JPS60143418A - 多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘツド装置 - Google Patents
多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘツド装置Info
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- JPS60143418A JPS60143418A JP24780983A JP24780983A JPS60143418A JP S60143418 A JPS60143418 A JP S60143418A JP 24780983 A JP24780983 A JP 24780983A JP 24780983 A JP24780983 A JP 24780983A JP S60143418 A JPS60143418 A JP S60143418A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/17—Construction or disposition of windings
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は薄膜磁気抵抗効果素子(以下M)を素子という
)を用いた多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装置
に係わる。
)を用いた多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装置
に係わる。
背景技術とその問題点
M几素子を用いた磁気ヘッド(以下MRヘッドという)
においては、各チャンネルに関するM几素子が、これに
対する外部磁界、すなわち磁気記録媒体上の記録によっ
て得られる信号磁界によって出力を得るためには、この
MfL素子に定電流を流してこのM几素子における外部
磁界による抵抗変化に基づく電圧変化によって出力を取
出す必要がある。この種MR,素子による多チャンネル
磁気ヘッドにおいては、簡単な構成にするために、外部
の定電圧電源から各MR素子を並列にして定電流を供給
するようにすることが望まれる。このため各チャンネル
のM几素子にはこれに直列に定電流を得るための高抵抗
を接続する必要がある。
においては、各チャンネルに関するM几素子が、これに
対する外部磁界、すなわち磁気記録媒体上の記録によっ
て得られる信号磁界によって出力を得るためには、この
MfL素子に定電流を流してこのM几素子における外部
磁界による抵抗変化に基づく電圧変化によって出力を取
出す必要がある。この種MR,素子による多チャンネル
磁気ヘッドにおいては、簡単な構成にするために、外部
の定電圧電源から各MR素子を並列にして定電流を供給
するようにすることが望まれる。このため各チャンネル
のM几素子にはこれに直列に定電流を得るための高抵抗
を接続する必要がある。
まず、第1図を参照して従来のMFLヘッド装置の電気
的構成を説明するに、図においてHはM几ヘッドであっ
て、このMfLヘッドH内のMR81,MRl。
的構成を説明するに、図においてHはM几ヘッドであっ
て、このMfLヘッドH内のMR81,MRl。
MR2・・・・・・MRn、M〜2は各チャンネルに対
応して設けられたMR,素子で、両端のMR素子M R
s !及びMRf32は、゛磁気記録媒体の幅方向の位
置を検出するものであシ、MRl、MR2・・・・・・
MRnは、各記録ト2ツク上の記録信号を読み出すもの
である。これらMR素子は外部信号磁界すなわち磁気記
録媒体よりの記録信号磁界に応じてその抵抗値が変化し
、各MR素子の一端に定゛屯流用の高抵抗の抵抗素子R
が直列に接続され、その接続中点から各チャンネルに対
応する出力端子tsi l ti + ’2・・・・・
・’n r ’82が導出される。各MR素子の各他端
は接地され、また各抵抗素子Rの他端は電源端子tbを
介して定電圧直流電源Sに接続されて一定の電圧が与え
られるようになされるものである。抵抗素子Rは各MR
素子の抵抗値の2〜3倍程度の抵抗値に設定される。尚
、MR素子の固定抵抗値は100Ω程度で、この抵抗値
が外部磁界によって、1’1程度変化する。
応して設けられたMR,素子で、両端のMR素子M R
s !及びMRf32は、゛磁気記録媒体の幅方向の位
置を検出するものであシ、MRl、MR2・・・・・・
MRnは、各記録ト2ツク上の記録信号を読み出すもの
である。これらMR素子は外部信号磁界すなわち磁気記
録媒体よりの記録信号磁界に応じてその抵抗値が変化し
、各MR素子の一端に定゛屯流用の高抵抗の抵抗素子R
が直列に接続され、その接続中点から各チャンネルに対
応する出力端子tsi l ti + ’2・・・・・
・’n r ’82が導出される。各MR素子の各他端
は接地され、また各抵抗素子Rの他端は電源端子tbを
介して定電圧直流電源Sに接続されて一定の電圧が与え
られるようになされるものである。抵抗素子Rは各MR
素子の抵抗値の2〜3倍程度の抵抗値に設定される。尚
、MR素子の固定抵抗値は100Ω程度で、この抵抗値
