JPS60122026A - 気体分離用複合成形体 - Google Patents
気体分離用複合成形体Info
- Publication number
- JPS60122026A JPS60122026A JP58227996A JP22799683A JPS60122026A JP S60122026 A JPS60122026 A JP S60122026A JP 58227996 A JP58227996 A JP 58227996A JP 22799683 A JP22799683 A JP 22799683A JP S60122026 A JPS60122026 A JP S60122026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- carbon atoms
- gas
- group
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/44—Polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, not provided for in a single one of groups B01D71/26-B01D71/42
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は良好な気体透過性を有すると共に気体の選択的
分離機能（１丁ぐれた気体分離用複合成形体に関し、特
（：は空気から酸素富化空気を得るのに好適とされる気
体分離用複合成形体の提供を目的と下る。
分離機能（１丁ぐれた気体分離用複合成形体に関し、特
（：は空気から酸素富化空気を得るのに好適とされる気
体分離用複合成形体の提供を目的と下る。
最近、限外ｆ過膜、逆浸透膜、ガス透過膜等の高分子膜
を利用する分離技術の進歩発展Ｃ：は著しいものがあり
、そのいくつかは工業的規模で実用化されている。しか
しながら、ガス分離膜Ｃ二ついては、現状その性能（＝
おいて下記の如き問題点があり、その性能向上が望まれ
ている。
を利用する分離技術の進歩発展Ｃ：は著しいものがあり
、そのいくつかは工業的規模で実用化されている。しか
しながら、ガス分離膜Ｃ二ついては、現状その性能（＝
おいて下記の如き問題点があり、その性能向上が望まれ
ている。
ｉ、ｓ択透過性が小さいこと。丁なわち特定の気ノ’＊
：：Ａ−，’＠ｊ１．ｌ＾ｆ；＋ｒ−：Ｍ＋ｒｋ／１）
イｑｌｌｋｆｙｌ：）ｂｌ、Ｖ：Ｍ４ｆｒいという膜が
ないため、高純度の気体を得るには膜分離を何度かくり
返丁多段方式を採用する必要があり、そのため装置が大
きくなり丁ぎること。
：：Ａ−，’＠ｊ１．ｌ＾ｆ；＋ｒ−：Ｍ＋ｒｋ／１）
イｑｌｌｋｆｙｌ：）ｂｌ、Ｖ：Ｍ４ｆｒいという膜が
ないため、高純度の気体を得るには膜分離を何度かくり
返丁多段方式を採用する必要があり、そのため装置が大
きくなり丁ぎること。
２、透過流量が小さいため、多ｔ！７）ガスを生産でき
ないこと。
ないこと。
しかして、ガス分離膜ｆ二関する技術的棟題は、膜の分
離能力を低下させずに、如何にしてその単位面積当りの
透過流量を増大させるかということであるが、透過流量
を増大させるｌりま膜の厚さを減する必要がある。しか
し、薄膜化Ｔるとピンホール、クラックの発生あるいは
厚みむら等が起り易く、均一なガス透過性を有する薄膜
の製造が困難であるばかりでなく、ガス分離性も徐々（
二低下下るという問題があり、分離膜の薄膜化のみでは
分離係数２．５以上といつ丁ぐれた分離能を達成するこ
とはできない。
離能力を低下させずに、如何にしてその単位面積当りの
透過流量を増大させるかということであるが、透過流量
を増大させるｌりま膜の厚さを減する必要がある。しか
し、薄膜化Ｔるとピンホール、クラックの発生あるいは
厚みむら等が起り易く、均一なガス透過性を有する薄膜
の製造が困難であるばかりでなく、ガス分離性も徐々（
二低下下るという問題があり、分離膜の薄膜化のみでは
分離係数２．５以上といつ丁ぐれた分離能を達成するこ
とはできない。
なお、選択透過性の点からみると最終用途として必ずし
も高純度のガスを必要としない分野も多々あり、例えば
酸素の場合高炉送風用、燃焼補助用、廃液処理曝気用、
医療における呼気用等としてはいわゆる酸素富化〃気で
あればその目的が達成される。
も高純度のガスを必要としない分野も多々あり、例えば
酸素の場合高炉送風用、燃焼補助用、廃液処理曝気用、
医療における呼気用等としてはいわゆる酸素富化〃気で
あればその目的が達成される。
酸素富化空気を得る従来の方法としては空気分離装置（
空気液化法ンで高純度酸素を製造し、これを空気と混合
下ることで目的とする酸素濃度の高い酸素富化空気を得
ていたが、この場合高純度酸素は圧力容器！”−人って
いるため、取扱い上の危険性、混合ガス濃度を一定とす
るための操作の煩雑性等の問題があり、有利な方法では
ない。
空気液化法ンで高純度酸素を製造し、これを空気と混合
