JPS601400B2 - 銅又は銅合金の光沢ニツケルメツキ方法 - Google Patents
銅又は銅合金の光沢ニツケルメツキ方法Info
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- JPS601400B2 JPS601400B2 JP202382A JP202382A JPS601400B2 JP S601400 B2 JPS601400 B2 JP S601400B2 JP 202382 A JP202382 A JP 202382A JP 202382 A JP202382 A JP 202382A JP S601400 B2 JPS601400 B2 JP S601400B2
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- Japan
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- copper
- plating
- bright nickel
- nickel plating
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
- C23F3/04—Heavy metals
- C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
本発明は、化学的に研摩した銅又は銅合金に部分的な「
クモリ」あるいはメッキ「ムラ」のない光沢メッキを施
す方法に関する。 鋼又は銅合金に光沢メッキを行なう場合、素地を先ず研
摩して平滑にしてからメッキを行なうのが普通であり、
その方法としては羽毛研摩、バレル研摩等の機械的研摩
と、薬品処理によって素地表面を溶解させる化学研摩及
び電解研摩の総称である化学的研摩とがある。 現在人手を節約するいわゆる省力化が工業界で盛んであ
り、研摩業界に於ても機械化、自動化へ進む傾向が著し
いが、化学的研摩は自動化が容易である点で機械的研摩
に比べ有利である。 化学的研摩は従来、いわゆる小物について多く行なわれ
て来たが、技術の向上により研摩表面積の大きい、いわ
ゆる大物の研摩にも適用しうる状況になっている。これ
らの要因により化学的研摩が採用される割合は急速に増
大する傾向にある。しかし研摩を行なった後の素地に光
沢メッキを施した場合、機械的研摩を行なった素地につ
いは先ず問題ないが、化学的研摩を行なった素地につい
ては平滑面であっても応々にしてメッキ表面に部分的に
「クモリ」あるいはメッキ「ムラ」の発生が認められる
。 特に光沢ニッケルメッキを施した場合には表面積の大き
いもの穣この「クモリ」あるいはメッキ「ムラ」の発生
が目立つ傾向があり、この様な「クモリ」あるいは「ム
ラ」の発生が生じ易いためにト光沢メッキを目的とした
メッキに先立つ研摩に化学研摩はこれまで殆んど採用さ
れていないのが現状である。本発明者らは上言己の現状
に鑑み、化学的研摩を行なった後に光沢ニッケルメッキ
を施すに際し「上記の様なメッキ表面に「クモリ」ある
いは「ムラ」が生じない光沢ニッケルメッキを行なう方
法を確立すべく鋭意研究の結果、ある種のアゾール類を
研摩液に存在させて化学的研摩を行なったのち、光沢メ
ッキを施した場合にはメッキ表面に「クモリ」あるいは
「ムラ」の発生がないことを見出し、本発明を為した。 すなわち、本発明は銅又は銅合金を化学的研摩したのち
、光沢メッキするに際し、下記一般式で示されるアゾー
ル類の少なくとも一種を化学研摩液に存在させて化学的
研摩したのち、光沢ニッケルメッキを施すことを特徴と
する銅又は銅合金の光沢ニッケルメッキ方法に関する。 又は（式中Ｘ，、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４は水素、アミノ基〜