が外部磁界によって、1’1程度変化する。
更に、電源Sには、その信号周波数に対するインピーダ
ンスを低下させて動作を安定させるために、バイパスコ
ンデンサCbが並列に接続される。
ンスを低下させて動作を安定させるために、バイパスコ
ンデンサCbが並列に接続される。
各出力端子tSl + tl”’−jrl + t82
は、それぞれ信号導出用コンデンサCを介して、対応す
る高利得前置増幅器Aの各入力側に接続される。これら
の増幅器は、図示を省略した並列/直列変換器等と共に
、すべて1個のモノリシック半導体集積回路(以下IC
と言う)内に構成され、後述のように、合成樹脂製のケ
ーシング内に、各信号導出用コンデンサCの集合体であ
るコンデンサアレイCAと共に収容され、またMRヘッ
ドHと一体化されて、全体としてMRヘッド装置が構成
される。
は、それぞれ信号導出用コンデンサCを介して、対応す
る高利得前置増幅器Aの各入力側に接続される。これら
の増幅器は、図示を省略した並列/直列変換器等と共に
、すべて1個のモノリシック半導体集積回路(以下IC
と言う)内に構成され、後述のように、合成樹脂製のケ
ーシング内に、各信号導出用コンデンサCの集合体であ
るコンデンサアレイCAと共に収容され、またMRヘッ
ドHと一体化されて、全体としてMRヘッド装置が構成
される。
なお、ICには、MRヘッド用の電源Sとは別に一用意
された、外部電源Bから所要の直方が供給されるが、こ
の電源Bにも安定化用コンデンサCbbか並列に接続さ
れている。
された、外部電源Bから所要の直方が供給されるが、こ
の電源Bにも安定化用コンデンサCbbか並列に接続さ
れている。
ここで、第2図及び第3図を参照しながら、従来のMR
ヘッド装置の機械的構成例について説明する。
ヘッド装置の機械的構成例について説明する。
両図において、MlヘッドHは、上述のようなMR素子
及び抵抗素子其の他を搭載した磁性基板(1)と、MR
素子等を保護するために接着された、耐摩耗性の保護基
板(IP)から構成される。(2αは合成樹脂製のケー
シングであって、このケーシング(イ)の一方の端部に
突出したヘッドマウント部(21)にMRヘッドHが取
シ付けられる。ケーシング■の他方の端部には複数のリ
ード(221が埋設されている。(ハ)はICであって
、リード(2りがケーシング(2(]I内で幅広になっ
ているIC取付部(22A)に載置される。IC取付部
(22A)の裏側には、熱伝導度の高い金属放熱体(2
滲の一方の面(24a)が固着される。放熱体(財)の
他方の面(24b)はケーシングC1!0)の外部に露
出しておシ、その中央部にはネジ孔(ハ)が設けられ、
MRヘッド装置の取付及びICの放熱の便が図られる。
及び抵抗素子其の他を搭載した磁性基板(1)と、MR
素子等を保護するために接着された、耐摩耗性の保護基
板(IP)から構成される。(2αは合成樹脂製のケー
シングであって、このケーシング(イ)の一方の端部に
突出したヘッドマウント部(21)にMRヘッドHが取
シ付けられる。ケーシング■の他方の端部には複数のリ
ード(221が埋設されている。(ハ)はICであって
、リード(2りがケーシング(2(]I内で幅広になっ
ているIC取付部(22A)に載置される。IC取付部
(22A)の裏側には、熱伝導度の高い金属放熱体(2
滲の一方の面(24a)が固着される。放熱体(財)の
他方の面(24b)はケーシングC1!0)の外部に露
出しておシ、その中央部にはネジ孔(ハ)が設けられ、
MRヘッド装置の取付及びICの放熱の便が図られる。
ケーシング00)のへラドマウント部(21)と放熱体
(241の間には凹部(イ)が設けられ、コンデンサア
レイ(27)が収容される。
(241の間には凹部(イ)が設けられ、コンデンサア
レイ(27)が収容される。
(至)は印刷配線板であって、例えばガラスエポキシ積
層板を基材とし、その上下両面(30a)及び(30b
)に所要の印刷配線が形成されている。例えば、コンデ
ンサアレイ(27)の各コンデンサは2列に配列されて
おシ、その正、負の電極端子(28)及び(2)もそれ
ぞれ2列に整列している。従って、印刷配線板(至)の
下面(30b)には、上述の電極端子(至)及び(2澱
に対向して、複数対のランドOυ及び07Jが配設され
、対応する電極端子とランドとがそれぞれに予め被着さ
れた半田のりフローによって接続される。
層板を基材とし、その上下両面(30a)及び(30b
)に所要の印刷配線が形成されている。例えば、コンデ
ンサアレイ(27)の各コンデンサは2列に配列されて
おシ、その正、負の電極端子(28)及び(2)もそれ
ぞれ2列に整列している。従って、印刷配線板(至)の
下面(30b)には、上述の電極端子(至)及び(2澱
に対向して、複数対のランドOυ及び07Jが配設され
、対応する電極端子とランドとがそれぞれに予め被着さ
れた半田のりフローによって接続される。
また、印刷配線板(至)の上面(30a)の両端縁部に
は、コンデンサアレイ(27)の各コンデンサをIC(
ハ)並びにMRヘッドHとボンディングワイヤWによっ
て接続するために、ビンディングパッド(至)及び図が
配設される。なお、ランド0υ、(3カと対応するポン
