JPS601525A - 半導体式流量検出装置 - Google Patents
半導体式流量検出装置Info
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- JPS601525A JPS601525A JP58110399A JP11039983A JPS601525A JP S601525 A JPS601525 A JP S601525A JP 58110399 A JP58110399 A JP 58110399A JP 11039983 A JP11039983 A JP 11039983A JP S601525 A JPS601525 A JP S601525A
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- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えばエンジンの吸入空気流量を測定する
ものとして有用な半導体式流量検出装置に関する。
ものとして有用な半導体式流量検出装置に関する。
従来、トーマスメータあるいは熱線式流量針のように白
金抵抗線を用いた流量計が公知であるが、流体にさらさ
れる測定素子が線(ワイヤー)であるために振動、衝撃
等により断線しやすいという問題がある。
金抵抗線を用いた流量計が公知であるが、流体にさらさ
れる測定素子が線(ワイヤー)であるために振動、衝撃
等により断線しやすいという問題がある。
また、セラミック基板のような絶縁体上に抵抗体膜を蒸
着あるいは印刷する構造の流量計も提案されている。こ
れは測定素子が膜体であるため振動等に対しては強いが
、抵抗体膜を蒸着法あるいは印刷法により形成している
ために微細な加工ができず、測定素子の形状を大きくす
る必要があってこのために熱容量が増大して応答性が悪
化するという問題がある。
着あるいは印刷する構造の流量計も提案されている。こ
れは測定素子が膜体であるため振動等に対しては強いが
、抵抗体膜を蒸着法あるいは印刷法により形成している
ために微細な加工ができず、測定素子の形状を大きくす
る必要があってこのために熱容量が増大して応答性が悪
化するという問題がある。
この発明は、上記従来の欠点を解消するためになされた
もので、振動等に対する耐久性、応答性のすぐれた流量
検出装置を提供することを目的とする。
もので、振動等に対する耐久性、応答性のすぐれた流量
検出装置を提供することを目的とする。
この目的は本発明によれば、第1温度検出素子、ヒータ
及び第2温度検出素子を半導体チップ」二に形成し、か
つ上流側の第1温度検出素子をヒータより離れた位置に
、下流側の第2温度検出素子をヒータに近接した位置に
形成した構成とすることにより達成される。
及び第2温度検出素子を半導体チップ」二に形成し、か
つ上流側の第1温度検出素子をヒータより離れた位置に
、下流側の第2温度検出素子をヒータに近接した位置に
形成した構成とすることにより達成される。
以下、この発明を図に示す実施例について説明する。
第1図は、この発明になる半導体式流量検出装置を備え
た燃料噴射火花点火式エンジンの一例を示す。エンジン
1は、燃焼用空気をエアクリーナ2および吸入導管3を
経て吸気弁の開弁時に燃焼室へ吸入する。燃料は吸入導
管3に設置された電磁式燃料噴射弁6から噴射供給され
る。吸入空気流量は吸入導管3に設けられたスロットル
弁7を開閉操作することにより制御され、燃料噴射量は
電子制御ユニット8によって噴射弁6の開弁時間を変え
ることにより、基本的には吸入空気流量に見合った量、
必要に応じてこれに補正を加えた量に制御される。
た燃料噴射火花点火式エンジンの一例を示す。エンジン
1は、燃焼用空気をエアクリーナ2および吸入導管3を
経て吸気弁の開弁時に燃焼室へ吸入する。燃料は吸入導
管3に設置された電磁式燃料噴射弁6から噴射供給され
る。吸入空気流量は吸入導管3に設けられたスロットル
弁7を開閉操作することにより制御され、燃料噴射量は
電子制御ユニット8によって噴射弁6の開弁時間を変え
ることにより、基本的には吸入空気流量に見合った量、
必要に応じてこれに補正を加えた量に制御される。
上記エアクリーナ2の直下流には整流格子9が設けられ
る。この格子9は吸入空気の流れを整流し、流量検出装
置による流量測定の測定精度を向上させる役目をなす。
る。この格子9は吸入空気の流れを整流し、流量検出装
置による流量測定の測定精度を向上させる役目をなす。
このようなエンジンlの吸入系において、半導体式流量
検出装置IOはスロソ(・ル弁7と整流格子9との間で
吸入導管3に設置されている。この装置10はエンジン
1の吸入空気流量を測定し、それに応じた電気信号を制
御ユニット8に入力するもので、センサ部11と回路部
12よりなり、センサ部11は吸入導管3内に配置され
ている。
検出装置IOはスロソ(・ル弁7と整流格子9との間で
吸入導管3に設置されている。この装置10はエンジン
