JPS60166049A - 流体純化装置 - Google Patents
流体純化装置Info
- Publication number
- JPS60166049A JPS60166049A JP59020791A JP2079184A JPS60166049A JP S60166049 A JPS60166049 A JP S60166049A JP 59020791 A JP59020791 A JP 59020791A JP 2079184 A JP2079184 A JP 2079184A JP S60166049 A JPS60166049 A JP S60166049A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- purifier
- fluid
- magnetic impeller
- plant
- purification device
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- Pending
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- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は蒸気タービン発電プラントの蒸気、給水および
ドレン中の金属不純物を除去する装置に関するものであ
る。
ドレン中の金属不純物を除去する装置に関するものであ
る。
第1図は従来の火力発電プラントにおける復水蒸気ター
ビンの系統図を示す。低圧タービン1からの蒸気は復水
器2で凝縮して復水となる。この復水は復水ポンプ3に
よって、復水中の不純物を除去する復水脱塩装置4、お
よび抽気により復水を加熱する低圧給水加熱器5を通っ
て、真空加熱にて脱ガスする脱気器6に供給される。脱
気器6に供給された給水は給水ポンプ7により加圧され
、さらに高温の高圧給水加熱器8を通ってボイラ9に供
給される。ボイラ9に供給された給水は、高温高圧の蒸
気となって高圧タービン10を通って低圧タービン1に
供給される循環系を形成している。
ビンの系統図を示す。低圧タービン1からの蒸気は復水
器2で凝縮して復水となる。この復水は復水ポンプ3に
よって、復水中の不純物を除去する復水脱塩装置4、お
よび抽気により復水を加熱する低圧給水加熱器5を通っ
て、真空加熱にて脱ガスする脱気器6に供給される。脱
気器6に供給された給水は給水ポンプ7により加圧され
、さらに高温の高圧給水加熱器8を通ってボイラ9に供
給される。ボイラ9に供給された給水は、高温高圧の蒸
気となって高圧タービン10を通って低圧タービン1に
供給される循環系を形成している。
このような通常運転中に給水中の鉄、銅等の金属不純物
は復水脱塩装置4において、酸素は脱気器8においてそ
れぞれ除去されてボイラ9の入口で全鉄1oppb以下
、金銅21)I)b以下、酸素7 ppb以下のボイラ
入口給水制限値が十分満足されて運転されている。
は復水脱塩装置4において、酸素は脱気器8においてそ
れぞれ除去されてボイラ9の入口で全鉄1oppb以下
、金銅21)I)b以下、酸素7 ppb以下のボイラ
入口給水制限値が十分満足されて運転されている。
上記のような給水制限値内で運転されているプラントで
も、長期間の運転中には莫大な量の金属不純物が高圧給
水加熱器8およびボイラ9内に搬入される。例えば、給
水流量2000 Ton/hrで鉄10ppbを含む給
水で1年間運転されると、約175Kpの鉄分が高圧給
水加熱器8内に搬入されることになる。これらの鉄分の
大部分は微小粒径のマグネタイトおよびヘマタイトから
なり、運転中途々に給水温度の高い最終の高圧給水加熱
器8の加熱管内面に付着し、加熱管の閉塞と給水加熱器
性能低下を誘発する。またパルプや給水ポンプ7のイン
ペラーに付着し、パルプのスティック、給水ポンプ7の
振動増大などの問題をおこしている。このため定期市に
酸液による化学洗浄および機械的なジェット水によるジ
ェット洗浄等により除去してハるが、プラントの停止と
莫大な時間と経費を必要としているのが現状である。
も、長期間の運転中には莫大な量の金属不純物が高圧給
水加熱器8およびボイラ9内に搬入される。例えば、給
水流量2000 Ton/hrで鉄10ppbを含む給
水で1年間運転されると、約175Kpの鉄分が高圧給
水加熱器8内に搬入されることになる。これらの鉄分の