下ることで目的とする酸素濃度の高い酸素富化空気を得
ていたが、この場合高純度酸素は圧力容器！”−人って
いるため、取扱い上の危険性、混合ガス濃度を一定とす
るための操作の煩雑性等の問題があり、有利な方法では
ない。
は
本発明者ら、これらの問題点を解決するため（＝研究を
直ね、一般式 ％式％ （式中、Ｒ１は炭素数１〜８の一価炭化水素基、Ｒおよ
びＲは炭素数１〜８の一価炭化水素基２よび炭素数１〜
８のアルコキシ基から選ばれる同種または異種の基、Ｒ
は炭素数１〜８の一価炭化水素基、炭素数１〜８のアル
コキシ基、およびトリオルガノシリルアルキレン基から
選ばれる基ンで示される打機不飽和化合物の重合体で作
ったフィルムが酸素透過性？１丁ぐれていることを見出
した。しかし、このものは酸素と窒素との分離係数の点
で必ずしも丁ぐれたものではなく、またシリコーンゴム
などに比べて機械的強度Ｃ１丁ぐれたフィルムとするこ
とがで与るけれども、酸素透過ら￥をさらこ増丁ために
薄膜化するとミクロなピンホールが生じてしまうことが
わかった。
直ね、一般式 ％式％ （式中、Ｒ１は炭素数１〜８の一価炭化水素基、Ｒおよ
びＲは炭素数１〜８の一価炭化水素基２よび炭素数１〜
８のアルコキシ基から選ばれる同種または異種の基、Ｒ
は炭素数１〜８の一価炭化水素基、炭素数１〜８のアル
コキシ基、およびトリオルガノシリルアルキレン基から
選ばれる基ンで示される打機不飽和化合物の重合体で作
ったフィルムが酸素透過性？１丁ぐれていることを見出
した。しかし、このものは酸素と窒素との分離係数の点
で必ずしも丁ぐれたものではなく、またシリコーンゴム
などに比べて機械的強度Ｃ１丁ぐれたフィルムとするこ
とがで与るけれども、酸素透過ら￥をさらこ増丁ために
薄膜化するとミクロなピンホールが生じてしまうことが
わかった。
丁なわち、上記有機不飽和化合物の重合体のフィルムは
、酸素透過性Ｃｃｔ （ＳＴＰ ） ｃｍ／ ｃ！ °
ｓ ｅ ｃ −ｃｒｎＨｇ）が１．０−７オーダーであ
り、通常のシリコーンゴムの該酸素透過性か１０ オー
ターであるのＣ１比べて丁ぐれた酸素透過性を示すが、
酸素と窒素の分離係数が約１．５〜１．７であり、通常
のシリコーンのそれが約２．０であるのＣ１比べて劣る
。
、酸素透過性Ｃｃｔ （ＳＴＰ ） ｃｍ／ ｃ！ °
ｓ ｅ ｃ −ｃｒｎＨｇ）が１．０−７オーダーであ
り、通常のシリコーンゴムの該酸素透過性か１０ オー
ターであるのＣ１比べて丁ぐれた酸素透過性を示すが、
酸素と窒素の分離係数が約１．５〜１．７であり、通常
のシリコーンのそれが約２．０であるのＣ１比べて劣る
。
他方前記重合体のフィルムは機械的強度がシリコーンゴ
ムＣ二比べて著しく丁ぐれているため、薄膜化が可能で
あり、素材としての特性に加えて薄膜化による酸素透過
量の向上が見込める。しかしながら、フィルムが薄くな
るにつれてミクロなピンホール等が生じてしまうため、
このような無理な薄膜化を行うと酸素と窒素の分離係数
はさらに低下下るという問題がある。
ムＣ二比べて著しく丁ぐれているため、薄膜化が可能で
あり、素材としての特性に加えて薄膜化による酸素透過
量の向上が見込める。しかしながら、フィルムが薄くな
るにつれてミクロなピンホール等が生じてしまうため、
このような無理な薄膜化を行うと酸素と窒素の分離係数
はさらに低下下るという問題がある。
本発明者らは、前記重合体のフィルムの丁ぐれた酸素透
過性に着目し、この酸素透過性を維持したまま分離係数
を向上せしめる方法について鋭意検討した結果、この有
機不飽和化合物の重合体成形物（例えばフィルム）表面
に有機化合物ガスの低温プラズマ重合膜を形成下ること
ｆ二より、単位面積当りの酸素透過量が充分に高く、酸
素と窒素との分離係数が格段Ｃ１大きい、気体分離用複
合成形体が得られること、特に上記低温プラズマ重合膜
は該重合体成形物表面に極薄膜状で形成されているので
、取扱い上損傷されることなく成形体は容易に７Ｊｌ］
工できることを確認し本発明を完成した。
過性に着目し、この酸素透過性を維持したまま分離係数
を向上せしめる方法について鋭意検討した結果、この有
機不飽和化合物の重合体成形物（例えばフィルム）表面
に有機化合物ガスの低温プラズマ重合膜を形成下ること
ｆ二より、単位面積当りの酸素透過量が充分に高く、酸
素と窒素との分離係数が格段Ｃ１大きい、気体分離用複
合成形体が得られること、特に上記低温プラズマ重合膜
は該重合体成形物表面に極薄膜状で形成されているので
、取扱い上損傷されることなく成形体は容易に７Ｊｌ］
工できることを確認し本発明を完成した。
以下不発明の詳細な説明下る。
本発明における前記一般式（１）の有機不飽和化香物は
、その式中のＲ１がメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、フェニル基などで例示される炭素数１〜８の
一価炭化水素基、ＲおよびＲがＲ１で例示した炭素数１