1の吸入空気流量を測定し、それに応じた電気信号を制
御ユニット8に入力するもので、センサ部11と回路部
12よりなり、センサ部11は吸入導管3内に配置され
ている。
次にこの検出装置10を吸入導管に取り付けた状態を示
す第2図により説明する。センサ部11と回路部12よ
りなる半導体式流量検出器IOはネジにより吸入導管3
に固定される。
す第2図により説明する。センサ部11と回路部12よ
りなる半導体式流量検出器IOはネジにより吸入導管3
に固定される。
センサ部11はハウジングの中に流体の流れと平行に流
体通路21を有し、その中心位置に流量検出するための
半導体チップが設置しである。センサ部11は2列のピ
ンを有するデュアルインラインパッケージ形式のケーシ
ング22を有しており、センサ部11はICテスタ等に
より評価選別された後半導体チ・7プの信号を出力する
2列のピン23を2個のソケット24に挿入し、振動等
によりはずれないよう接着固定される。
体通路21を有し、その中心位置に流量検出するための
半導体チップが設置しである。センサ部11は2列のピ
ンを有するデュアルインラインパッケージ形式のケーシ
ング22を有しており、センサ部11はICテスタ等に
より評価選別された後半導体チ・7プの信号を出力する
2列のピン23を2個のソケット24に挿入し、振動等
によりはずれないよう接着固定される。
回路部12は半導体チップの出力信号を処理して、流量
を表す信号をコネクタ25より出力する。
を表す信号をコネクタ25より出力する。
なお、ソケット24はセンサ部11を通過する流れが、
吸入導管3の壁面の境界層の影響を受けることなく、吸
入導管3の流量を代表できる位置になるよう吸入導管3
の中に突出している。また、流れが乱れて圧力損失が増
大するのを防ぐため、ソケット24の流れ方向の先輸を
鋭角にしである。
吸入導管3の壁面の境界層の影響を受けることなく、吸
入導管3の流量を代表できる位置になるよう吸入導管3
の中に突出している。また、流れが乱れて圧力損失が増
大するのを防ぐため、ソケット24の流れ方向の先輸を
鋭角にしである。
センサ部11を示ず第3図において、30はシリコン基
板上に第1温度検出素子、ヒータ素子、第2温度検出素
子が作られている半導体チ・ノブである。
板上に第1温度検出素子、ヒータ素子、第2温度検出素
子が作られている半導体チ・ノブである。
26はセラミック基板であり、リードピンとチップを電
気的に接続するよう導体ペーストが印刷焼成されていて
、リードピン23、チ・ノブ30がフリップチップバン
プ法によりI\ンダ付されてIl)る。
気的に接続するよう導体ペーストが印刷焼成されていて
、リードピン23、チ・ノブ30がフリップチップバン
プ法によりI\ンダ付されてIl)る。
なお、基板26にはその切欠き部分に2個の突出した支
持部27が形成されており、この部分でチップ30を空
気流にさらすように配置している。
持部27が形成されており、この部分でチップ30を空
気流にさらすように配置している。
これにより、セラミンク基板26のうち半導体チップを
固定し、信号を取り出すのに必要な部分だけが流体通路
21に位置する構造となり、半導体チップ22のヒータ
の熱のセラミック基板21に奪われる量と、セラミック
基板から気体へ熱伝達される量をより少な(し、ヒータ
の消費電力をより少なくしている。基板26は、例えば
PPSよりなるケーシング22に納められ支持される。
固定し、信号を取り出すのに必要な部分だけが流体通路
21に位置する構造となり、半導体チップ22のヒータ
の熱のセラミック基板21に奪われる量と、セラミック
基板から気体へ熱伝達される量をより少な(し、ヒータ
の消費電力をより少なくしている。基板26は、例えば
PPSよりなるケーシング22に納められ支持される。
ケーシング22の流入口28は、通路21内へ流れが乱
れることなく流入するようベルマウス形状となっている
。
れることなく流入するようベルマウス形状となっている
。
また、半導体チップ30への流れがよどむのを防ぐため
に、ハウジング22の上部の内面Xをデツプ30に流れ
が斜めから当るよう半導体チップ側に突出する構造にし
である。このような構造にすることにより精度良く流量
検出できる。
に、ハウジング22の上部の内面Xをデツプ30に流れ
が斜めから当るよう半導体チップ側に突出する構造にし
である。このような構造にすることにより精度良く流量
検出できる。
次に半導体チップ30の構成について説明する。
半導体の温度検出素子としては、ダイオードまたはトラ
ンジスタを形成し、この順方向電圧が温度に対し2.0
〜2.5mV/”cのリニアな特性を持つことを利用し
て温度検出するものと、拡散法により形成した拡散抵抗
の抵抗値が温度により変化することを利用して温度検出
するものと2通りの方法が考えられるが、この実施例で
はダイオードにより温度検出素子を形成している。′ 半導体チッソ30を示す第4A図において、斜線部分は