ディングパッド(2)、t34Iとを接続するため、適
宜のスルーホール(図示を省略)が設けられる。また、
(至)は電源パッドであって、定電圧電源Sからの導線
が接続される。(2)はアースパッドである。
は、コンデンサアレイ(27)の各コンデンサをIC(
ハ)並びにMRヘッドHとボンディングワイヤWによっ
て接続するために、ビンディングパッド(至)及び図が
配設される。なお、ランド0υ、(3カと対応するポン
ディングパッド(2)、t34Iとを接続するため、適
宜のスルーホール(図示を省略)が設けられる。また、
(至)は電源パッドであって、定電圧電源Sからの導線
が接続される。(2)はアースパッドである。
次に、第4図ないし第6図を参照してこのようなMRヘ
ッドHの機械的構成例を更に詳細に説明する。第4図は
このMRヘッドの路線的平面図を示し、第5図及び第6
図は第4図中v−v’及びM −M’線上の夫々の断面
図を示す。
ッドHの機械的構成例を更に詳細に説明する。第4図は
このMRヘッドの路線的平面図を示し、第5図及び第6
図は第4図中v−v’及びM −M’線上の夫々の断面
図を示す。
第4図〜第6図において(1)は磁性基板を示し、この
磁性基板(1)が例えばMn −Zn系フェライトのよ
うな導電性を有する場合には5i02等の絶縁層(3)
を被覆する。この絶縁層(3)下には金属層例えばA1
1層(2)を100〜2000 X程度の厚さにスパッ
タ等によつて被着し、この金属層(2)の介在によって
絶縁層(3)をMn −Zn系7エライト等の基板(1
)に良好に密着できるようにする。そして磁性基板(1
)上に形成された絶縁層(3)上に各記録トラックに対
応するチャンネルch1 、 ch2・・・・・・cb
Hとその両側に配置される磁気媒体の幅方向の位置検出
用のチャンネルchB1 、 cbH2の各MR素子に
対して共通にバイアス磁界を与えるバイアス磁界発生用
の電流を通ずるバイアス導体(4)を各チャンネルの配
列方向に沿って延在被着すると共に各配線導体(5)を
被着形成する。これら導体(4)及び(5)は金属層を
全面的に蒸着、スパッタリング等によって形成し、リン
グラフィ技術によってこれを選択的にエツチング除去し
て、夫々所定のA?ターンに形成し得る。また配線導体
(5)としては、後述する各MR素子の一端と、同様に
後述する定電流用抵抗素子凡の一端とを接続するに供す
る配線導体(5a)と、この配線導体(5a)から外部
に各出力端子を導出するに供する信号とシ出し用の配線
導体(5b)と、更に各MR素子の他端とこれに所定の
電位、例えば接地電位を印加する給電配線とを接続する
に供する配線導体(5C)と、更に必要に応じて定電流
用抵抗素子Rの他端に接続される島状導体(5d)とを
設けてなる。そしてこれらバイアス導体(4)及び配線
導体(5)を覆って、5t02等の絶縁層(6)を被覆
し、この絶縁層(6)に同様にリソグラフィによって各
チャンネルのMR,素子の両端が夫々接続される配線導
体(5a)及び(5G)の端部上に夫々MR素子の両端
を接続するに供するコンタクト用窓(7a)及び(7C
)を穿設すると同時に同様に配線導体(5a)の他端と
島状導体(5d)上に夫々後述する定電流用抵抗素子凡
の各両端を接続するに供するコンタクト用窓(7aつ及
び(7d)を穿設する。
磁性基板(1)が例えばMn −Zn系フェライトのよ
うな導電性を有する場合には5i02等の絶縁層(3)
を被覆する。この絶縁層(3)下には金属層例えばA1
1層(2)を100〜2000 X程度の厚さにスパッ
タ等によつて被着し、この金属層(2)の介在によって
絶縁層(3)をMn −Zn系7エライト等の基板(1
)に良好に密着できるようにする。そして磁性基板(1
)上に形成された絶縁層(3)上に各記録トラックに対
応するチャンネルch1 、 ch2・・・・・・cb
Hとその両側に配置される磁気媒体の幅方向の位置検出
用のチャンネルchB1 、 cbH2の各MR素子に
対して共通にバイアス磁界を与えるバイアス磁界発生用
の電流を通ずるバイアス導体(4)を各チャンネルの配
列方向に沿って延在被着すると共に各配線導体(5)を
被着形成する。これら導体(4)及び(5)は金属層を
全面的に蒸着、スパッタリング等によって形成し、リン
グラフィ技術によってこれを選択的にエツチング除去し
て、夫々所定のA?ターンに形成し得る。また配線導体
(5)としては、後述する各MR素子の一端と、同様に
後述する定電流用抵抗素子凡の一端とを接続するに供す
る配線導体(5a)と、この配線導体(5a)から外部
に各出力端子を導出するに供する信号とシ出し用の配線
導体(5b)と、更に各MR素子の他端とこれに所定の
電位、例えば接地電位を印加する給電配線とを接続する
に供する配線導体(5C)と、更に必要に応じて定電流
用抵抗素子Rの他端に接続される島状導体(5d)とを
設けてなる。そしてこれらバイアス導体(4)及び配線
導体(5)を覆って、5t02等の絶縁層(6)を被覆
し、この絶縁層(6)に同様にリソグラフィによって各
チャンネルのMR,素子の両端が夫々接続される配線導
体(5a)及び(5G)の端部上に夫々MR素子の両端
を接続するに供するコンタクト用窓(7a)及び(7C