炭素数「〜３のアミノアルキル基又は炭素数１〜３のア
ルキル基を表わす）ところで「金属表面部は金属結晶が
ベルビ層（ｂｅｉｌｂｙｌａｙｅｒ：非結晶層）で被わ
れた状態になつており、金属表面をそのま）メッキする
場合にはベルビ層の上にメッキされることになり均一な
メッキが行なわれる。 しかしながら、金属表面を化学的研摩するとこのベルビ
層が除去され金属結晶が露出し、金属結晶は活性な部分
と不活性な部分が生じ、このため化学的研摩後にメッキ
すると不均一なメッキが行なわれることになる。この様
な不均一なメッキが化学的研摩を行なった彼処理面にメ
ッキを行なった場合にメッキ表面に部分的に発生する「
クモリ」あるいは「ムラ」の原因となる。本発明におい
て、化学研摩液に上記したアゾール類を存在させて銅又
は銅合金を研摩した際には、化学的研摩後の金属表面の
活性の調整化（すなわち表面電位の調整）が行なわれ、
その結果「メッキ処理を施した場合にメッキ表面に「ク
モリ」あるいはｒムラ」が発生しない良好な光沢ニッケ
ルメッキ面が得られる。 本発明において、前記一般式〔１〕で示されるアゾール
類は例えばィミダゾール、１−メチルイミダゾール、１
０２−ジメチルイミダゾール、１−アミノィミダゾール
等が挙げられる。 一般式
クモリ」あるいはメッキ「ムラ」のない光沢メッキを施
す方法に関する。 鋼又は銅合金に光沢メッキを行なう場合、素地を先ず研
摩して平滑にしてからメッキを行なうのが普通であり、
その方法としては羽毛研摩、バレル研摩等の機械的研摩
と、薬品処理によって素地表面を溶解させる化学研摩及
び電解研摩の総称である化学的研摩とがある。 現在人手を節約するいわゆる省力化が工業界で盛んであ
り、研摩業界に於ても機械化、自動化へ進む傾向が著し
いが、化学的研摩は自動化が容易である点で機械的研摩
に比べ有利である。 化学的研摩は従来、いわゆる小物について多く行なわれ
て来たが、技術の向上により研摩表面積の大きい、いわ
ゆる大物の研摩にも適用しうる状況になっている。これ
らの要因により化学的研摩が採用される割合は急速に増
大する傾向にある。しかし研摩を行なった後の素地に光
沢メッキを施した場合、機械的研摩を行なった素地につ
いは先ず問題ないが、化学的研摩を行なった素地につい
ては平滑面であっても応々にしてメッキ表面に部分的に
「クモリ」あるいはメッキ「ムラ」の発生が認められる
。 特に光沢ニッケルメッキを施した場合には表面積の大き
いもの穣この「クモリ」あるいはメッキ「ムラ」の発生
が目立つ傾向があり、この様な「クモリ」あるいは「ム
ラ」の発生が生じ易いためにト光沢メッキを目的とした
メッキに先立つ研摩に化学研摩はこれまで殆んど採用さ
れていないのが現状である。本発明者らは上言己の現状
に鑑み、化学的研摩を行なった後に光沢ニッケルメッキ
を施すに際し「上記の様なメッキ表面に「クモリ」ある
いは「ムラ」が生じない光沢ニッケルメッキを行なう方
法を確立すべく鋭意研究の結果、ある種のアゾール類を
研摩液に存在させて化学的研摩を行なったのち、光沢メ
ッキを施した場合にはメッキ表面に「クモリ」あるいは
「ムラ」の発生がないことを見出し、本発明を為した。 すなわち、本発明は銅又は銅合金を化学的研摩したのち
、光沢メッキするに際し、下記一般式で示されるアゾー
ル類の少なくとも一種を化学研摩液に存在させて化学的
研摩したのち、光沢ニッケルメッキを施すことを特徴と
する銅又は銅合金の光沢ニッケルメッキ方法に関する。 又は（式中Ｘ，、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４は水素、アミノ基〜
炭素数「〜３のアミノアルキル基又は炭素数１〜３のア
ルキル基を表わす）ところで「金属表面部は金属結晶が
ベルビ層（ｂｅｉｌｂｙｌａｙｅｒ：非結晶層）で被わ
れた状態になつており、金属表面をそのま）メッキする