〜８の一価炭化水素基、あるいはメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などで例示される炭素数
１〜８のアルコキシ基から選ばれる同種または異種の基
、ＲがＲ，ＲおよびＲで例示した炭素数１〜８の一価炭
化水素７＆、炭素数１〜８のアルコキシ基およびトリメ
チルシリルメチレン基、トリエチルンリル）ｆレン基、
ジメチルフェニルシリルメチレン基、トリメチルシリル
エチレン基などで例示されるトリオルガノシリルアルキ
レン基から選ばれる基である化合物である。
、その式中のＲ１がメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、フェニル基などで例示される炭素数１〜８の
一価炭化水素基、ＲおよびＲがＲ１で例示した炭素数１
〜８の一価炭化水素基、あるいはメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などで例示される炭素数
１〜８のアルコキシ基から選ばれる同種または異種の基
、ＲがＲ，ＲおよびＲで例示した炭素数１〜８の一価炭
化水素７＆、炭素数１〜８のアルコキシ基およびトリメ
チルシリルメチレン基、トリエチルンリル）ｆレン基、
ジメチルフェニルシリルメチレン基、トリメチルシリル
エチレン基などで例示されるトリオルガノシリルアルキ
レン基から選ばれる基である化合物である。
このような有機不飽和化合物の望ましいもの全例示すれ
ば仄のと１ｄりである。
ば仄のと１ｄりである。
Ｍｅ
青。
ｇｔ−○ミＯ−８ｉ０−８ｉ（、Ｂｕ−０＝Ｏ−３ｉ（
Ｍｅｔ３、Ｍｅ−Ｃ”Ｏ−８ｉ０−８ｉ（、Ｍｅ−０，
ＥＯ−８ｉ（ＯＢｕ）３４ｃどが例ボされる。上記式に
だいてＭｅ はメチル基、Ｅｔ はエチル基、Ｂｕはブ
チル基！それぞれ示す（以下同様］。
Ｍｅｔ３、Ｍｅ−Ｃ”Ｏ−８ｉ０−８ｉ（、Ｍｅ−０，
ＥＯ−８ｉ（ＯＢｕ）３４ｃどが例ボされる。上記式に
だいてＭｅ はメチル基、Ｅｔ はエチル基、Ｂｕはブ
チル基！それぞれ示す（以下同様］。
上記有機不飽和化合物の重合体は下記の如くして得られ
る。丁なわち、重合は公知の方法、たとえばＰｏｌｙｍ
ｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ ：（１ｔ６１１１８９（１
９８２）、およびＰｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ
３２１ｚ＋ １８Ｈ１９８３７などＣ二記載されてい
るようｌ二、該有機不飽和化合物を、トルエン、シクロ
ヘキサンなどの有機溶媒中で、ＷＣｌ２、Ｎｂ０１．、
Ｔａ１１１１などノ重合触媒の存在下（一温度３０〜１
３０℃で重合反応させることｌ二より行われ、生成した
取合体はメタノール中で沈でんさせ、精製し、回収する
ことにより得られる。
る。丁なわち、重合は公知の方法、たとえばＰｏｌｙｍ
ｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ ：（１ｔ６１１１８９（１
９８２）、およびＰｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ
３２１ｚ＋ １８Ｈ１９８３７などＣ二記載されてい
るようｌ二、該有機不飽和化合物を、トルエン、シクロ
ヘキサンなどの有機溶媒中で、ＷＣｌ２、Ｎｂ０１．、
Ｔａ１１１１などノ重合触媒の存在下（一温度３０〜１
３０℃で重合反応させることｌ二より行われ、生成した
取合体はメタノール中で沈でんさせ、精製し、回収する
ことにより得られる。
爪台および精製方法は、上記した方法に限定されること
なく、目的とする重合体が得られる方法であればどんな
方法でもよいが、平均重合度１０００以ｔの重合体であ
るごとが好ましい。暇合度の低いものであると、成形品
（たとえばフィルム）の機械的強度が不十分であり、本
発明の目的ζ二使用するためＣ二は不利である。
なく、目的とする重合体が得られる方法であればどんな
方法でもよいが、平均重合度１０００以ｔの重合体であ
るごとが好ましい。暇合度の低いものであると、成形品
（たとえばフィルム）の機械的強度が不十分であり、本
発明の目的ζ二使用するためＣ二は不利である。
このようＣ二して得られる重合体は、トルエン、シクロ
ヘキサンなど適当な溶媒に溶解し、適当な形ｆニキャス
ティングすることによって種々の厚みを呵するフィルム
を形成下ることができる。もちろん、薄膜化による操作
上の問題をカバーするため、不織布、基布、多孔質膜あ
るいは他の薄膜フルム上に上記重合体フィルムを形成せ
しめてもよい。
ヘキサンなど適当な溶媒に溶解し、適当な形ｆニキャス
ティングすることによって種々の厚みを呵するフィルム
を形成下ることができる。もちろん、薄膜化による操作
上の問題をカバーするため、不織布、基布、多孔質膜あ
るいは他の薄膜フルム上に上記重合体フィルムを形成せ
しめてもよい。
上記多孔質膜としては、たとえば多孔質ポリプロピレン
、多孔質ポリエチレンフィルム、多孔質ポリナルホンフ