)を穿設すると同時に同様に配線導体(5a)の他端と
島状導体(5d)上に夫々後述する定電流用抵抗素子凡
の各両端を接続するに供するコンタクト用窓(7aつ及
び(7d)を穿設する。
そして、MR効果を有する金属層例えばNi−Fe系合
金或いはNi −Co系合金薄膜を蒸着、ス・ヤツタリ
ンク等ニヨッてこれら6窓(7a) 、(7a’) 、
(7c) 。
金或いはNi −Co系合金薄膜を蒸着、ス・ヤツタリ
ンク等ニヨッてこれら6窓(7a) 、(7a’) 、
(7c) 。
(7d)上を含んで全面的に形成し、同様にリソグラフ
ィ技術によって選択的にエツチング除去して各チャンネ
ルに対応するMR素子MR,Si、MRl、MR,2・
・・・・・M、Rn、 jdRs2を共通の・ぐイアス
導体(4)上に形成すると共に、その両端から各配線導
体(5a)及び(5C)の端部上に形成したコンタクト
窓(7a)及び(7C)に延在させてこれら各MR素子
の両端を夫々の対応する配線導体(5a)及び(5C)
に電気的に接続させる。MR2〜MRnはMRlと同一
構成であるので、以下の説明及び−面では記載を省略す
る。一方この各MR素子の形成と同時に導体(5a)及
び(5d)の各コンタクト窓(7a’)及び(7d’)
間に差し渡って例えば帯状パターンに定電流用抵抗素子
Rを形成する。
ィ技術によって選択的にエツチング除去して各チャンネ
ルに対応するMR素子MR,Si、MRl、MR,2・
・・・・・M、Rn、 jdRs2を共通の・ぐイアス
導体(4)上に形成すると共に、その両端から各配線導
体(5a)及び(5C)の端部上に形成したコンタクト
窓(7a)及び(7C)に延在させてこれら各MR素子
の両端を夫々の対応する配線導体(5a)及び(5C)
に電気的に接続させる。MR2〜MRnはMRlと同一
構成であるので、以下の説明及び−面では記載を省略す
る。一方この各MR素子の形成と同時に導体(5a)及
び(5d)の各コンタクト窓(7a’)及び(7d’)
間に差し渡って例えば帯状パターンに定電流用抵抗素子
Rを形成する。
そして更にこれら各1’t4R素子及び定電流用抵抗素
子R上を含んで5i02等の絶縁層(8)を全面的に被
着形成する。そして基板(1)上に積層形成された各絶
縁層、特に基板(1)の前方端繰上に臨む各チャンネル
の形成部において、必要に応じてこれら絶縁層の積層部
を所要の厚さすなわち最終的に得る磁気ギャップ長に対
応・する厚さにエツチング除去し、更に各MR素子MR
s1.MR1,・・−・・MRs2の各両端、すなわち
図においてコ字状パターンの端部間に挟まれる部分にお
ける基板(1)上の金属層(2)或いは絶縁層(31、
(61、(8)を必要に応じてエツチング除去して後述
する上部磁性体層の基板(11に対するコンタクト用の
窓(9)を穿設する。そしてこのコンタクト窓(9)、
更に磁気ギャップ部を含んで各MR素子上を跨ぐように
例えば/J?−マロイ、センダスト等の高透磁率磁性合
金層をスパッタリング等によって被着しフォトリングラ
フィによってこれをパターン化して各チャンネルchs
1 、 chl 、 ch2− chn。
子R上を含んで5i02等の絶縁層(8)を全面的に被
着形成する。そして基板(1)上に積層形成された各絶
縁層、特に基板(1)の前方端繰上に臨む各チャンネル
の形成部において、必要に応じてこれら絶縁層の積層部
を所要の厚さすなわち最終的に得る磁気ギャップ長に対
応・する厚さにエツチング除去し、更に各MR素子MR
s1.MR1,・・−・・MRs2の各両端、すなわち
図においてコ字状パターンの端部間に挟まれる部分にお
ける基板(1)上の金属層(2)或いは絶縁層(31、
(61、(8)を必要に応じてエツチング除去して後述
する上部磁性体層の基板(11に対するコンタクト用の
窓(9)を穿設する。そしてこのコンタクト窓(9)、
更に磁気ギャップ部を含んで各MR素子上を跨ぐように
例えば/J?−マロイ、センダスト等の高透磁率磁性合
金層をスパッタリング等によって被着しフォトリングラ
フィによってこれをパターン化して各チャンネルchs
1 、 chl 、 ch2− chn。
cbH2に対応して各MR素子MRs1.MR1−・・
MRs2上に所要の間隙dを保持して対向する対の磁気
コア部となる上部磁性体(10a)及び(10b)を例
えば帯状に形成する。この上部磁性体(10a)及び(
10b)は夫々MR素子を横切る方向に延長して形成さ
れ、前方の上部磁性体(10a) if磁性基板(1)
の前方端から各MR素子上に跨がシ、また後方の上部磁
性体(iob)はMR素子上からコンタクト窓(9)を
通じて基板(1)に磁気的に密に結合される。このよう
にして各チャンネルに関して基板(1)と上部磁性体(
10a)及び(iob)によってMR素子MR81、M
Rl・−−−−−MRB2を含んで夫々の閉磁路が形成
される。一方、抵抗素子Rの他端上の絶縁層(8)にコ
ンタクト窓(lid)を穿設し、また配線導体(5C)
の他端上の絶縁層(8)とこれの下の絶縁層(6)にコ
ンタクト窓(llc)を穿設し各窓(llc)及び(l
id)に対応して夫々各チャンネル部を横切るように共
通の給電配線導体(【2J及び[13を例えば全面蒸着
、フォトリソグラフィによるエツチングによる/ぐター
