JPS6014754Y2 - 堅型還元炉の原料装入装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は竪型還元炉へ原料を装入する装置の改良に関す
るものである。

第１図に高圧竪型還元炉の炉頂装入装置の構成を示す。

装入コンベア１より装入された原料は、装入ホッパー２
内に一端貯留される。

次に均排圧ホッパー５内の圧力を大気まで減圧し、シー
ル弁４、ゲート弁３を開いて装入ホッパー２内の原料を
均排圧ホッパー５内に装入する。

その後シール弁４、ゲート３を閉じ均排圧ホッパー５を
還元炉８と同圧まで昇圧してシール弁７．ゲート弁６を
開き均排圧ホッパー５内の原料を還元炉８内に装入する
。

このとき装入コンベア１と装入ホッパー２間。

あるいは装入ホッパー２と均排圧ホッパー５間の距離が
長いと原料は、落下堆積時に割れや粉化あるいは分級を
おこし、ひいては還元炉の操業に悪影響を及ぼす場合が
ある。

従来このような装入装置で原料落下による原料割れ、粉
化等を防止せんとする場合には、ホッパー内に常時原料
を貯めた状態で原料レベル管理を行ないながら装入、排
出操作を行なう方法がとられていた。

しかしながらこの方法では、ホッパーへの原料装入量と
ホッパーからの排出量とのバランスをとる必要があり、
またホッパー内のレベル管理を正確に行なうことが困難
であった。

本考案はこれらを改善するために提供されるもので、そ
の特徴とするところは装入・排出は常に１バツチずつ行
ない。

（原則的にはレベル管理不要）しかも、原料落下距離を
縮めて原料の割れ、粉化等を防ぐ方法としてホッパー内
に内筒を入れるものである。

以下本考案を図面に基いて説明する。

第２図に示す如くホッパー５内の特に装入原料の落下経
路中に、上部及び底部の開放した内筒９を設置する。

（なお、本実施例では均排圧ホッパー５内に内筒９を設
けた場合を示したが、装入ホッパー２内に設けても良い
。

）以上構成に於て、いま装入初期、原料は内筒内に貯め
られるがホッパー５より容積が小さいため比較的早い期
に内筒９上部まで原料レベルがあがる。

その後、原料はこの内筒９よりオーバーフローしてホッ
パー５内に流出する。

この様にして装入原料の落下距離の長い時間を最小限に
とどめ装入原料の多くを内筒９からのオーバーフローに
より貯め原料の割れ、粉化を最小限にすることが期待で
きる。

本考案は以上説明した様にホッパー内に内筒を設置する
ことにより還元炉の操業に悪影響を及ぼす装入原料の割
れ、粉化、分級等を最小限にとどめることができるもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来装置説明図、第２図は本考案装置の説明図
である。 １・・・・・・装入コンベア、２・・・・・・装入ホッ
パー、３．６・・・・・・ゲート弁、４，７・・・・・
・シール弁、５・・・・・・均排圧ホッパー、８・・・
・・・竪型還元炉、９・曲・内筒。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 頂部に設けられたホッパーを介し、原料を炉内に装入す
   る如くなした原料装入装置に於て、上記ホッパー内の原
   料落下経路中に、上部及び底部を開放した内筒を設置し
   たことを特徴とする竪型還元炉の原料装入装置。