８９は信号８７が９ポンドまたはそれ以下の値を有する
場合に十分に閉じ、信号８７が１５ポンドの値を有する
場合に十分に開く。もし反応器の入口温度が設定値にあ
るならば信号８１‘ま一定値のままでいるであろう。も
し反応器の入口温度が設定値から動け！ま信号８１の値
は変化し、熱交換器２６へ供給される加熱流体または冷
却流体のいずれかの流量を変化させてト反応器への入口
温度を信号７９によって示される設定値に実質的に等し
く維持するであろう。このようにして反応器の入口温度
の効果的な温度制御が遂行される。メチル第三プチルェ
ーテルの生成は、約１００ｐｓｉから約２０のｓｉまで
の範囲の圧力において行うことが好ましい。

該反応に対する所望の反応圧力は、導管２８を通って流
れる生成物の流れの流量に対する圧力制御により維持す
る。圧力感知装置と組合わされ、かつ導管２８に作動可
能に設置されている圧力変換器９３は導管２８を通って
流れる生成物の流れの圧力を、したがってメチル第三ブ
チルヱーテル操作に対する系の圧力を示す出力信号９４
を設定する。信号９４は圧力変換器９３から１／Ｐ変換
器９５に供Ｖ給される。信号９４は電気形態から空気形
態に変換され、信号９６として圧力制御装置９８に供鞠
貧される。圧力制御装置９８は、メチル第三ブチルェー
テル操作に対する設定値信号９９をも供Ｖ給される。信
号９９は典型的には、さきに示したように約１０岬ｓｉ
から約２０政ｓｉまでの範囲の値を有する。信号９６及
び９９に応じて圧力制御装置９８が信号９６と信号９９
との間の差に応答する信号１０１を設定する。信号１０
１は導管２８に作動可能に設置される空気制御弁１０２
に入力として供給される。空気制御弁１０２は信号１０
１に応じて操作され、メチル第三ブチルェーテル操作に
対する所望の系操作圧力を維持する。本発明を、目下に
おける好ましい実施態様の面から図面について説明した
。

図面に説明されているような、本発明の実施に使用する
ことのできる特定成分、例えば流れ感知器５７，４２及
び６７；流れ変換器５６，４１及び６６：流れ制御装置
５５，４４及び６５：比率変換器４６及び４８：空気制
御弁６１，５３，８６，８９，７２及び１０２：温度変
換器７５；温度制御装置７８；圧力変換器９３、圧力制
御装置９８：ならびに１／Ｐ変換器８２，８４及び９５
は、それぞれ周知であり、上記のような市販されている
制御構成要素がマグローヒル社刊、ベリーズ ケミカル
エンジニアズ ハンドブツク（Ｐｅｎｙ′ｓＣｈｅｍ
ｉｃａｌＥｎｇｉ肥ｅｒｓＨａｎｄｂｏｏｋ）第４版第
２２章に記載されている。追加のポンプ、追加の熱交換
器、追加の測定兼制御装置などのような慣用の補助装置
は本発明の説明に重要ではないので、記載を簡単にする
ため上記の記載に包含させなかった。

本発明を、目下において好ましい実施態様について説明
したけれど、適度な変更及び改良は当業者に可能であり
、ここに記載される発明及び特許請求の範囲の範囲内に
ある。