アルミ電極の部分である。31は拡散抵抗よりなるヒー
タで、半導体チップ30上で中心よりやや下流側(図中
右方)に偏位した位置に形成されている。32はダイオ
ードよりなる第1温度検出素子で、チップ30上でヒー
タ31より上流側であってヒータ31より離れた位置に
形成されている。33はダイオードよりなる第2温度検
出素子でチップ30上でヒータ31より下流側であって
ヒータ31に近接した位置に形成されている。
ンジスタを形成し、この順方向電圧が温度に対し2.0
〜2.5mV/”cのリニアな特性を持つことを利用し
て温度検出するものと、拡散法により形成した拡散抵抗
の抵抗値が温度により変化することを利用して温度検出
するものと2通りの方法が考えられるが、この実施例で
はダイオードにより温度検出素子を形成している。′ 半導体チッソ30を示す第4A図において、斜線部分は
アルミ電極の部分である。31は拡散抵抗よりなるヒー
タで、半導体チップ30上で中心よりやや下流側(図中
右方)に偏位した位置に形成されている。32はダイオ
ードよりなる第1温度検出素子で、チップ30上でヒー
タ31より上流側であってヒータ31より離れた位置に
形成されている。33はダイオードよりなる第2温度検
出素子でチップ30上でヒータ31より下流側であって
ヒータ31に近接した位置に形成されている。
ここで半導体チップ30は、14B図に示すようにN+
のシリコン基板に、例えばボロンのようなP型不純物を
42に拡散し、N型不純物43を拡散した後、SiO2
膜13をエツチングしてアルミ44を蒸着して、最後に
保護膜45を付けて製作される。ここで保護膜としては
9.5i02、S I C% 313 N 4等が考え
られる。
のシリコン基板に、例えばボロンのようなP型不純物を
42に拡散し、N型不純物43を拡散した後、SiO2
膜13をエツチングしてアルミ44を蒸着して、最後に
保護膜45を付けて製作される。ここで保護膜としては
9.5i02、S I C% 313 N 4等が考え
られる。
上記構成において、半導体チップ30のヒータ31で電
力を消費さ鷺ると、その熱は通路21内を流れる空気流
及びシリコン基板に伝達される。
力を消費さ鷺ると、その熱は通路21内を流れる空気流
及びシリコン基板に伝達される。
ここで、第1温度検出素子32をヒータ31より離れた
位置とし、第2温度検出素子33をヒータ31に近接し
た位置としているので、第1温度検出素子32と第2温
度検出素子33とではヒータ30からの熱伝導が太き(
異なり、さらに空気流から受ける熱の影響も大きく異な
る。
位置とし、第2温度検出素子33をヒータ31に近接し
た位置としているので、第1温度検出素子32と第2温
度検出素子33とではヒータ30からの熱伝導が太き(
異なり、さらに空気流から受ける熱の影響も大きく異な
る。
半導体チップ30の温度勾配を示したのが第5図で、矢
印31がヒータ、矢印32が第1温度検出素子、矢印3
3が第2温度検出素子の部分を示している。この図から
れかるように本願によれば第1と第2の温度検出素子3
2.33の温度を大きく異なった値にでき、精度良く流
量を検出できる。なお、第5図で曲#aAは流量がゼロ
、曲線Bは流量が20 g / s e c、曲線Cは
、流量が50g / s e cの状態を示している。
印31がヒータ、矢印32が第1温度検出素子、矢印3
3が第2温度検出素子の部分を示している。この図から
れかるように本願によれば第1と第2の温度検出素子3
2.33の温度を大きく異なった値にでき、精度良く流
量を検出できる。なお、第5図で曲#aAは流量がゼロ
、曲線Bは流量が20 g / s e c、曲線Cは
、流量が50g / s e cの状態を示している。
第6図は、流量に対する第1と第2の温度検出素子32
.33の温度差ΔTを示したもので、ヒータと、第1と
第2の温度検出素子間の距離を同一とすると、曲線Eで
示すように温度差ΔTはごくわずかしか変化しないが、
本願では曲線りで示すように温度Δ1゛は大きく変化し
、これからも精度の良い流量検出が可能であることがわ
かる。
.33の温度差ΔTを示したもので、ヒータと、第1と
第2の温度検出素子間の距離を同一とすると、曲線Eで
示すように温度差ΔTはごくわずかしか変化しないが、
本願では曲線りで示すように温度Δ1゛は大きく変化し
、これからも精度の良い流量検出が可能であることがわ
かる。
また温度検出素子及びヒータは、固体であって線(ワイ
ヤー)でないため断線については問題がないし、通常の
半導体製造技術を用いて製造できるので微細加工が可能
となり、この部分の体格、即ち熱容量が小さくなって応
答性が向上する。
ヤー)でないため断線については問題がないし、通常の
半導体製造技術を用いて製造できるので微細加工が可能
となり、この部分の体格、即ち熱容量が小さくなって応
答性が向上する。
しかして、ダイオード32.33の電位差がオフセント