ン化によって形成する。
MRs2上に所要の間隙dを保持して対向する対の磁気
コア部となる上部磁性体(10a)及び(10b)を例
えば帯状に形成する。この上部磁性体(10a)及び(
10b)は夫々MR素子を横切る方向に延長して形成さ
れ、前方の上部磁性体(10a) if磁性基板(1)
の前方端から各MR素子上に跨がシ、また後方の上部磁
性体(iob)はMR素子上からコンタクト窓(9)を
通じて基板(1)に磁気的に密に結合される。このよう
にして各チャンネルに関して基板(1)と上部磁性体(
10a)及び(iob)によってMR素子MR81、M
Rl・−−−−−MRB2を含んで夫々の閉磁路が形成
される。一方、抵抗素子Rの他端上の絶縁層(8)にコ
ンタクト窓(lid)を穿設し、また配線導体(5C)
の他端上の絶縁層(8)とこれの下の絶縁層(6)にコ
ンタクト窓(llc)を穿設し各窓(llc)及び(l
id)に対応して夫々各チャンネル部を横切るように共
通の給電配線導体(【2J及び[13を例えば全面蒸着
、フォトリソグラフィによるエツチングによる/ぐター
ン化によって形成する。
給電配線導体α2には接地電位を与え、他方の配線導体
[+31は外部の定電圧電源Sに接続して所定の電位を
与える。また磁性基板(1)の前方縁とこれに臨む上部
磁性体(10a)の前方部とを全体的に研磨して磁気媒
体との対接面α船を形成する。このようにして磁気媒体
との対接面Iに臨んで上部磁性体(10a)と基板(1
)との間に金属層(2)或いは絶縁層(3)等によって
規制されるギヤツブ長尼を有する磁気ギャップgが夫々
形成される。
[+31は外部の定電圧電源Sに接続して所定の電位を
与える。また磁性基板(1)の前方縁とこれに臨む上部
磁性体(10a)の前方部とを全体的に研磨して磁気媒
体との対接面α船を形成する。このようにして磁気媒体
との対接面Iに臨んで上部磁性体(10a)と基板(1
)との間に金属層(2)或いは絶縁層(3)等によって
規制されるギヤツブ長尼を有する磁気ギャップgが夫々
形成される。
上述のように、従来のMRヘッド装置のMRヘッドはM
R素子と薄膜抵抗素子Rとの2種の熱発生源を持ってい
るので、多チャンネル(例えば24チヤンネル)の場合
、ヘッドの温度上昇が例えば50trと顕著であり、M
Rヘッドに対接する磁気記録媒体を損傷する虞れがあっ
た。
R素子と薄膜抵抗素子Rとの2種の熱発生源を持ってい
るので、多チャンネル(例えば24チヤンネル)の場合
、ヘッドの温度上昇が例えば50trと顕著であり、M
Rヘッドに対接する磁気記録媒体を損傷する虞れがあっ
た。
発明の目的
かかる点に鑑み、本発明の目的は温度上昇を抑制した多
チャンネルMRヘッド装置を提供することにある。
チャンネルMRヘッド装置を提供することにある。
発明の概要
本発明は複数の磁気抵抗効果素子と、この複数の磁気抵
抗効果素子と夫々各別に直列接続された定電流用抵抗器
と、この各定電流用抵抗器及び各磁気抵抗効果素子の各
接続中点に夫々接続された複数の信号導出用コンデンサ
とを具備する多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装
置において、複数の定電流用抵抗器及び複数の信号導出
用コンデンサが複数の磁気抵抗効果素子とは別体に一体
化されてなる多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装
置である。
抗効果素子と夫々各別に直列接続された定電流用抵抗器
と、この各定電流用抵抗器及び各磁気抵抗効果素子の各
接続中点に夫々接続された複数の信号導出用コンデンサ
とを具備する多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装
置において、複数の定電流用抵抗器及び複数の信号導出
用コンデンサが複数の磁気抵抗効果素子とは別体に一体
化されてなる多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装
置である。
かかる本発明によれば、熱源の分散によってMRヘッド
の温度上昇を抑制することができて、対接する磁気記録
媒体を損傷する虞がない。
の温度上昇を抑制することができて、対接する磁気記録
媒体を損傷する虞がない。
実施例
以下、第7図及び第8図を参照しながら、本発明による
磁気抵抗効果型磁気ヘッド装置の一実施例について説明
する。
磁気抵抗効果型磁気ヘッド装置の一実施例について説明
する。
第7図に本発明によるMRヘッド装置の一実施例を示す
。第7図において、第3図に対応する部分には同一の符
号を付して重複説明を省略する。
。第7図において、第3図に対応する部分には同一の符
号を付して重複説明を省略する。
第7図において、コンデンサアレイ(27つは収容する
コンデンサ素子数を従来例よシも少くとも2個増やし、
それぞれを上述の定電流用電源S及びIC用電源Bの安
定化用コンデンサCb及びCbbとして用いる。この際
、印刷配線板(30’)の配線パターンは、IC電源用
の端子を設ける等、所要の如く変更される。(40は抵
抗器ブロックを全体として示し、この抵抗器ブロック(
40はセラミック基板(41)の一方の面に、前述と同