ィルム、多孔質酢酸セルロースフィルム、多孔質膜ふっ
化エチレンフィルム、多孔質ポリイミドフィルム等が例
示される。
、多孔質ポリエチレンフィルム、多孔質ポリナルホンフ
ィルム、多孔質酢酸セルロースフィルム、多孔質膜ふっ
化エチレンフィルム、多孔質ポリイミドフィルム等が例
示される。
上記重合体成形物（複合成形品を含む）たとえばフィル
ム上に低温プラズマ重合膜を形成する方法としては、低
温プラズマ発生装置内に重合体成形品を装入し、この装
置内に有機化合物のガスを流通させながら、装置内を１
０トル以下の圧力ｆ二調整保持し、このガス圧力下Ｃ二
低温プラズマを発生させ、該成形品を低温プラズマζ二
さら丁方法ｆ二よればよい。なり、有機化合物と共に、
ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス、窒素、酸素、空気
、水素、水蒸気、二酸化炭素、−酸化炭素等の無機ガス
を共存させてもよい。
ム上に低温プラズマ重合膜を形成する方法としては、低
温プラズマ発生装置内に重合体成形品を装入し、この装
置内に有機化合物のガスを流通させながら、装置内を１
０トル以下の圧力ｆ二調整保持し、このガス圧力下Ｃ二
低温プラズマを発生させ、該成形品を低温プラズマζ二
さら丁方法ｆ二よればよい。なり、有機化合物と共に、
ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス、窒素、酸素、空気
、水素、水蒸気、二酸化炭素、−酸化炭素等の無機ガス
を共存させてもよい。
上記方法Ｃ二おいて、有機化合物ガスの装置内Ｃ二おけ
る圧力カ高丁ざると成形体表面へのプラズマ庚合膜の形
成が困難となるので、この低温プラズマのガス圧力゛は
１０トル以下であることが好ましく、特には０．００５
〜５トルの範囲であることが好ましい。このガス圧力ｆ
：おける低温プラズマにより、丁ぐれたガス分離特性を
有するプラズマ重合膜が形成される。
る圧力カ高丁ざると成形体表面へのプラズマ庚合膜の形
成が困難となるので、この低温プラズマのガス圧力゛は
１０トル以下であることが好ましく、特には０．００５
〜５トルの範囲であることが好ましい。このガス圧力ｆ
：おける低温プラズマにより、丁ぐれたガス分離特性を
有するプラズマ重合膜が形成される。
なお、低温プラズマを発生させる電気的条件としては、
たとえば′電極（二１０ＫＨｚ 〜１．ＯＯＭＨｚ。
たとえば′電極（二１０ＫＨｚ 〜１．ＯＯＭＨｚ。
１０Ｗ〜１．００ ｈｗの電力を印加すればよく、内部
′電極、外部電極（１１１４’准極）のいずれの方式を
使用してもよい。
′電極、外部電極（１１１４’准極）のいずれの方式を
使用してもよい。
本発明の方法Ｃ′−おいて、前記東合体成形品を上記し
た諸条件のもとに発生させた低温プラズマにさらし、そ
の表面に有機化合物のプラズマ重合膜を形成せしめるの
であるが、膜厚としては（１，００５〜１μ、好ましく
は０．０２〜０．２μとすることがよい。膜厚が薄丁ぎ
る場合は、当発明の目的とする分離係数の向上は不十分
となり、また膜ｊ９が厚くなり丁ぎた場合には、分）岨
係数は向上するもののガスの透過性は悪くなり、当発明
の利点は失われる。
た諸条件のもとに発生させた低温プラズマにさらし、そ
の表面に有機化合物のプラズマ重合膜を形成せしめるの
であるが、膜厚としては（１，００５〜１μ、好ましく
は０．０２〜０．２μとすることがよい。膜厚が薄丁ぎ
る場合は、当発明の目的とする分離係数の向上は不十分
となり、また膜ｊ９が厚くなり丁ぎた場合には、分）岨
係数は向上するもののガスの透過性は悪くなり、当発明
の利点は失われる。
上記膜厚を形成せしめる処理時間としては、印加電力に
よっても相違するが、一般Ｃユは数秒〜数分程度で十分
である。
よっても相違するが、一般Ｃユは数秒〜数分程度で十分
である。
本発明におけるプラズマ処理（＝おいて、装置内に供給
される有機化合物としては、有機けい素化合物、■機ふ
っ素化合物、炭化水素化合物、その他の有機化合物が包
含され、具体的例示をあげれば次のとおりである。
される有機化合物としては、有機けい素化合物、■機ふ
っ素化合物、炭化水素化合物、その他の有機化合物が包
含され、具体的例示をあげれば次のとおりである。
五機けい素化合物
トリメチルクロロシラン、トリエチルメトキシシラン、
トリメチルエトキシシラン、ビニルジメチルクロロシラ
ン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルメ
トキシシラン、エチニルジメチルメトキシシラン、エチ
ニルジメチルクロロシラン、メチルグロロメチルメトキ
シグロロシラン、トリエチルメトキシシラン、ジメチル
クロロメチルエトキシシラン、ジメチルグロ口メチルグ
ロ口νラン、ジメチルフェニルメトキシ７ラン、２−ク
ロロエチニルジメチルクロロシラン、２−クロロエチル
ジメチルメトキシシラン、ジメチルジクロロシクン、ジ