電圧に等しくなるように回路部12によりヒータ30の
発熱量が制御され、ダイオード32と33の温度差が所
定値に制御される。このように制御されると、ヒータ3
0で消費される電力は、流量と所定の関数関係になり、
流量に対しである曲線に従って増加する。一方、ヒータ
30の消費電力はその端子電圧として出力されるのでそ
れが流量に応じた信号となる。この回路部12について
は公知であるため詳細は省略する。
電圧に等しくなるように回路部12によりヒータ30の
発熱量が制御され、ダイオード32と33の温度差が所
定値に制御される。このように制御されると、ヒータ3
0で消費される電力は、流量と所定の関数関係になり、
流量に対しである曲線に従って増加する。一方、ヒータ
30の消費電力はその端子電圧として出力されるのでそ
れが流量に応じた信号となる。この回路部12について
は公知であるため詳細は省略する。
第7A図及び第7B図は、半導体チップの第2実施例を
示している。本実施例ではチップ上の温度勾配をさらに
大きくして精度を上げるために、チップの裏面をエツチ
ングして凹形状としている。
示している。本実施例ではチップ上の温度勾配をさらに
大きくして精度を上げるために、チップの裏面をエツチ
ングして凹形状としている。
ここで、通常300μm程度あるシリコンウェハを素子
に影響しないようにG部で50μm程度エツチングする
ことで、温度勾配を大きくすることができる。また、こ
のエツチング部Gにより、チップ自体の熱容量が小さく
なり、応答性も改善される。
に影響しないようにG部で50μm程度エツチングする
ことで、温度勾配を大きくすることができる。また、こ
のエツチング部Gにより、チップ自体の熱容量が小さく
なり、応答性も改善される。
この実施例においては、第1温度検出素子32とヒータ
30との間をエツチングして温度勾配を大きくすること
により、第1実施例よりさらに流量による温度変化を大
きくでき精度は向上する。
30との間をエツチングして温度勾配を大きくすること
により、第1実施例よりさらに流量による温度変化を大
きくでき精度は向上する。
第8A図及び第8B図は第3実施例で、流れ方向に対し
て第1温度検出素子32、第2温度検出素子33、ヒー
タ31の順でと配置したもので、流量により素子32.
33の温度差が大きくなるように素子32.33の距離
を大きくとり、素子33とヒータ3■の距離を短くしで
ある。破線の部分は裏面エツチングしである。
て第1温度検出素子32、第2温度検出素子33、ヒー
タ31の順でと配置したもので、流量により素子32.
33の温度差が大きくなるように素子32.33の距離
を大きくとり、素子33とヒータ3■の距離を短くしで
ある。破線の部分は裏面エツチングしである。
第3実施例では、流れに対して素子32.33、ヒータ
31の順で配置しであるが、第9A図、第9B図に第4
実施例のようにヒータ31、素子33、素子32の順に
配置してもよい。
31の順で配置しであるが、第9A図、第9B図に第4
実施例のようにヒータ31、素子33、素子32の順に
配置してもよい。
また、上記実施例では温度針としてダイオード、ヒータ
として抵抗を用いたが、ダイオードをトランジスタに、
抵抗をトランジスタに置き換えることもできる。トラン
ジスタを温度検出素子として用いると、入出力ピンが1
本多く必要となるが、温度係数の調整が容易になる。
として抵抗を用いたが、ダイオードをトランジスタに、
抵抗をトランジスタに置き換えることもできる。トラン
ジスタを温度検出素子として用いると、入出力ピンが1
本多く必要となるが、温度係数の調整が容易になる。
また上記実施例では、チップの取り扱いが容易になるよ
うにデツプの端をエツチングしてないが、チップ製造工
程の最後で裏面全部をエツチングして薄くすることも考
えられる。
うにデツプの端をエツチングしてないが、チップ製造工
程の最後で裏面全部をエツチングして薄くすることも考
えられる。
以上述べたようにこの発明によれば耐久性、応答性の点
で優れているという〃J果がある。また、測定精度も向
上できる。
で優れているという〃J果がある。また、測定精度も向
上できる。
第1図はこの発明になる装置を備えたエンジンの構成図
、第2図は第1図に図示した装置の要部の断面斜視図、
第3図は第2図に図示したセンサ部の部分断面斜視図、
第4A図及び第4B図はそれぞれ半導体チップを示す平
面図及び断面図、第5図及び第6図は作動説明にイバす
るグラフ、第7A図及び第7B図はそれぞれこの発明の
第2実施例を示す平面図及び断面図、第8Δ図及び第8
B図はそれぞれこの発明の第3実施例を示す平面図及び
断面図、第9A図及び第9B図はそれぞれこの発明の第
4実施例を示す平面図及び断面図である。 30・・・半導体デツプ、31・・・ヒータ、32.3
3・・・温度検出素子、G・・・エツチング部。 代理人弁理士 岡 部 隆 第4A図 第4B図 第5図 第6図 第7A図 9n 第8A図 第88図