様な定電流用抵抗素子R′が所要数配設されると共に、
電源端子(421及び定電流供給端子(43Iが基板(
41)のIC側及びヘッド側に配設される。
コンデンサ素子数を従来例よシも少くとも2個増やし、
それぞれを上述の定電流用電源S及びIC用電源Bの安
定化用コンデンサCb及びCbbとして用いる。この際
、印刷配線板(30’)の配線パターンは、IC電源用
の端子を設ける等、所要の如く変更される。(40は抵
抗器ブロックを全体として示し、この抵抗器ブロック(
40はセラミック基板(41)の一方の面に、前述と同
様な定電流用抵抗素子R′が所要数配設されると共に、
電源端子(421及び定電流供給端子(43Iが基板(
41)のIC側及びヘッド側に配設される。
従って、本実施例において、MRヘッドH′の磁性基板
(1勺には前述の定電流用抵抗素子Rを設けない。
(1勺には前述の定電流用抵抗素子Rを設けない。
抵抗器ブロック(40)の詳細な構成を第8図に示す。
第8図において、セラミック基板(411のIC側の端
縁(41a)及びヘッド側の端# (41b)には、電
源端子(421及びヘッドH′のチャンネル数m (=
n+2 )と同数の電流供給端子(431((431)
、 (432)・・・・・・(43m) :)が例え
ばAg −Pdの印刷・焼成によって設けられる。次に
、電源端子(42に接続される電源配線G!滲と電流供
給端子(43z) 、(432)・・・・・・(43m
)にそれぞれ接続される導体(451) 、 (452
)・・・・・・(45m)とが、Ag −Pdの印刷・
焼成によって設けられる。そして、電源配線(44)と
各導体(451) 、 (452)・・・・・・(45
m)との間をそれぞれ差し渡して、酸化ルテニウムRu
Oを印刷・焼成して厚膜抵抗器(461) 、 (46
2)・・・・・・(46m)が形成され、各厚膜抵抗器
は、必要に応じて、レーザートリミングによってその抵
抗値が調整される。調整済の抵抗器ブロック(4〔は、
端子(4Z 、 (43)を露出して、適宜の保護層・
によって被榎された後、各端子(42、(43)に半田
が被着される。そして、抵抗器ブロック(4t)の端子
面と印刷配線板(至)の上面(30a)とを所定位置で
対接させて、各端子に被着された半田をリフローすれば
、所要の接続状態が得られる。
縁(41a)及びヘッド側の端# (41b)には、電
源端子(421及びヘッドH′のチャンネル数m (=
n+2 )と同数の電流供給端子(431((431)
、 (432)・・・・・・(43m) :)が例え
ばAg −Pdの印刷・焼成によって設けられる。次に
、電源端子(42に接続される電源配線G!滲と電流供
給端子(43z) 、(432)・・・・・・(43m
)にそれぞれ接続される導体(451) 、 (452
)・・・・・・(45m)とが、Ag −Pdの印刷・
焼成によって設けられる。そして、電源配線(44)と
各導体(451) 、 (452)・・・・・・(45
m)との間をそれぞれ差し渡して、酸化ルテニウムRu
Oを印刷・焼成して厚膜抵抗器(461) 、 (46
2)・・・・・・(46m)が形成され、各厚膜抵抗器
は、必要に応じて、レーザートリミングによってその抵
抗値が調整される。調整済の抵抗器ブロック(4〔は、
端子(4Z 、 (43)を露出して、適宜の保護層・
によって被榎された後、各端子(42、(43)に半田
が被着される。そして、抵抗器ブロック(4t)の端子
面と印刷配線板(至)の上面(30a)とを所定位置で
対接させて、各端子に被着された半田をリフローすれば
、所要の接続状態が得られる。
本実施例はMR素子に定電流を供給するための抵抗器を
、抵抗器ブロックにまとめて、MRヘッドHから分離し
たので、熱源の分散によってMRヘッドの温度上昇を例
えば約20Cに抑制することができる。
、抵抗器ブロックにまとめて、MRヘッドHから分離し
たので、熱源の分散によってMRヘッドの温度上昇を例
えば約20Cに抑制することができる。
また、電源安定化用コンデンサCb及びCbbをMRヘ
ッド装置のコンデンサアレイ(27’)に組込むことに
よって、導線を含めた電源インピーダンスが低下し、外
部からの高周波ノイズの侵入を信号系の先頭部で抑圧す
ることができる。また、部品点数が低下し、装置の製造
工数が低下する。
ッド装置のコンデンサアレイ(27’)に組込むことに
よって、導線を含めた電源インピーダンスが低下し、外
部からの高周波ノイズの侵入を信号系の先頭部で抑圧す
ることができる。また、部品点数が低下し、装置の製造
工数が低下する。
上述の実施例では、定電流供給用抵抗器をブロックにま
とめたので、印刷配線板(至)の他に、セラミック基板
0υが必要となシ、ヘッド装置の小型化を制限する處が
あった。
とめたので、印刷配線板(至)の他に、セラミック基板
0υが必要となシ、ヘッド装置の小型化を制限する處が
あった。
この点を改良した本発明の他の実施例の要部を第9図に
示す。この第9図において、前出第2図に対応する部分
には同一の符号を付して重複説明を省略する。
示す。この第9図において、前出第2図に対応する部分
には同一の符号を付して重複説明を省略する。
第9図において、+501は多層印刷配線板を全体とし