メチルジメトキシシクン、ジエチルジメトキシンラン、
ジメチルジエトキンンクン、ビニルメチルジグロロゾラ
ン、ビニルメチルジメトキシシラン、２−グロロエチル
メチルジメトギｉ／シラン、ビニルメチルジメトキシシ
ラン、クロロメチルメチルジクロロンラン、ジメトキシ
メチルフェニルシラン、グロロメチルメチルジメトキシ
ゾクン、メチルトリメトキシンラン、メチルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメチルシラン、フエニノνトリメ
トキシシラン、り０Ｃ）Ｉｆルトリメトギシシラン、２
−クロロエチルトリメトキシシラン、トリフロロプロピ
ルトリクロロシラン、テトラビニルシラン−トリビニル
メチルシラン、ジビニルジメチルシクン、ビニルトリメ
チルシラン、ジビニルテトラメチルジシロキチン、ジグ
ロロメチルテトラメチルジシロキサン、ジェチニルテト
ラメチルジシロキサン、テトラメチルジシロギサン、ヘ
キサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、オ
クタメチルゾクロテトラシＵキチン、ヘキヅ゛メチルシ
ルフエニンンなど。
トリメチルエトキシシラン、ビニルジメチルクロロシラ
ン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルメ
トキシシラン、エチニルジメチルメトキシシラン、エチ
ニルジメチルクロロシラン、メチルグロロメチルメトキ
シグロロシラン、トリエチルメトキシシラン、ジメチル
クロロメチルエトキシシラン、ジメチルグロ口メチルグ
ロ口νラン、ジメチルフェニルメトキシ７ラン、２−ク
ロロエチニルジメチルクロロシラン、２−クロロエチル
ジメチルメトキシシラン、ジメチルジクロロシクン、ジ
メチルジメトキシシクン、ジエチルジメトキシンラン、
ジメチルジエトキンンクン、ビニルメチルジグロロゾラ
ン、ビニルメチルジメトキシシラン、２−グロロエチル
メチルジメトギｉ／シラン、ビニルメチルジメトキシシ
ラン、クロロメチルメチルジクロロンラン、ジメトキシ
メチルフェニルシラン、グロロメチルメチルジメトキシ
ゾクン、メチルトリメトキシンラン、メチルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメチルシラン、フエニノνトリメ
トキシシラン、り０Ｃ）Ｉｆルトリメトギシシラン、２
−クロロエチルトリメトキシシラン、トリフロロプロピ
ルトリクロロシラン、テトラビニルシラン−トリビニル
メチルシラン、ジビニルジメチルシクン、ビニルトリメ
チルシラン、ジビニルテトラメチルジシロキチン、ジグ
ロロメチルテトラメチルジシロキサン、ジェチニルテト
ラメチルジシロキサン、テトラメチルジシロギサン、ヘ
キサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、オ
クタメチルゾクロテトラシＵキチン、ヘキヅ゛メチルシ
ルフエニンンなど。
モノクロロトリフルオロメタン、ジグロロジフルオロメ
タン、モノクロロジフルオロメタン、トリクロロトリフ
ルオロエタン、ジグロロテトラフルオロエタン、モノク
ロロペンタフルオロエタン、テトラフルオロエチレン、
ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロプロパン、テ
トラフルオロメタン、１．１−ジフルオロエチレン、ト
リフルオロメタン、フルオロメタン、オクタフルオロジ
グロブタン、ジフルオロエタン、クロロジフルオロエタ
ン、ヘキサフルオロエタン、クロロペンタフルオロエタ
ン、ジブロモテトラフルオロエタンなど。
タン、モノクロロジフルオロメタン、トリクロロトリフ
ルオロエタン、ジグロロテトラフルオロエタン、モノク
ロロペンタフルオロエタン、テトラフルオロエチレン、
ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロプロパン、テ
トラフルオロメタン、１．１−ジフルオロエチレン、ト
リフルオロメタン、フルオロメタン、オクタフルオロジ
グロブタン、ジフルオロエタン、クロロジフルオロエタ
ン、ヘキサフルオロエタン、クロロペンタフルオロエタ
ン、ジブロモテトラフルオロエタンなど。
メタン、エタン、プロパン、ペンタン、ヘキサン、エチ
レン、プロピレン、ブテン、ヘプテン、ブダジエン、プ
ロパジエン、ヘキサトリエン、メチルプロペン、ジメチ
ルへキサジエン、シクロヘキサン、シクロペンテン、シ
クロヘキサン、シクロへキサジエン、ベンゼン、トルエ
ン、キヅレン、ナフタレン、スチレン、メチルスチレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキチメチルベンゼン、ジビ
ニルベンゼン、アリルベンゼン、ビニルナフタレンなど
。
レン、プロピレン、ブテン、ヘプテン、ブダジエン、プ
ロパジエン、ヘキサトリエン、メチルプロペン、ジメチ
ルへキサジエン、シクロヘキサン、シクロペンテン、シ