大部分は微小粒径のマグネタイトおよびヘマタイトから
なり、運転中途々に給水温度の高い最終の高圧給水加熱
器8の加熱管内面に付着し、加熱管の閉塞と給水加熱器
性能低下を誘発する。またパルプや給水ポンプ7のイン
ペラーに付着し、パルプのスティック、給水ポンプ7の
振動増大などの問題をおこしている。このため定期市に
酸液による化学洗浄および機械的なジェット水によるジ
ェット洗浄等により除去してハるが、プラントの停止と
莫大な時間と経費を必要としているのが現状である。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、プラントを停
止することなく短時間で容・易に蒸気、給水およびドレ
ン中の金属不純物を除去する装置を提供することを目的
とする。
止することなく短時間で容・易に蒸気、給水およびドレ
ン中の金属不純物を除去する装置を提供することを目的
とする。
上記目的を達成するため本発明は、両端にフランジを有
する円筒と、この円筒の内側に置かれたシャフトと、こ
のシャフトに装着された磁性インペラーとよりなり、蒸
気タービンプラントの蒸気。
する円筒と、この円筒の内側に置かれたシャフトと、こ
のシャフトに装着された磁性インペラーとよりなり、蒸
気タービンプラントの蒸気。
給水およびドレンラインなどに設置して磁性インペラー
の表面に流体中の金属不純物元素を付着させるようにし
たことを特徴とするものである。
の表面に流体中の金属不純物元素を付着させるようにし
たことを特徴とするものである。
以下に本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。本
発明は第2図および第3図に示すように、両端にフラン
ジ11を有する中空の円筒12の中にシャフト13を介
して多数の磁性インペラー14を挿入した流体純化装置
15で構成されている。
発明は第2図および第3図に示すように、両端にフラン
ジ11を有する中空の円筒12の中にシャフト13を介
して多数の磁性インペラー14を挿入した流体純化装置
15で構成されている。
第4図は150℃純水中での磁性インペラーへのスケー
ル付着量とインペラ表面の流速との関係を示す実験結果
で、流速5m/s以上でスケール付着量が増大して10
m/sで最大値を示し、これ以上の流速では侵食作用に
より減少する。この最大値は磁性インペラー表面での流
体の流速を単に断面積に比例すると考え、円筒12の内
部の断面積s、。
ル付着量とインペラ表面の流速との関係を示す実験結果
で、流速5m/s以上でスケール付着量が増大して10
m/sで最大値を示し、これ以上の流速では侵食作用に
より減少する。この最大値は磁性インペラー表面での流
体の流速を単に断面積に比例すると考え、円筒12の内
部の断面積s、。
磁性インペラー14がS、内に占める面積を82.流□
体の管路内流速をv8.磁性インペラー表面の流速なV
、とすると次の(1)式が成り立つ。
体の管路内流速をv8.磁性インペラー表面の流速なV
、とすると次の(1)式が成り立つ。
8rVt=(8t 8−t)Vt −−−(1)磁性イ
ンペラーの円筒内断面積比X(%)は次ゐ(2)式%式
% (2) (2)式を(1)式に代入すると次の(3)式が得られ
る。
ンペラーの円筒内断面積比X(%)は次ゐ(2)式%式
% (2) (2)式を(1)式に代入すると次の(3)式が得られ
る。
I
V、=□ ・・・・・・・・・(3)
1 x/100
(3)式において磁性インペラー表面の流速V、は5〜
20tr+/sの範囲で最も効率よくスケールが付着す
るので、磁性インペラーの円筒内断面積比X(%)と流
体の流速V (m/s)の関係は次の(4)式がらめる
。
20tr+/sの範囲で最も効率よくスケールが付着す
るので、磁性インペラーの円筒内断面積比X(%)と流
体の流速V (m/s)の関係は次の(4)式がらめる
。
1− x/100 ” C(C”定数5〜2om/s)
・・・・・・・・・(4) Cは定数で流体の性状、温度、pH1溶存酸素等に依存
する値である。
・・・・・・・・・(4) Cは定数で流体の性状、温度、pH1溶存酸素等に依存
する値である。
例えばスケール付着が最大となる流速、すなわち定数値
が10m/sである流体において、円筒12での流速が
2m/sの場合、(4)式より磁性インペラー14の円
筒内断面積比を80%とすれば最も効率よく流体を純化
できる。
が10m/sである流体において、円筒12での流速が