て示し、この多層印刷配線板6ωはセラミック基板61
)の上面(51a)に3層、下面(51b)に1層の配
線パターンを有する。これらの配線ノ9ターンのうち、
上面(51a)の第1層及び下面(51b)に形成され
るパターン(51A)及び(51B)は、基本的には上
述の実施例の印刷配線板(至)と同一であるが、その形
成に厚膜印刷技法を用いるために、上述の実施例におけ
る抵抗器ブロック(4(Iと同様に、Ag −Pdの印
刷・焼成によって、下面(51b)に(図示を省略する
が)コンデンサアレイ接続用ランドC31) 、 L3
aが形成され、上面(51a)の第2層パターン(51
A)にはイ=号導出用及び電流供給用のボンディングパ
ッドc3.31. 図並びにこれらのノぐラドとランド
間を接続するための配線導体(331り 、 (344
りが形成される。
て示し、この多層印刷配線板6ωはセラミック基板61
)の上面(51a)に3層、下面(51b)に1層の配
線パターンを有する。これらの配線ノ9ターンのうち、
上面(51a)の第1層及び下面(51b)に形成され
るパターン(51A)及び(51B)は、基本的には上
述の実施例の印刷配線板(至)と同一であるが、その形
成に厚膜印刷技法を用いるために、上述の実施例におけ
る抵抗器ブロック(4(Iと同様に、Ag −Pdの印
刷・焼成によって、下面(51b)に(図示を省略する
が)コンデンサアレイ接続用ランドC31) 、 L3
aが形成され、上面(51a)の第2層パターン(51
A)にはイ=号導出用及び電流供給用のボンディングパ
ッドc3.31. 図並びにこれらのノぐラドとランド
間を接続するための配線導体(331り 、 (344
りが形成される。
こうして形成された上面第1層(51A)の上に厚膜印
刷によって5i02の第1絶縁層(図示を省略)を形成
し、この第1絶縁層の上に上面第2層ノ!ターン(51
C)を形成する。第2層パターン(51C)はAg −
Pdの印刷・焼成によって形成され、電源端子(5の及
び電源配線(52句並びに電流供給用配線−C(531
) 、・・・・・・(53m) :]から構成される。
刷によって5i02の第1絶縁層(図示を省略)を形成
し、この第1絶縁層の上に上面第2層ノ!ターン(51
C)を形成する。第2層パターン(51C)はAg −
Pdの印刷・焼成によって形成され、電源端子(5の及
び電源配線(52句並びに電流供給用配線−C(531
) 、・・・・・・(53m) :]から構成される。
第2層ノやターン(51C)の上に、5i02の第2絶
縁層(図示を省略)が形成され、この第2絶縁層の上に
上面第3層/4’ターン(51D)が形成される。第2
層パターン(51D)は、上述の実施例と同様に、酸化
ルテニウムRuOの印刷・焼成によって形成された厚膜
抵抗器(ト)((561) 、 (562)・曲・(5
6m) 〕から構成される。
縁層(図示を省略)が形成され、この第2絶縁層の上に
上面第3層/4’ターン(51D)が形成される。第2
層パターン(51D)は、上述の実施例と同様に、酸化
ルテニウムRuOの印刷・焼成によって形成された厚膜
抵抗器(ト)((561) 、 (562)・曲・(5
6m) 〕から構成される。
上述の第1層〜第3層パターン(51A) 、 (51
C)及び(51D)の形成時、所定の精度で位置合わせ
がなされることは勿論である。また、各層間の接続ハス
ヘテスルーホール技法を用いて行なわれておシ、例えは
、第3層□4 ター y (51D)の抵抗器(56m
)の両端部は、第2層パターン(51C)の電源配線(
521りの端部及び電流供給用配線(53m)の一方の
端部とそれぞれ重なっておシ、この重なった部分でスル
ーホール接続される。更に、第2層パターン(sic)
の電源供給用配線(53m)の他方の端部及び電源端子
(52は、第1層/4’ターン(51A)の配線導体(
34ffi)及び電源端子(至)とそれぞれ重なってお
シ、この重なった部分でスルーホール接続される。かく
て抵抗器(s6m)は所定の如く接続され、ヘッドH′
のMR素子に定電流を供給する。他の抵抗器についても
同様である。
C)及び(51D)の形成時、所定の精度で位置合わせ
がなされることは勿論である。また、各層間の接続ハス
ヘテスルーホール技法を用いて行なわれておシ、例えは
、第3層□4 ター y (51D)の抵抗器(56m
)の両端部は、第2層パターン(51C)の電源配線(
521りの端部及び電流供給用配線(53m)の一方の
端部とそれぞれ重なっておシ、この重なった部分でスル
ーホール接続される。更に、第2層パターン(sic)
の電源供給用配線(53m)の他方の端部及び電源端子
(52は、第1層/4’ターン(51A)の配線導体(
34ffi)及び電源端子(至)とそれぞれ重なってお
シ、この重なった部分でスルーホール接続される。かく
て抵抗器(s6m)は所定の如く接続され、ヘッドH′
のMR素子に定電流を供給する。他の抵抗器についても
同様である。
本実施例では、熱源の分散によってMRヘッドの温度上
昇を抑制することができる。また、定電流用抵抗器をコ
ンデンサアレイ搭載基板上に一体に形成したので、MR
ヘッド装置をよシ小型化することができると共に、部品