クロヘキサン、シクロへキサジエン、ベンゼン、トルエ
ン、キヅレン、ナフタレン、スチレン、メチルスチレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキチメチルベンゼン、ジビ
ニルベンゼン、アリルベンゼン、ビニルナフタレンなど
。
ブダノール、メチルアミン、ヘプタノン、クロロメチル
プロパン、バレロニトリル、グロロアセトニトリル、メ
タグリル酸、メタクリル酸メチル、アクリル酸、マレイ
ン酸、アリルアミン、アリルメチルアミン、アグリロニ
トリル、テトラシアノエチレン、ブテンニトリル、メタ
クリロニトリル、ビニレンカーボネート、アクロレイン
、アリルブロマイド、クロロプロペン、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、アリルてルコール、クロロベンゼン、ト
リクロロベンゼン、ベンゾニトリル、トルイジン、ニト
ロトルエン、Ｎ、Ｎ−ジメチルトルイジン、Ｎ−ニトロ
ソジエチルアミン、アニリン−，１ｆ）Ｌ／アニリン、
フタル酸、フェノール、ベンズアルデヒド、シクロヘキ
セノール、ピリジン、ビニルピリジン、ビニルメチルビ
リジン、ピコリン、フェロセン、ビニルフェロセン、チ
オフェン、ジヒドロフラン、Ｎ−ニトロンピペリジンナ
ト。
プロパン、バレロニトリル、グロロアセトニトリル、メ
タグリル酸、メタクリル酸メチル、アクリル酸、マレイ
ン酸、アリルアミン、アリルメチルアミン、アグリロニ
トリル、テトラシアノエチレン、ブテンニトリル、メタ
クリロニトリル、ビニレンカーボネート、アクロレイン
、アリルブロマイド、クロロプロペン、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、アリルてルコール、クロロベンゼン、ト
リクロロベンゼン、ベンゾニトリル、トルイジン、ニト
ロトルエン、Ｎ、Ｎ−ジメチルトルイジン、Ｎ−ニトロ
ソジエチルアミン、アニリン−，１ｆ）Ｌ／アニリン、
フタル酸、フェノール、ベンズアルデヒド、シクロヘキ
セノール、ピリジン、ビニルピリジン、ビニルメチルビ
リジン、ピコリン、フェロセン、ビニルフェロセン、チ
オフェン、ジヒドロフラン、Ｎ−ニトロンピペリジンナ
ト。
上記した各種有機化合物は１種類に限られず、２種以上
を併用して差支えないが、酸素透過性が丁ぐれている点
に３いてガス化し得る有機けい素苗体的に使用するのが
好ましい。
を併用して差支えないが、酸素透過性が丁ぐれている点
に３いてガス化し得る有機けい素苗体的に使用するのが
好ましい。
つぎに具体的実施例をあげるが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例１
）ルｘン１５０ｍ１（二取合触媒Ｔａ１ｌ、１ ｇを溶
解し、ついで１−トリメチルシリル−］−プロピン１５
ｇを添加し、７０℃の濡１ｙで５時間市合を行った。生
成した電合体を過剰メタノール中で沈Ｊ股、積装した。
解し、ついで１−トリメチルシリル−］−プロピン１５
ｇを添加し、７０℃の濡１ｙで５時間市合を行った。生
成した電合体を過剰メタノール中で沈Ｊ股、積装した。
この結果はぼ定に的（二式％式％
Ｍｅ−８ｉ−Ｍｅ の主鎖構造式を有する電合体が得Ｍ
ｅ られた。この重合体の分子用をゲル浸透グロマトグラフ
イ−（カラム；Ｇ２０００Ｈ８東洋リリ達製）で測定し
たところ、ポリスチレンａ算で分子…約１２ Ｘ １
（１’ であった。
ｅ られた。この重合体の分子用をゲル浸透グロマトグラフ
イ−（カラム；Ｇ２０００Ｈ８東洋リリ達製）で測定し
たところ、ポリスチレンａ算で分子…約１２ Ｘ １
（１’ であった。
この重合体を使用してトルエン溶液Ｃ二よるキャスティ
ング法Ｃ二より、Ｆ？、さ５μのフィルムを作成した。
ング法Ｃ二より、Ｆ？、さ５μのフィルムを作成した。
これをサンプルＡとする。
このサンプルＡをプラズマ発生装置内にセットし、装置
内を０．０３）ルまで減圧にしたのち、ジビニルテトラ
メチルジシロキサンガスをこノ装置内（二導入し７、圧
力を０．２５ ）ルに調整保持した。
内を０．０３）ルまで減圧にしたのち、ジビニルテトラ
メチルジシロキサンガスをこノ装置内（二導入し７、圧
力を０．２５ ）ルに調整保持した。
コＣｌ）状態で１３．５６ＭＨｚ １００Ｗの高周波゛
置方を印η１１し、ジビニルテトラメチルジシロキサン
ガスの低温プラズマを発生させ、３分間前記フィルム上
にプラズマ重合膜を形成さ−Ｉｔた。これをチンプルＢ
と下る。
置方を印η１１し、ジビニルテトラメチルジシロキサン
ガスの低温プラズマを発生させ、３分間前記フィルム上
にプラズマ重合膜を形成さ−Ｉｔた。これをチンプルＢ
と下る。
サンプルＡｘよびＢＣ二ついて酸素Ｊ３過噴チよび分離
係数を測定したところ、下記のとぢりの結果２ サンプルＡ ３．６３ＸｉＯ２，２７ｘ１０ １．６０
サンプルＢ １．８０Ｘ１０ ０．Ｈ２Ｘ１０ ２．２
０透過晴単位；ｃＩ！（ＳＴＰＪ／ ｄ ５ｅｃ−Ｃｍ
Ｈｇ実施例２ トｔｖｘｙ Ｉ ＦＩ ０ｔｎｌＣ二市合触媒Ｔａ、０
１５０．８ ｇを溶解し、ついで１−トリメチルシリル
−１−プロピン２０．９Ｙ添加し、６０℃のＡ？＋ Ｉ
ｆで６時間１１合１゜た。生成した喉合体を過剰メタノ
ール中で沈殿、精製し之。この結果はぼ定）孜的（二式
Ｍｅ＋Ｏ＝Ｏ＋− ｎ Ｍｅ−８１−Ｍｅ 曙 Ｍｅ の主＆ｊ１牌造式を■する重合体が得られた。この、重
合体の分子ηｔをゲノシ浸透グロマトクラフイ−（カラ
ム；Ｇ−２００Ｏｆ（８束／ｆ■達製λで測定したとこ
ろ、ポリスチレン換算で分子１１Ｈ５ｘ１０でもった。
係数を測定したところ、下記のとぢりの結果２ サンプルＡ ３．６３ＸｉＯ２，２７ｘ１０ １．６０
サンプルＢ １．８０Ｘ１０ ０．Ｈ２Ｘ１０ ２．２
０透過晴単位；ｃＩ！（ＳＴＰＪ／ ｄ ５ｅｃ−Ｃｍ
Ｈｇ実施例２ トｔｖｘｙ Ｉ ＦＩ ０ｔｎｌＣ二市合触媒Ｔａ、０
１５０．８ ｇを溶解し、ついで１−トリメチルシリル
−１−プロピン２０．９Ｙ添加し、６０℃のＡ？＋ Ｉ
ｆで６時間１１合１゜た。生成した喉合体を過剰メタノ
ール中で沈殿、精製し之。この結果はぼ定）孜的（二式
Ｍｅ＋Ｏ＝Ｏ＋− ｎ Ｍｅ−８１−Ｍｅ 曙 Ｍｅ の主＆ｊ１牌造式を■する重合体が得られた。この、重
合体の分子ηｔをゲノシ浸透グロマトクラフイ−（カラ
ム；Ｇ−２００Ｏｆ（８束／ｆ■達製λで測定したとこ
ろ、ポリスチレン換算で分子１１Ｈ５ｘ１０でもった。
この重合体を使用して、トルエン溶液Ｃユよるキャステ
ィング法（二より厚さ３μのフィルムをポリスルフォン
多孔質膜上に形成した。な奮、ポリスルフォン多孔質膜
としては１．５６ Ｘ １０−２ｉ（８’Ｉ’Ｐ）”／
ｃｒｌ −５ｅａ −ｃＴＬＨｇの透過、量のものを
使用した。
ィング法（二より厚さ３μのフィルムをポリスルフォン
多孔質膜上に形成した。な奮、ポリスルフォン多孔質膜
としては１．５６ Ｘ １０−２ｉ（８’Ｉ’Ｐ）”／
ｃｒｌ −５ｅａ −ｃＴＬＨｇの透過、量のものを
使用した。
これをサンプルＣとする□
このづ゛ンブルＣをプラズマ発生装置内ｌニセットし、
装置内を０．０３トルまで１１４１玉にしたのち、空気
を導入し圧力なｏ、】トルとした後、ジビニルへキサメ
チルシクロテトラシロギザンガスをこの装置内に導入し
、圧力を（１，２）ルＣ二調整保持した。
装置内を０．０３トルまで１１４１玉にしたのち、空気
を導入し圧力なｏ、】トルとした後、ジビニルへキサメ
チルシクロテトラシロギザンガスをこの装置内に導入し
、圧力を（１，２）ルＣ二調整保持した。
この状態で１１０ＫＨｚ 、２００Ｗの高周波電力を１
」ｊ加し、５分間前記フィルム上Ｃニプラズマ敬合嘆を
形［反させた。
」ｊ加し、５分間前記フィルム上Ｃニプラズマ敬合嘆を
形［反させた。
これをサンプルＤと丁イ〕。
サンプｌしＣおよびＤ（二ついて、酸素透過量、窒素透
過量および分離係数を測定したところ、Ｆ記の如き結果
が得られた。
過量および分離係数を測定したところ、Ｆ記の如き結果
が得られた。
＋ｙプｔｖＤ ３．５５ｘｌＯ１，４２ｘｌＯ２，５０
透過は単位； ｄ （ＳＴＰ ）／ｃｙｌ −ｓｅｅ
、 ｃｒａＨｇ丁・続袖正書： 昭和５８＋＋１２月 ６Ｉ ］ Ｉｉ ｆ’ｌの大小 昭和５８年１２月２日提出の特許願（２）２ 発明の名
称 気体分離用複合成形体 ：４ｒ山１１ノー・ｊる菖 ”Ｉｉｆ’ｌ ’−の１（ｉｊ係 特許出願人名称 （
２０６１信越化学工業株式会社４ 代 」す１ 人 ０′ｆ山１１の月３５ （１）明細書第１８ページ、１１行目から最下行までを
下記のと詔りに補正下る。
透過は単位； ｄ （ＳＴＰ ）／ｃｙｌ −ｓｅｅ
、 ｃｒａＨｇ丁・続袖正書： 昭和５８＋＋１２月 ６Ｉ ］ Ｉｉ ｆ’ｌの大小 昭和５８年１２月２日提出の特許願（２）２ 発明の名
称 気体分離用複合成形体 ：４ｒ山１１ノー・ｊる菖 ”Ｉｉｆ’ｌ ’−の１（ｉｊ係 特許出願人名称 （
２０６１信越化学工業株式会社４ 代 」す１ 人 ０′ｆ山１１の月３５ （１）明細書第１８ページ、１１行目から最下行までを
下記のと詔りに補正下る。
「 サンプルＡおよびＢについて酸素透過量および分離
係数を測定したところ、下記のとおりの結果が得られた
。
係数を測定したところ、下記のとおりの結果が得られた
。
３
＋ｙｌルＢ １．８０ ＸＩＯＯ，）（２Ｘ１０ ２．
２０透過蒲単位；（ｉ（ＳＴＰＪ／ｃｒＩ’ｓｅｏ’ｃ
ｒＩｔＨｇ Ｊ（２； 明細書第１９ページ最下行から
２０ペ一ジ１行目Ｃ二かｃすて、ｌ １．５６ Ｘ １
０−２ｉ （ＳＴＰ）ｃｒＩＬ／ ｆｆｌ −Ｂｆ３０
″ｃＴＬＨｇ Ｊとあるのを下記のとおりＣ二補正する
。
２０透過蒲単位；（ｉ（ＳＴＰＪ／ｃｒＩ’ｓｅｏ’ｃ
ｒＩｔＨｇ Ｊ（２； 明細書第１９ページ最下行から
２０ペ一ジ１行目Ｃ二かｃすて、ｌ １．５６ Ｘ １
０−２ｉ （ＳＴＰ）ｃｒＩＬ／ ｆｆｌ −Ｂｆ３０
″ｃＴＬＨｇ Ｊとあるのを下記のとおりＣ二補正する
。
［１，５６ｘｌＯｍ（Ｓ’Ｉ’Ｐ）／ｄ−ｓｅｃ・ホＨ
