JPS60143460A - 光熱磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
光熱磁気記録媒体とその製造方法Info
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- JPS60143460A JPS60143460A JP23358383A JP23358383A JPS60143460A JP S60143460 A JPS60143460 A JP S60143460A JP 23358383 A JP23358383 A JP 23358383A JP 23358383 A JP23358383 A JP 23358383A JP S60143460 A JPS60143460 A JP S60143460A
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- Japan
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- thin film
- film layer
- layer
- recording medium
- gaseous
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は情報の記録・読み出しを光ビームを介して行な
う光熱磁気記録媒体及びその製造方法に係り、特に寿命
を改善した光熱磁気記録媒体及びその製造方法に関する
。
う光熱磁気記録媒体及びその製造方法に係り、特に寿命
を改善した光熱磁気記録媒体及びその製造方法に関する
。
希土類及び遷移金属からなる非晶質合金薄膜は光熱磁気
記録媒体として、＋１１非晶質故に粒界雑音が無い、
（ｌｉｔ広い組成範囲で垂直磁気異方性を有する、（ｔ
ｉｌｌ特に基板材質に限定されず、ガラス、シリコンウ
ェファ−あるいはアクリル等の有機材料といりた安価な
基板を使う事が出来る。（ＩＶＩ蒸着法、スパッタ法等
簡便な製膜技術が適用でき量産性が高い、といった特長
を有している。しかしながら大気中で容易に酸化され易
く寿命の点から信頼性に欠ける短所がある。媒体の記録
特性を損う事な（、前記した短所を改善する為には希土
類遷移金属合金層の上ｌこ酸化防止を目的とした保護層
を被覆するのが効果的であると知られている。従来技術
では、かかる保護層としては蒸着法又はスパッタ法で形
成した硅素第１酸化物又は硅素第２酸化物、ないしはス
ピナーコート法で形成した有機樹脂材料が用いられてい
る。しかしながら、かかる従来技術においては保護膜の
材質しいては物性が記録膜と大幅に異なる為に、（１）
保護膜厚を１μｍ以上に厚（すると剥離し易い、＋１７
保護膜力よ緻密さに欠落し、保護膜厚１μｍ程度では記
録層の酸化を回避できない、（ｌｉｔ）記録膜と保護膜
を形成する源（スパッタターゲット、蒸発源）が異なる
為、連続して膜形成を行−なう事が困難である、等の欠
点があった。
記録媒体として、＋１１非晶質故に粒界雑音が無い、
（ｌｉｔ広い組成範囲で垂直磁気異方性を有する、（ｔ
ｉｌｌ特に基板材質に限定されず、ガラス、シリコンウ
ェファ−あるいはアクリル等の有機材料といりた安価な
基板を使う事が出来る。（ＩＶＩ蒸着法、スパッタ法等
簡便な製膜技術が適用でき量産性が高い、といった特長
を有している。しかしながら大気中で容易に酸化され易
く寿命の点から信頼性に欠ける短所がある。媒体の記録
特性を損う事な（、前記した短所を改善する為には希土
類遷移金属合金層の上ｌこ酸化防止を目的とした保護層
を被覆するのが効果的であると知られている。従来技術
では、かかる保護層としては蒸着法又はスパッタ法で形
成した硅素第１酸化物又は硅素第２酸化物、ないしはス
ピナーコート法で形成した有機樹脂材料が用いられてい
る。しかしながら、かかる従来技術においては保護膜の
材質しいては物性が記録膜と大幅に異なる為に、（１）
保護膜厚を１μｍ以上に厚（すると剥離し易い、＋１７
保護膜力よ緻密さに欠落し、保護膜厚１μｍ程度では記
録層の酸化を回避できない、（ｌｉｔ）記録膜と保護膜
を形成する源（スパッタターゲット、蒸発源）が異なる
為、連続して膜形成を行−なう事が困難である、等の欠
点があった。
本発明は前記した従来技術の問題点を解決する為になさ
れたものであり、記録層と保護層とを具備する光熱磁気
記録媒体において、記録層との密着性が良好で、充分な
緻密性を有しかつそれ自身耐酸化性に優れた保護層を有
する光熱磁気記録媒体と該媒体を簡便に製造する方法と
を提供するものである。
れたものであり、記録層と保護層とを具備する光熱磁気
記録媒体において、記録層との密着性が良好で、充分な
緻密性を有しかつそれ自身耐酸化性に優れた保護層を有
する光熱磁気記録媒体と該媒体を簡便に製造する方法と
を提供するものである。
本発明は、前記した目的を達成する上で、希土類及び遷