、第2図は第1図に図示した装置の要部の断面斜視図、
第3図は第2図に図示したセンサ部の部分断面斜視図、
第4A図及び第4B図はそれぞれ半導体チップを示す平
面図及び断面図、第5図及び第6図は作動説明にイバす
るグラフ、第7A図及び第7B図はそれぞれこの発明の
第2実施例を示す平面図及び断面図、第8Δ図及び第8
B図はそれぞれこの発明の第3実施例を示す平面図及び
断面図、第9A図及び第9B図はそれぞれこの発明の第
4実施例を示す平面図及び断面図である。 30・・・半導体デツプ、31・・・ヒータ、32.3
3・・・温度検出素子、G・・・エツチング部。 代理人弁理士 岡 部 隆 第4A図 第4B図 第5図 第6図 第7A図 9n 第8A図 第88図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11半導体チップ上に形成されたヒータと、前記半導
体チップ上であって、かつ前記ヒータより離れた位置に
形成された第1温度検出素子と、前記半導体チップ上で
あって、かつ前記ヒータに近接した位置に形成された第
2温度検出素子とを備えることを特徴とする半導体式流
量検出装置。 (2)前記半導体デツプの裏面がエソヂングにより凹形
状に形成されている特許請求の範囲第1項記載の半導体
式流量検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58110399A JPS601525A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 半導体式流量検出装置 |
| US06/802,616 US4693116A (en) | 1983-06-20 | 1985-11-27 | Semiconductor-chip gas-flow measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58110399A JPS601525A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 半導体式流量検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601525A true JPS601525A (ja) | 1985-01-07 |
Family
ID=14534815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58110399A Pending JPS601525A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 半導体式流量検出装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4693116A (ja) |
| JP (1) | JPS601525A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61235725A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 流量センサ |
| JPS62263417A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | Nippon Soken Inc | 熱式流量センサ |
| JPH01301120A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体流速センサ |
| JPH0285723A (ja) * | 1988-09-22 | 1990-03-27 | Hitachi Ltd | ホツトフイルム形空気流量計 |
| JP2008039704A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 風速センサ、風量センサ、及び燃料電池システム |
| DE112013003175B4 (de) | 2012-06-29 | 2022-03-17 | Hitachi Astemo, Ltd. | Thermische Luftstromsensoren und zugehörige Herstellverfahren |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63177023A (ja) * | 1987-01-19 | 1988-07-21 | Nippon Soken Inc | 流量センサ |
| WO1989001132A1 (en) * | 1987-07-27 | 1989-02-09 | Solid State Flowmeters Pty Ltd | Heated semiconductor measurement of fluid flow |