ｇＪ（３） 明細書第２０ページ、１２行目から最下行
までを下記のとおりＣ：補正する。
ｇＪ（３） 明細書第２０ページ、１２行目から最下行
までを下記のとおりＣ：補正する。
「 チンプルＣｕよびＤ−二ついて、酸素透過量、窒素
透過層Ｂよび分離係数を測定したところ、下記の如き結
果が得られ定。
透過層Ｂよび分離係数を測定したところ、下記の如き結
果が得られ定。
サンプ／Ｌ／Ｃ５゜３：（ＸＩＯ３，７２Ｘ１０ １．
７０サンプルＤ ３．５５Ｘ］、０ １．４２Ｘ１０−
３２．５０透過ｔＪｔ １１位：ｃｒＮ８’Ｌ’Ｐ）／
ｃｒｌ・ｓｅａ−ｃａｆ（ｇ Ｊ以上
７０サンプルＤ ３．５５Ｘ］、０ １．４２Ｘ１０−
３２．５０透過ｔＪｔ １１位：ｃｒＮ８’Ｌ’Ｐ）／
ｃｒｌ・ｓｅａ−ｃａｆ（ｇ Ｊ以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 ％式％（ （式中、Ｒ１は炭素数１−８の一価炭化水素基、Ｒ２Ｎ
よびＲ３は炭素数１〜Ｂの一価炭化水素基Ｂよび炭素数
１〜８のアルコキノ基から選ばれる同種または異種の基
、Ｒ４は炭素数１〜８の一価炭化水素基、炭ｇ数１〜８
のアルコキン基、１１よびトリオルガノシリ４ルギレン
基から選ばれる基２でボされる亙機不飽イ（１化合物の
暇合体成形物表面を二、有機化合物ガスの低温プラズマ
麻合膜を形成させてなる気体分１離用複合成形体 ２ 前記有機不飽和化合物の重合体成形物がフィルム状
態である特許請求の範囲第１項記載の気体分離用複合成
形体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58227996A JPS60122026A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 気体分離用複合成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58227996A JPS60122026A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 気体分離用複合成形体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122026A true JPS60122026A (ja) | 1985-06-29 |
| JPH0356775B2 JPH0356775B2 (ja) | 1991-08-29 |
Family
ID=16869539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58227996A Granted JPS60122026A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 気体分離用複合成形体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122026A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5013338A (en) * | 1989-09-01 | 1991-05-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Plasma-assisted polymerization of monomers onto polymers and gas separation membranes produced thereby |
| JP2017524459A (ja) * | 2014-07-22 | 2017-08-31 | バイオトロニック アクチェンゲゼルシャフト | 生物分解性金属ステントおよび方法 |
-
1983
- 1983-12-02 JP JP58227996A patent/JPS60122026A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5013338A (en) * | 1989-09-01 | 1991-05-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Plasma-assisted polymerization of monomers onto polymers and gas separation membranes produced thereby |
| JP2017524459A (ja) * | 2014-07-22 | 2017-08-31 | バイオトロニック アクチェンゲゼルシャフト | 生物分解性金属ステントおよび方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0356775B2 (ja) | 1991-08-29 |
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