点数の減少にょシ、組立工数が低減される。
昇を抑制することができる。また、定電流用抵抗器をコ
ンデンサアレイ搭載基板上に一体に形成したので、MR
ヘッド装置をよシ小型化することができると共に、部品
点数の減少にょシ、組立工数が低減される。
発明の効果
以上詳述のように、本発明によれば定電流用抵抗器をコ
ンデンサアレイと一体化したので、熱源の分散によって
、MRヘッドの温度上昇を抑制することができて、対接
する磁気記録媒体を損傷する虞がない。
ンデンサアレイと一体化したので、熱源の分散によって
、MRヘッドの温度上昇を抑制することができて、対接
する磁気記録媒体を損傷する虞がない。
第1図は従来のMRヘッド装置の電気的構成を示す結線
図、第2図及び第3図は従来のMRヘッド装置の路線的
平面図及び断面図、第4図は従来のMRヘッドの平面図
、第5図及び第6図は第4図のv−v’線及びLVI’
線上の断面図、第7図及び第8図は本発明によるMRヘ
ッド装置の一実施例を示す路線的断面図及び要部斜視図
、第9図は本発明の他の実施例の要部を示す路線分解図
である。 H及びH′はMRヘッド、M”81 + MR82+M
R1・・・・・・MRilはMR素子、R、(46)及
び側は定電流用抵抗器、■はケーシング、0η及び(2
7’)はフンデンサアレイ、備及び(30’)は印刷配
線板、(40は抵抗器ブロック、50+は多層印刷配線
板である。 第1図 阿 第7図 第8図 第9図
図、第2図及び第3図は従来のMRヘッド装置の路線的
平面図及び断面図、第4図は従来のMRヘッドの平面図
、第5図及び第6図は第4図のv−v’線及びLVI’
線上の断面図、第7図及び第8図は本発明によるMRヘ
ッド装置の一実施例を示す路線的断面図及び要部斜視図
、第9図は本発明の他の実施例の要部を示す路線分解図
である。 H及びH′はMRヘッド、M”81 + MR82+M
R1・・・・・・MRilはMR素子、R、(46)及
び側は定電流用抵抗器、■はケーシング、0η及び(2
7’)はフンデンサアレイ、備及び(30’)は印刷配
線板、(40は抵抗器ブロック、50+は多層印刷配線
板である。 第1図 阿 第7図 第8図 第9図
Claims (1)
- 複数の磁気抵抗効果素子と、該複数の磁気抵抗効果素子
と夫々各別に直列接続された定電流用抵抗器と、該告示
電流用抵抗器及び上記各磁気抵抗効果素子の各接続中点
に夫々接続された複数の信号導出用コンデンサとを具備
する多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘッド装置におい
て、上記複数の定電流用抵抗器及び上記複数の信号導出
用コンデンサが上記複数の磁気抵抗効果素子とは別体に
一体化されてなることを特徴とする多チヤンネル磁気抵
抗効果型磁気ヘッド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58247809A JPH0640372B2 (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘツド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58247809A JPH0640372B2 (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘツド装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60143418A true JPS60143418A (ja) | 1985-07-29 |
| JPH0640372B2 JPH0640372B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=17168979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58247809A Expired - Lifetime JPH0640372B2 (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 多チヤンネル磁気抵抗効果型磁気ヘツド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0640372B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57161118U (ja) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 |
-
1983
- 1983-12-29 JP JP58247809A patent/JPH0640372B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57161118U (ja) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0640372B2 (ja) | 1994-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |