JPS60154582A - ホ−ル素子 - Google Patents
ホ−ル素子Info
- Publication number
- JPS60154582A JPS60154582A JP59010458A JP1045884A JPS60154582A JP S60154582 A JPS60154582 A JP S60154582A JP 59010458 A JP59010458 A JP 59010458A JP 1045884 A JP1045884 A JP 1045884A JP S60154582 A JPS60154582 A JP S60154582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- junction
- schottky
- bias voltage
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N52/00—Hall-effect devices
- H10N52/101—Semiconductor Hall-effect devices
Landscapes
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明はホール素子の構造に関するものである。
(従来技術)
ホール素子は磁電変換素子としてV’l’R,プレーヤ
ー等に使用されるモーターに最近非常に多く使われてい
る。
ー等に使用されるモーターに最近非常に多く使われてい
る。
ホール素子の形状は通常、第1図に示すように半導体を
十字形状に形成したもので、素子に垂直な外部磁場Bの
下で端部A−A’に入力電流を流すと端部C−C’にホ
ール出力電圧VHが得られる。この場fr、ホール出力
電圧VHの大きさは、よく知られ1いるように下式で表
わされる。
十字形状に形成したもので、素子に垂直な外部磁場Bの
下で端部A−A’に入力電流を流すと端部C−C’にホ
ール出力電圧VHが得られる。この場fr、ホール出力
電圧VHの大きさは、よく知られ1いるように下式で表
わされる。
””BI/eNd
ここでBは外部磁場、■は入力電流、Nはキャリア濃度
、dは素子厚さ、eは電子の電荷量である。
、dは素子厚さ、eは電子の電荷量である。
通常出力電圧VHの大きさと入力抵抗あるいは消費TJ
L 力を考慮して、N−1×1011−3d=o、2〜
0.3μmK選ぶのが適当である。
L 力を考慮して、N−1×1011−3d=o、2〜
0.3μmK選ぶのが適当である。
しかしながら、実際の結晶製作の際には、濃度及び厚さ
がウェハー間はもちろんのことウェハー面内でもかなシ
ばらつき、この為前記の式からも明らかなように同一の
電流、磁場の下でも各素子によシ出力紙圧がかなシ違う
という事態が生ずる。
がウェハー間はもちろんのことウェハー面内でもかなシ
ばらつき、この為前記の式からも明らかなように同一の
電流、磁場の下でも各素子によシ出力紙圧がかなシ違う
という事態が生ずる。
(発明の目的)
本発明の目的は出力電圧のバラツキの少いホール素子を
得る仁とにある。
得る仁とにある。
(発明の構成)
本発明によれは、入力電流通路上にシgyyトキ接合あ
るいはPN接合を設け、との接合に外部よりバイアス電
圧を加え素子の厚さdを加減することにより、出力電、
圧を一定としたホール素子を得る。かかるホール素子に
よれば濃度、厚さのばらつきによシ出力電圧が違ってく
るという従来の欠点を解消できる。
るいはPN接合を設け、との接合に外部よりバイアス電
圧を加え素子の厚さdを加減することにより、出力電、
圧を一定としたホール素子を得る。かかるホール素子に
よれば濃度、厚さのばらつきによシ出力電圧が違ってく
るという従来の欠点を解消できる。
(発明の実施例)
以下、本発明と図面を参照してよシ詳細に説明する。
第2図は本発明の一実施例によるボール素子断面の略図
である。領域1は不純物濃度I X 101’13 ぼ のN型単結晶層であり領域2はN型単結晶層の領域
1とショットキー接合を形成するようなショットキーメ
タルである。領域3はショットキー接合による空乏層で
あり、この長さlは外部よシ印加する逆バイアス電圧V
によって変化させることがf%る。従って入力電流工の
通路の厚さd−jが、逆バイアス電圧によって可変であ
シ、前記式よシわかるようにホール出力電圧VHを外部
バイアス電圧■によって制御できることになる。
である。領域1は不純物濃度I X 101’13 ぼ のN型単結晶層であり領域2はN型単結晶層の領域
1とショットキー接合を形成するようなショットキーメ
タルである。領域3はショットキー接合による空乏層で
あり、この長さlは外部よシ印加する逆バイアス電圧V
によって変化させることがf%る。従って入力電流工の
通路の厚さd−jが、逆バイアス電圧によって可変であ
シ、前記式よシわかるようにホール出力電圧VHを外部
バイアス電圧■によって制御できることになる。
本発明によるホール素子の実際の構造の平面を第3図に
示す。図中斜線で示した部分がショットキーメタルであ
る。辷れは上記説明から明らかなように入力電流通路の
うち、出力電圧を取り出す一部のみに形成すれば充分で
ある。ショットキーメタルの代わシにP層を形成しても
目的が達成されるととも上記説明から明白である。また
出力電圧の温度による変動も外部電圧によって補正でき
る。
示す。図中斜線で示した部分がショットキーメタルであ
る。辷れは上記説明から明らかなように入力電流通路の
うち、出力電圧を取り出す一部のみに形成すれば充分で
ある。ショットキーメタルの代わシにP層を形成しても
目的が達成されるととも上記説明から明白である。また
出力電圧の温度による変動も外部電圧によって補正でき
る。
以上のように本発明によればホール出力電圧を外部バイ
アス電圧によっ°C制御でき、素子間のばらつきあるい
は温度による変動を防ぐことができる。
アス電圧によっ°C制御でき、素子間のばらつきあるい
は温度による変動を防ぐことができる。
第1図は従来のホール素子を示す斜視図でおυ。
第2図は本発明の一実施例によるホール素子の断、、、
Tよ、あ、、□3よ。よ。−□6よ、オ □ニール素子
の斜視図である。 1・・・・・・N型単結晶層、2・・・・・・ショット
キメタル。 3・・・・・・空乏層。 代理人 弁理士 内 原 晋 h1図 筋1図 第3 図
Tよ、あ、、□3よ。よ。−□6よ、オ □ニール素子
の斜視図である。 1・・・・・・N型単結晶層、2・・・・・・ショット
キメタル。 3・・・・・・空乏層。 代理人 弁理士 内 原 晋 h1図 筋1図 第3 図
Claims (1)
- 入力電流通路の・一部にショットキ接合あるいはPN接
合を設け、該接合部にバイアス電圧を印加し前記入力電
流通路の厚さを変化させ得るようにしたことを特徴とす
るホール素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59010458A JPS60154582A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | ホ−ル素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59010458A JPS60154582A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | ホ−ル素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60154582A true JPS60154582A (ja) | 1985-08-14 |
Family
ID=11750692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59010458A Pending JPS60154582A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | ホ−ル素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60154582A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62122184A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-03 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| JPS62122185A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-03 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| US6542068B1 (en) * | 1998-04-27 | 2003-04-01 | Myonic Ag | Vertical hall effect sensor and a brushless electric motor having a vertical hall effect sensor |
| CN102881817A (zh) * | 2011-07-14 | 2013-01-16 | 迈克纳斯公司 | 磁场传感器和用于确定和校正磁场传感器的偏置电压的方法 |
-
1984
- 1984-01-23 JP JP59010458A patent/JPS60154582A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62122184A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-03 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| JPS62122185A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-03 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| US6542068B1 (en) * | 1998-04-27 | 2003-04-01 | Myonic Ag | Vertical hall effect sensor and a brushless electric motor having a vertical hall effect sensor |
| CN102881817A (zh) * | 2011-07-14 | 2013-01-16 | 迈克纳斯公司 | 磁场传感器和用于确定和校正磁场传感器的偏置电压的方法 |
| US9689931B2 (en) | 2011-07-14 | 2017-06-27 | Tdk-Micronas Gmbh | Magnetic field sensor and method for determining and correcting an offset voltage of a magnetic field sensor |
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