移金属からなる光熱磁気記録層と、その保護層として、
希土類及び遷移金属及びに少（も炭素あるいは窒素を含
有する薄膜層とを有する光−熱磁気記録媒体とその製造
方法に関するものである。前記保護層は基本構成元素と
して希土類及び遷移金属１．安定化元素として炭素ある
いは窒素を含有するものであり、（１）熱膨張係数等の
物性か記録層のそれに近い為に記録層との密着性が優れ
ている。（１１）記録層と則等かそれ以上に緻密であり
気体を殆ど透過しない、Ｔｉ＋ｌ＋それ自体安定な炭化
物あるいは窒化物もしくは炭素又は窒素との混合物を形
成し耐酸化性、耐候性、耐湿性等に優れた特性を有する
、といった特長をもっており、かつ記録層形成と相前後
して、この保護層を形成する事が極めて安易である。
移金属からなる光熱磁気記録層と、その保護層として、
希土類及び遷移金属及びに少（も炭素あるいは窒素を含
有する薄膜層とを有する光−熱磁気記録媒体とその製造
方法に関するものである。前記保護層は基本構成元素と
して希土類及び遷移金属１．安定化元素として炭素ある
いは窒素を含有するものであり、（１）熱膨張係数等の
物性か記録層のそれに近い為に記録層との密着性が優れ
ている。（１１）記録層と則等かそれ以上に緻密であり
気体を殆ど透過しない、Ｔｉ＋ｌ＋それ自体安定な炭化
物あるいは窒化物もしくは炭素又は窒素との混合物を形
成し耐酸化性、耐候性、耐湿性等に優れた特性を有する
、といった特長をもっており、かつ記録層形成と相前後
して、この保護層を形成する事が極めて安易である。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の光熱磁気記録媒体の製造装置の一実施
例の構成図である。第１図において１は気゛ 密容器、
２はＴｂ及びＦｅよりなる複合ターゲット（Ｔｂ面積比
＝４０％）、３はガラス基板、４はＲＦ電源、５はＡｒ
ガス導入系、６はＣＨ，ガス導入系、７は排気系である
。以上の構成により、容器１内を２Ｘ１０”ｔｏｒｒま
で真空排気した後、一定流量のＡｒガスを５を介して導
入した容器１内部のガス圧力を２Ｑｍｔｏｒｒに維持し
た。次に電源４を投入しＲＦ亀方力２００Ｗ基板３の上
に１００ＯＡの’ｒｂ−Ｆｅ合金よりな払記録膜を形成
した。次に一旦電源４をオフにし、一定流量のＣＨ，ガ
スを容器１に導入した。この時のＣＨ４ガスのＡｒガス
に対する混合比は２０％とし、排気系を調整して混合ガ
ス圧力は２Ｑｍｔｏｒｒとした。
例の構成図である。第１図において１は気゛ 密容器、
２はＴｂ及びＦｅよりなる複合ターゲット（Ｔｂ面積比
＝４０％）、３はガラス基板、４はＲＦ電源、５はＡｒ
ガス導入系、６はＣＨ，ガス導入系、７は排気系である
。以上の構成により、容器１内を２Ｘ１０”ｔｏｒｒま
で真空排気した後、一定流量のＡｒガスを５を介して導
入した容器１内部のガス圧力を２Ｑｍｔｏｒｒに維持し
た。次に電源４を投入しＲＦ亀方力２００Ｗ基板３の上
に１００ＯＡの’ｒｂ−Ｆｅ合金よりな払記録膜を形成
した。次に一旦電源４をオフにし、一定流量のＣＨ，ガ
スを容器１に導入した。この時のＣＨ４ガスのＡｒガス
に対する混合比は２０％とし、排気系を調整して混合ガ
ス圧力は２Ｑｍｔｏｒｒとした。
次に再度ＲＦ、［力２００Ｗを投入し、前記した記録膜
上に５０ＯＡのＴｂ及びＦｅ及びＣからなる保護層を形
成した。第２図は上記した方法で製作した光熱磁気記録
媒体の構成図である。８はガラス基板、９は膜厚１００
０Ａの’ｒｂ−Ｐｅ合金からなる記録膜、１０は膜厚５
００ＡのＴｂ、Ｆｅ、Ｃからなる保護膜であるｂかがる
構成の記録媒体では情報の記録・読み出し用の元ビーム
は基板を介して照射される。
上に５０ＯＡのＴｂ及びＦｅ及びＣからなる保護層を形
成した。第２図は上記した方法で製作した光熱磁気記録
媒体の構成図である。８はガラス基板、９は膜厚１００
０Ａの’ｒｂ−Ｐｅ合金からなる記録膜、１０は膜厚５
００ＡのＴｂ、Ｆｅ、Ｃからなる保護膜であるｂかがる
構成の記録媒体では情報の記録・読み出し用の元ビーム
は基板を介して照射される。
第２図に示した光熱磁気記録媒体のヒステリシスループ
を振動試料型磁力計を用いて測定した。
を振動試料型磁力計を用いて測定した。
測定を、（前記媒体作成直後及び温度４０℃、湿度９８
％の恒温恒湿槽中に１０時′間放置した後で試みた結果
、両者で有意差は見られなかった。比較の為に前記した
と同一の装置を用い、１０００人のＴｂ−Ｆｅ記録膜膜
形成条件は前記実施例と同一とした単層の記録媒体（サ
ンプルＡ−１とする）及びサンプルＡ−１と同一のＴｂ
−Ｐｅｐ上にスパッタ法で５０ＯＡのシリコン酸化物膜
を保護膜として被覆した２層の記録媒体（サンプルＡ−
２とする）を製作し、前記実施例と同一の測定を行った
。その結果媒体作成直後の測定ではサンプルＡ−１．Ａ
−″２共、前記実施例と同一のヒステリシスループを示
したが恒温恒湿槽内（４０℃。