| NL8901602A (nl) * | 1989-06-23 | 1991-01-16 | Bronkhorst High Tech Bv | Geintegreerde halfgeleider-schakeling voor thermische metingen. |
| WO1991019170A1 (en) * | 1990-06-04 | 1991-12-12 | Mcpherson's Limited | Flow sensor and control system |
| JPH07111367B2 (ja) * | 1991-02-26 | 1995-11-29 | ディーエクスエル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 流量センサおよびその検査方法 |
| US5359878A (en) * | 1991-02-26 | 1994-11-01 | Dxl International, Inc. | Apparatus and method for in-line calibration verification of mass flow meters |
| JP2666163B2 (ja) * | 1991-12-04 | 1997-10-22 | 山武ハネウエル株式会社 | 流速センサの温度特性補正方法 |
| DE4344101C2 (de) * | 1993-12-20 | 1996-02-22 | Birnbaum Jacek | Vorrichtung zur Luftmassenmessung im Lufteinlaßkanal einer Brennkraftmaschine |
| US5631417A (en) * | 1995-09-06 | 1997-05-20 | General Motors Corporation | Mass air flow sensor structure with bi-directional airflow incident on a sensing device at an angle |
| WO1997049998A1 (en) | 1996-06-26 | 1997-12-31 | Simon Fraser University | Accelerometer without proof mass |
| US6182509B1 (en) | 1996-06-26 | 2001-02-06 | Simon Fraser University | Accelerometer without proof mass |
| US6589433B2 (en) | 1996-06-26 | 2003-07-08 | Simon Fraser University | Accelerometer without proof mass |
| JP3981907B2 (ja) | 1998-10-21 | 2007-09-26 | 株式会社デンソー | 流量測定装置 |
| JP4474771B2 (ja) | 2000-12-20 | 2010-06-09 | 株式会社デンソー | 流量測定装置 |
| DE10142269A1 (de) * | 2001-08-29 | 2003-04-03 | Siemens Dematic Ag | Vorrichtung zum Aufnehmen und/oder Absetzen sowie Verfahren zum Erfassen von beweglichen Bauelementen |
| EP1426740B1 (de) * | 2002-11-27 | 2014-11-19 | Sensirion Holding AG | Vorrichtung zur Messung des Flusses und mindestens eines Materialparameters eines Fluids |
| EP2175246B1 (en) | 2008-10-09 | 2017-07-19 | Sensirion AG | A method for measuring a fluid composition parameter by means of a flow sensor |
| EP2204555B1 (en) * | 2009-01-02 | 2011-08-03 | Sensirion AG | Ammonia storage system |
| US12385770B2 (en) * | 2022-12-13 | 2025-08-12 | Halliburton Energy Services, Inc. | System and method of determining reservoir fluid flow condition and composition downhole |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2724271A (en) * | 1950-01-03 | 1955-11-22 | Sun Oil Co | Thermal flowmeter |