場合にはベルビ層の上にメッキされることになり均一な
メッキが行なわれる。 しかしながら、金属表面を化学的研摩するとこのベルビ
層が除去され金属結晶が露出し、金属結晶は活性な部分
と不活性な部分が生じ、このため化学的研摩後にメッキ
すると不均一なメッキが行なわれることになる。この様
な不均一なメッキが化学的研摩を行なった彼処理面にメ
ッキを行なった場合にメッキ表面に部分的に発生する「
クモリ」あるいは「ムラ」の原因となる。本発明におい
て、化学研摩液に上記したアゾール類を存在させて銅又
は銅合金を研摩した際には、化学的研摩後の金属表面の
活性の調整化（すなわち表面電位の調整）が行なわれ、
その結果「メッキ処理を施した場合にメッキ表面に「ク
モリ」あるいはｒムラ」が発生しない良好な光沢ニッケ
ルメッキ面が得られる。 本発明において、前記一般式〔１〕で示されるアゾール
類は例えばィミダゾール、１−メチルイミダゾール、１
０２−ジメチルイミダゾール、１−アミノィミダゾール
等が挙げられる。 一般式
〔０〕で示されるアゾール類は例えばピラゾール
、３−アミノピラゾール、４ーアミノピラゾール、１−
メチルピラゾール等が挙げられる。 一般式〔ｍ〕で示されるアゾール類は例えば、ペンゾイ
ミダゾール、１−メチルベンゾイミダゾール、１ーエチ
ルベンゾイミダゾール「１ーアミノベンゾイミダゾール
、２ーアミノＭ１一エチルベンゾィミダゾ−ル等が挙げ
られる。 一般式〔Ｗ〕で示されるアゾール類は例えばｔインダゾ
−ル「１−メチルインダゾール、１０３−ジメチルイン
ダゾール、３ーアミノインダゾールも３−アミノ−１−
メチルインダゾール、３−アミノー１−エチルィンダゾ
ール等が挙げられる。 一般式〔ｙ〕で示されるアゾール類は例えば、ペンゾト
リアゾール〜１町メチルベンゾトリアゾール〜１岬エチ
ルベンゾトリアゾール「１ーアミゾベンゾトリアゾール
、１ージメチルアミノメチルベンゾトリアゾール等が挙
げられる。 本発明においてト化学的研摩液に存在させる前言己り般
式で示されるアゾール類の使用濃度は、ｌｏｐｐｍ以上
で、好ましくは１００〜１０００のｐｍ程度である。 温度は研摩条件に従い一般的に２０こ０〜７０℃である
。さらに前記一般式で示される構造を有するアゾール類
と共に例えば、尿素、チオ尿素等のィンヒピターや、界
面活性剤及び蛋白を併用してもなんらさしつかえがない
。また、本発明により化学的研摩したのち、光沢ニッケ
ルメッキを施す方法は格別な方法を採用する必要はなく
、従来使用されている方法、たとえばワット格を使用し
た電気メッキ法などが通常適用される。次に本発明を実
施例に従い更に具体的に説明する。 なお実施例中、表面光沢度はＪＩＳ−Ｚ−８７４１に従
って測定した数値である。またメッキ仕上り目視判定で
×は不良、０は良を各々示す。実施例１〜５及び比較例
１〜３ 過酸化水素７％、硫酸１％、メタノール２％及び界面活
性剤０．０３％を含む水溶液からなる化学研摩液に下記
表に示す種々のァゾール類を添加し、黄鋼板を２分間研
摩した後、水洗し、光沢剤としてサッカリン、２ーブチ
ンー１・４ージオール及び１・３・６ーナフタリントリ
スルホン酸ナトリウムを各々１．２夕／そ、０．７タ′
〆及び１．６夕／ク添加したワット格（ＮｉＳ０４・細
２０２４０タ′夕、ＮｉＣ１２・粥２０４５タ′そ及び
日３Ｂ０４３０夕／ク含有）を使用し、電流密度４Ａ／
ｄ〆、液温５０こＣ、メッキ時間５分間の条件で光沢ニ
ッケルを施した。 その結果は第１表の如くであり、いずれも密着性大なる
光沢のあるメッキ表面が得られた。なお比較の為添加剤
を使用しないか又はアゾール類以外の物質を添加した液
に浸漬処理した場合の例を、比較例１〜３として第１表
に併記した。 第１表尚、素材（黄鋼板）の光沢度は４０９であった。 実施例６、７及び比較例４硫酸（ｄ＝１．８４）７０の
‘、硝酸（ｄ＝１．３８）３０の上、塩酸（ｄ＝１．１
７）４叫及び水６０の‘からなる化学研摩液に下記表に
示すアゾール類を添加し、鋼板を２分間研摩した。 その後実施例１〜５で示したワット格で同条件にて光沢
ニッケルメッキを施した。その結果は第２表の如くであ
り、いずれも密着性大で光沢のあるメッキ表面が得られ
た。なお比較の為、アゾール類を添加しない例を比較例
４として第２表に併記した。第 ２１表 尚、素材（鋼板）の光沢度３３４であった。 実施例 ８〜１０リン酸７４％、三酸化クロム６％及び
水２０％からなる電解研摩液に下記表に示すアゾールを
添加し、電流密度４０Ａ／ｄめで５分間黄鋼条を電解研
摩・三※した。 その後実施例１〜５で示したワット俗で同条件にて光沢
ニッケルメッキを施した。その結果は第３表の如くであ
り、いずれも密着性大で光沢のあるメッキ表面が得られ
た。第３表 尚、素材（黄鋼条）の光沢度３０５であった。
、３−アミノピラゾール、４ーアミノピラゾール、１−
メチルピラゾール等が挙げられる。 一般式〔ｍ〕で示されるアゾール類は例えば、ペンゾイ
ミダゾール、１−メチルベンゾイミダゾール、１ーエチ
ルベンゾイミダゾール「１ーアミノベンゾイミダゾール
、２ーアミノＭ１一エチルベンゾィミダゾ−ル等が挙げ
られる。 一般式〔Ｗ〕で示されるアゾール類は例えばｔインダゾ
−ル「１−メチルインダゾール、１０３−ジメチルイン
ダゾール、３ーアミノインダゾールも３−アミノ−１−
メチルインダゾール、３−アミノー１−エチルィンダゾ
ール等が挙げられる。 一般式〔ｙ〕で示されるアゾール類は例えば、ペンゾト
リアゾール〜１町メチルベンゾトリアゾール〜１岬エチ
ルベンゾトリアゾール「１ーアミゾベンゾトリアゾール
、１ージメチルアミノメチルベンゾトリアゾール等が挙
げられる。 本発明においてト化学的研摩液に存在させる前言己り般
式で示されるアゾール類の使用濃度は、ｌｏｐｐｍ以上
で、好ましくは１００〜１０００のｐｍ程度である。 温度は研摩条件に従い一般的に２０こ０〜７０℃である
。さらに前記一般式で示される構造を有するアゾール類
と共に例えば、尿素、チオ尿素等のィンヒピターや、界
面活性剤及び蛋白を併用してもなんらさしつかえがない
。また、本発明により化学的研摩したのち、光沢ニッケ
ルメッキを施す方法は格別な方法を採用する必要はなく
、従来使用されている方法、たとえばワット格を使用し
た電気メッキ法などが通常適用される。次に本発明を実
施例に従い更に具体的に説明する。 なお実施例中、表面光沢度はＪＩＳ−Ｚ−８７４１に従
って測定した数値である。またメッキ仕上り目視判定で
×は不良、０は良を各々示す。実施例１〜５及び比較例
１〜３ 過酸化水素７％、硫酸１％、メタノール２％及び界面活
性剤０．０３％を含む水溶液からなる化学研摩液に下記
表に示す種々のァゾール類を添加し、黄鋼板を２分間研
摩した後、水洗し、光沢剤としてサッカリン、２ーブチ
ンー１・４ージオール及び１・３・６ーナフタリントリ
スルホン酸ナトリウムを各々１．２夕／そ、０．７タ′
〆及び１．６夕／ク添加したワット格（ＮｉＳ０４・細
２０２４０タ′夕、ＮｉＣ１２・粥２０４５タ′そ及び
日３Ｂ０４３０夕／ク含有）を使用し、電流密度４Ａ／
ｄ〆、液温５０こＣ、メッキ時間５分間の条件で光沢ニ
ッケルを施した。 その結果は第１表の如くであり、いずれも密着性大なる
光沢のあるメッキ表面が得られた。なお比較の為添加剤
を使用しないか又はアゾール類以外の物質を添加した液
に浸漬処理した場合の例を、比較例１〜３として第１表
に併記した。 第１表尚、素材（黄鋼板）の光沢度は４０９であった。 実施例６、７及び比較例４硫酸（ｄ＝１．８４）７０の
‘、硝酸（ｄ＝１．３８）３０の上、塩酸（ｄ＝１．１
７）４叫及び水６０の‘からなる化学研摩液に下記表に
示すアゾール類を添加し、鋼板を２分間研摩した。 その後実施例１〜５で示したワット格で同条件にて光沢
ニッケルメッキを施した。その結果は第２表の如くであ
り、いずれも密着性大で光沢のあるメッキ表面が得られ
た。なお比較の為、アゾール類を添加しない例を比較例
４として第２表に併記した。第 ２１表 尚、素材（鋼板）の光沢度３３４であった。 実施例 ８〜１０リン酸７４％、三酸化クロム６％及び
水２０％からなる電解研摩液に下記表に示すアゾールを
添加し、電流密度４０Ａ／ｄめで５分間黄鋼条を電解研
摩・三※した。 その後実施例１〜５で示したワット俗で同条件にて光沢
ニッケルメッキを施した。その結果は第３表の如くであ
り、いずれも密着性大で光沢のあるメッキ表面が得られ
た。第３表 尚、素材（黄鋼条）の光沢度３０５であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 銅又は銅合金を化学的研摩したのち、光沢メツキす
るに際し、下記一般式で示されるアゾール類の少なくと
も一種を化学研摩液に存在させて化学的研摩したのち、
光沢ニツケルメツキを施すことを特徴とする銅又は銅合
金の光沢ニツケルメツキ方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｘ＿１、Ｘ＿２、Ｘ＿３、Ｘ＿４は水素、アミノ
基、炭素数１〜３のアミノアルキル基又は炭素数１〜３
のアルキル基を表わす）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP202382A JPS601400B2 (ja) | 1982-01-09 | 1982-01-09 | 銅又は銅合金の光沢ニツケルメツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP202382A JPS601400B2 (ja) | 1982-01-09 | 1982-01-09 | 銅又は銅合金の光沢ニツケルメツキ方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4844874A Division JPS5615473B2 (ja) | 1974-04-30 | 1974-04-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57137498A JPS57137498A (en) | 1982-08-25 |
| JPS601400B2 true JPS601400B2 (ja) | 1985-01-14 |
Family
ID=11517727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP202382A Expired JPS601400B2 (ja) | 1982-01-09 | 1982-01-09 | 銅又は銅合金の光沢ニツケルメツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601400B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102888628B (zh) * | 2012-10-11 | 2015-04-01 | 合肥奥福表面处理科技有限公司 | Pet基材的fpc板材电镀镍工作液 |
| CN104846410A (zh) * | 2015-06-16 | 2015-08-19 | 沈阳飞机工业（集团）有限公司 | 一种在黄铜、紫铜合金上电镀镍的方法 |
-
1982
- 1982-01-09 JP JP202382A patent/JPS601400B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57137498A (en) | 1982-08-25 |
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