％の恒温恒湿槽中に１０時′間放置した後で試みた結果
、両者で有意差は見られなかった。比較の為に前記した
と同一の装置を用い、１０００人のＴｂ−Ｆｅ記録膜膜
形成条件は前記実施例と同一とした単層の記録媒体（サ
ンプルＡ−１とする）及びサンプルＡ−１と同一のＴｂ
−Ｐｅｐ上にスパッタ法で５０ＯＡのシリコン酸化物膜
を保護膜として被覆した２層の記録媒体（サンプルＡ−
２とする）を製作し、前記実施例と同一の測定を行った
。その結果媒体作成直後の測定ではサンプルＡ−１．Ａ
−″２共、前記実施例と同一のヒステリシスループを示
したが恒温恒湿槽内（４０℃。
９８％）に１０時間放置した後の測定ではサンプルＡ−
１の場合、飽和磁化、保磁力共に殆ど消失し、サンプル
Ａ−２の場合、飽和磁化は媒体作成直後の測定値の約２
／３、保磁力は同じ比較で約１／２に低下した。この比
較例からも明白な様に、本発明における保護層を使用し
た光熱磁気記録媒体の寿命は従来のものに比べ格段に耐
腐食性が向上している事が判る。
１の場合、飽和磁化、保磁力共に殆ど消失し、サンプル
Ａ−２の場合、飽和磁化は媒体作成直後の測定値の約２
／３、保磁力は同じ比較で約１／２に低下した。この比
較例からも明白な様に、本発明における保護層を使用し
た光熱磁気記録媒体の寿命は従来のものに比べ格段に耐
腐食性が向上している事が判る。
第３図は、光熱磁気記録媒体の他の実施例の構成図であ
る。１１はアクリル基板、１２は膜厚１００Å以下のＴ
ｂ、Ｆｅ、Ｃからなる第１の保護膜、１３は’ｒｂ−ｒ
ｅ合金からなる記録膜、１４は膜厚５００ＡのＴｂ 、
Ｆｅ 、Ｃからなる第２の保護膜である。かかる構成
においても第２図の構成同様に記録９読み出し用の元ビ
ームを基板側を介して照射する。この場合は第１の保護
膜層の膜厚を１００Ａ以下とする事で、入射光ビームの
殆どを第１の保護層を透過させ、記録膜へ到らしむる事
が可能である。しかるに、本発明における保護層は、気
体透過性を有するアクリル等の有機樹脂材料よりなる基
板を用いた場合にも有効で、基材を透過する大気中の酸
素分子による酸化を防止する膜としても使用できる。
る。１１はアクリル基板、１２は膜厚１００Å以下のＴ
ｂ、Ｆｅ、Ｃからなる第１の保護膜、１３は’ｒｂ−ｒ
ｅ合金からなる記録膜、１４は膜厚５００ＡのＴｂ 、
Ｆｅ 、Ｃからなる第２の保護膜である。かかる構成
においても第２図の構成同様に記録９読み出し用の元ビ
ームを基板側を介して照射する。この場合は第１の保護
膜層の膜厚を１００Ａ以下とする事で、入射光ビームの
殆どを第１の保護層を透過させ、記録膜へ到らしむる事
が可能である。しかるに、本発明における保護層は、気
体透過性を有するアクリル等の有機樹脂材料よりなる基
板を用いた場合にも有効で、基材を透過する大気中の酸
素分子による酸化を防止する膜としても使用できる。
又、上記実施例では記録層及び保護層中の希土類として
Ｔｂ、遷移金属としてＦｅ、保護層中の希土類としてＴ
ｂ、遷移金属としてＦｅ、を用いた例のみ述べたが１本
発明はＴｂ以外の希土類（例えばＧ ｄ 、 Ｄ ｙ
、 Ｈｏ等）Ｆｅ以外の遷移金属（例えばＣｏ、Ｎｉ等
）の各組合せよりなる記録膜を使用する際にも有効であ
る事は明らかである。又保護層中の安定化元素として炭
素の代りに窒素を用いた場合にも前記実施例と同様に耐
腐食性の向上かみられた。
Ｔｂ、遷移金属としてＦｅ、保護層中の希土類としてＴ
ｂ、遷移金属としてＦｅ、を用いた例のみ述べたが１本
発明はＴｂ以外の希土類（例えばＧ ｄ 、 Ｄ ｙ
、 Ｈｏ等）Ｆｅ以外の遷移金属（例えばＣｏ、Ｎｉ等
）の各組合せよりなる記録膜を使用する際にも有効であ
る事は明らかである。又保護層中の安定化元素として炭
素の代りに窒素を用いた場合にも前記実施例と同様に耐
腐食性の向上かみられた。
第１図は本発明の光熱磁気記録媒体の製造方法の一実施
例の構成図、第２図は本発明の光熱磁気記録媒体の一実
施例の構成図、第３図は本発明の光熱磁気記録媒体の他
の一実施例の構成図である。 １・・・密閉容器、２・・・ターゲット、３・・・基板
、４・・・電源、５．６・・・ガス導入系、７・・・排
気系、８゜１１・・・基板、９．１３・・・記録膜、１
０，１２．１４・・・保護膜。 代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図
例の構成図、第２図は本発明の光熱磁気記録媒体の一実
施例の構成図、第３図は本発明の光熱磁気記録媒体の他
の一実施例の構成図である。 １・・・密閉容器、２・・・ターゲット、３・・・基板
、４・・・電源、５．６・・・ガス導入系、７・・・排
気系、８゜１１・・・基板、９．１３・・・記録膜、１
０，１２．１４・・・保護膜。 代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からな
り、かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記録層とな
る第１の薄膜層と、該記録層の他に保護層となる第２の
薄膜とを具備する光熱磁気記録媒体において、前記第２
の薄膜層が希土類及び遷（２）希土類及び遷移金属を含
有する非合金からなり、かつ基板面に垂直に磁化容易軸
を有する記録層となる第１の薄膜層と、該薄膜層の他に
渫穫層となる第２の薄膜層とを具備する光熱磁気記録媒
体をスパッタ法により製造する方法において、前記第１
．第２の薄膜層の形成を通じて同一のターゲットを使用
し、第１の薄膜層形成時には該ターゲットを純アルゴン
ガスプラズマでスパッタし。 第２の薄膜層形成時には、前記ターゲットをアルゴン及
びメタンあるいは窒素の混合ガスプラズマでスパッタす
る事を特徴とする光熱磁気記録媒体の製造方法。 （３）希土類及び遷移金属を含有する非合金からなり、
かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記録層となる第
１の薄膜層と、該薄膜の他に保換層となる第２の薄膜層
とを具備する光熱磁気記録媒体を蒸着法により製造する
方法において、前記第１゜第２の薄膜層の形成を通じて
同一の蒸発源を使用し、第１の薄膜層形成時には該蒸発
源から蒸発した粒子を真空中あるいは純アルゴンガスプ
ラズマ中を通過させ基板に蒸着し、第２の薄膜層形成時
には前記蒸発粒子をアルゴン及びメタンあるいは窒素の
混合ガス中もしくは該混合ガスプラズマ中を通過させ基
板に蒸着する事を特徴とする光熱磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23358383A JPS60143460A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 光熱磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23358383A JPS60143460A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 光熱磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60143460A true JPS60143460A (ja) | 1985-07-29 |
Family
ID=16957339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23358383A Pending JPS60143460A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 光熱磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60143460A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62175947A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-08-01 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスクの製造方法 |
| JPS62195743A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-08-28 | Fujitsu Ltd | 光記録媒体の製造方法 |
| JPH01119939A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-12 | Hitachi Maxell Ltd | 光磁気記録媒体とその製造方法 |
-
1983
- 1983-12-13 JP JP23358383A patent/JPS60143460A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62175947A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-08-01 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスクの製造方法 |
| JPS62195743A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-08-28 | Fujitsu Ltd | 光記録媒体の製造方法 |
| JPH01119939A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-12 | Hitachi Maxell Ltd | 光磁気記録媒体とその製造方法 |
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