| US3374673A (en) * | 1965-10-01 | 1968-03-26 | Technology Inc | Mass flowmeter structure |
| US3438258A (en) * | 1967-06-09 | 1969-04-15 | Bendix Corp | Fluidic temperature sensor and pressure regulator |
| US3680377A (en) * | 1970-08-17 | 1972-08-01 | Hewlett Packard Co | Fluid flow meter |
| US3881181A (en) * | 1973-02-22 | 1975-04-29 | Rca Corp | Semiconductor temperature sensor |
| US3992940A (en) * | 1973-11-02 | 1976-11-23 | Chrysler Corporation | Solid state fluid flow sensor |
| US3996799A (en) * | 1975-09-29 | 1976-12-14 | Putten Antonius Ferdinandus Pe | Device for measuring the flow velocity of a medium |
| JPS5256214A (en) * | 1975-11-01 | 1977-05-09 | Nippon Soken Inc | Air intake capacity detector for internal combustion engine |
| DE2925975A1 (de) * | 1979-06-27 | 1981-01-15 | Siemens Ag | Mengendurchflussmesser |
| US4471647A (en) * | 1980-04-18 | 1984-09-18 | Board Of Regents Of Stanford University | Gas chromatography system and detector and method |
| JPS56162014A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-12 | Nippon Denso Co Ltd | Measuring device for flow rate of gas |
| US4501144A (en) * | 1982-09-30 | 1985-02-26 | Honeywell Inc. | Flow sensor |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP58110399A patent/JPS601525A/ja active Pending
-
1985
- 1985-11-27 US US06/802,616 patent/US4693116A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61235725A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 流量センサ |
| JPS62263417A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | Nippon Soken Inc | 熱式流量センサ |
| JPH01301120A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体流速センサ |
| JPH0285723A (ja) * | 1988-09-22 | 1990-03-27 | Hitachi Ltd | ホツトフイルム形空気流量計 |
| JP2008039704A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 風速センサ、風量センサ、及び燃料電池システム |
| DE112013003175B4 (de) | 2012-06-29 | 2022-03-17 | Hitachi Astemo, Ltd. | Thermische Luftstromsensoren und zugehörige Herstellverfahren |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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