メチル第三ブチルェーテル操作以外の化学操作に対して
本制御系を使用すること、１個以上の反応器を使用する
こと、または別個の熱交換器に加熱流体及び冷却流体を
供給することのような変更は本発明の範囲内にある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の反応器を説明する線図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 反応帯域において発熱的に反応する少くとも２つの
   反応体を含有する供給物の流れが流入する該反応帯域中
   で生起する温度上昇を制御するため、反応帯域から流出
   する生成物の流れの一部を再循環流として、前記反応帯
   域に流入する供給物の流れと混合することからなる該反
   応帯域中の温度差の制御方法において、 前記再循環流
   が前記供給物の流れと混合される前の該供給物の流れの
   流量を示す第１の信号を設定する工程； 前記反応帯域
   中に所望の温度差を実質的に保持するのに必要とする供
   給物の流れの流量に対する再循環流の流量の比を決定す
   る工程； 前記の比に基づき前記第１の信号に応答する
   第２の信号を設定する工程； 前記再循環流の実際の流
   量を示す第３の信号を設定する工程： 前記の第２の信
   号と第３の信号とを比較して、その第２の信号と第３の
   信号との間の差に応答する第４の信号を設定する工程；
   および 前記第４の信号に応じて前記再循環流の流量を
   操作し、前記循環流の流量対前記供給物の流れの流量の
   比が反応帯域中に所望の温度差を与える値となるように
   する工程；からなることを特徴とする反応帯域中の温度
   差の制御方法。 ２ 更に、 反応帯域の実際の入口温度を示す第５の信号を設定す
   る工程と： 前記反応帯域の所望の入口温度を示す第６
   の信号を設定する工程と： 前記第５の信号と前記第６
   の信号とを比較し、前記第５の信号と前記第６の信号と
   の間の差に応答する第７の信号を設定する工程と： 再
   循環の流れの温度を前記第７の信号に応じて操作し、そ
   れにより前記反応帯域に対する所望の供給物入口温度を
   維持する工程と、を包含する特許請求の範囲第１項記載
   の方法。 ３ 供給物の流れが少くとも、第一の反応物を含有する
   第一の供給物の流れと、第二の反応物を含有する第二の
   供給物の流れとより形成される特許請求の範囲第１項ま
   たは第２項記載の方法。 ４ 反応器１１； 第一の反応物を含有する第一の供給物の流れを前記反
   応器１１の供給物入口に供給するための手段１６； 前
   記反応器１１から反応生成物を取り出すための手段２１
   ： 前記反応生成物の一部を再循環の流れとして、前記
   反応器１１の供給物入口へ通すための手段２４，２５，
   ２７，１４，１７； 前記第一の供給物の流れの流量を
   示す第１の信号４３を設定するための手段４１； 前記
   反応器１１における所望の温度差を実質的に維持するた
   めに必要な、再循環の流れの流量を示す第２の信号６４
   を設定するための、しかも前記第１の信号４３に応答す
   る手段４８； 前記再循環の流れの実際の流量を示す第
   ３の信号６９を設定するための手段６６；前記第２の信
   号６４と前記第３の信号６９とを比較し、かつ前記第２
   の信号６４と前記第３の信号６９との間の差に応答する
   第４の信号７１を設定するための手段６５；及び 前記
   第４の信号７１に応じて、前記再循環の流れの流量を操
   作し、それにより前記反応器１１における所望の温度差
   を維持するための手段７２、を包含することを特徴とす
   る装置。 ５ 前記第２の信号を設定するための前記手段４８が比
   率変換器より成る特許請求の範囲第４項記載の装置。 ６ 更に、 前記反応器１１の実際の供給物入口温度を示す第５の
   信号７６を設定するための手段７５と； 前記反応器１
   １の所望の供給物入口温度を示す第６の信号７９を設定
   するための手段と； 前記第５の信号７６と前記第６の
   信号７９とを比較し、かつ前記第５の信号７６と前記第
   ６の信号７９との間の差に応答する第７の信号８１を設
   定するための手段７８と； 前記第７の信号８１に応じ
   て前記再循環の流れの温度を操作し、それにより前記反
   応器１１に対する所望の供給物入口温度を維持するため
   の手段２６，３１，３２，３４，８２，８４〜８７，８
   ９を包含する特許請求の範囲第４項または第５項記載の
   装置。 ７ 更に、 第二の反応物を含有する第二の供給物の流れを前記反
   応器１１の供給物入口に供給するための手段１２と；
   前記第一の供給物の流れ１６の所望流量を示す第８の信
   号４９を設定するための手段と； 前記第１の信号４３
   と前記第８の信号４９とを比較し、かつ前記第１の信号
   ４３と前記第８の信号４９との間の差に応答する第９の
   信号５１を設定するための手段４４と； 前記第９の信
   号５１に応じて前記第一の供給物の流れ１６の流量を操
   作し、それにより前記第一の供給物の流れ１６の流量を
   前記第８の信号４９により示される所望の流量に実質上
   等しく維持するための手段５３と： 前記第１の信号４
   ３に応じて、前記第二の反応物対前記第一の反応物の所
   望の比を維持するのに必要な前記第二の供給物の流れの
   流量を示す第１０の信号５４を設定するための手段４６
   と； 前記第二の供給物の流れ１２の実際の流量を示す
   第１１の信号５８を設定するための手段５６と； 前記
   第１０の信号５４と前記第１１の信号５８とを比較し、
   かつ前記第１０の信号５４と前記第１１の信号５８との
   間の差に応答する第１２の信号５９を設定するための手
   段５５と； 前記第１２の信号５９に応じて前記第二の
   供給物の流れ１２の流量を操作し、それにより前記反応
   器１１における前記第二の反応物対前記第一の反応物と
   の所望の比を維持するための手段６１とを包含する特許
   請求の範囲第４，５、または６項記載の装置。