2m/sの場合、(4)式より磁性インペラー14の円
筒内断面積比を80%とすれば最も効率よく流体を純化
できる。
また、磁性インペラー表面での流速をスケール付着が最
大となる流速龜調整する方法としては、装置が若干複雑
になるが磁性インペラーの円筒内断面積比を例えば20
〜30%程度に固定し、磁性インペラーを外部から強制
的に回転させる方法も有効である。特に、この場合は円
筒内の流速が変動するときに有効で、磁性インペラーの
回転数を円筒内の流速の変動にあわせて制御でき、常に
磁性インペラー表面の流速をスケール付着が最大となる
流速に制御することが可能である。
大となる流速龜調整する方法としては、装置が若干複雑
になるが磁性インペラーの円筒内断面積比を例えば20
〜30%程度に固定し、磁性インペラーを外部から強制
的に回転させる方法も有効である。特に、この場合は円
筒内の流速が変動するときに有効で、磁性インペラーの
回転数を円筒内の流速の変動にあわせて制御でき、常に
磁性インペラー表面の流速をスケール付着が最大となる
流速に制御することが可能である。
磁性インペラー14の取付数は多ければ多いほどスケー
ル付着の絶対量が増大し流体純化の効果が大きい。磁性
インペラー14への金属不純物の付着後は、フランジ1
1を開放し磁性インペラーをフラッシングまたは酸液に
浸漬して金属不純物を除去し再利用することが可能であ
る。
ル付着の絶対量が増大し流体純化の効果が大きい。磁性
インペラー14への金属不純物の付着後は、フランジ1
1を開放し磁性インペラーをフラッシングまたは酸液に
浸漬して金属不純物を除去し再利用することが可能であ
る。
本純化装置を発電プラント系統に利用した一例を第5図
に示す。第5図において、二つの純化装置15および1
5aを高圧給水加熱器8の前の給水管に並列に設置し、
温度の高い高圧給水加熱器内で付着する前に給水中の金
属不純物を除去するものである。通常時は純化装置15
の前後バーブ16.17を開、バイパス純化装置15a
の前後パル、プ18,19を閉として運転を行なうが、
純化装置15の磁性インペラー14の表面に多量の金属
不純物が付着した場合は、バイパス純化装置15aの前
後バルブ18.19を開とした後、純化装置150前後
パルプ16.17を閉とする運転を行うことにより、プ
ラントを停止することなく給水中の金属不純物を効率よ
く除去することができる。また、純化装置15への金属
不純物付着の程度を確認するには、純化装置前後の微少
差圧または振動を計測し、差圧または振動が大となった
時点で上記弁操作を自動的に行なうようにすればさらに
効果的となる。
に示す。第5図において、二つの純化装置15および1
5aを高圧給水加熱器8の前の給水管に並列に設置し、
温度の高い高圧給水加熱器内で付着する前に給水中の金
属不純物を除去するものである。通常時は純化装置15
の前後バーブ16.17を開、バイパス純化装置15a
の前後パル、プ18,19を閉として運転を行なうが、
純化装置15の磁性インペラー14の表面に多量の金属
不純物が付着した場合は、バイパス純化装置15aの前
後バルブ18.19を開とした後、純化装置150前後
パルプ16.17を閉とする運転を行うことにより、プ
ラントを停止することなく給水中の金属不純物を効率よ
く除去することができる。また、純化装置15への金属
不純物付着の程度を確認するには、純化装置前後の微少
差圧または振動を計測し、差圧または振動が大となった
時点で上記弁操作を自動的に行なうようにすればさらに
効果的となる。
なお、本実施例では純化装置を高圧給水加熱器の前の給
水管に設置したが、本装置を蒸気ラインおよびドレンラ
インに設置しても効率よく金属不純物を除去でき、発電
プラント以外にも適用が可能である。
水管に設置したが、本装置を蒸気ラインおよびドレンラ
インに設置しても効率よく金属不純物を除去でき、発電
プラント以外にも適用が可能である。
以上述べたように本発明によれば、蒸気、給水およびド
レン中の金属不純物をプラントを停止することなく効率
よく除去することができるので、例えば給水加熱器加熱
管の閉塞および性能低下がないような運転が可能となり
、プラントの安全性を高めるとともに効率向上に十分寄
与するという効果が得られる。
レン中の金属不純物をプラントを停止することなく効率
よく除去することができるので、例えば給水加熱器加熱
管の閉塞および性能低下がないような運転が可能となり
、プラントの安全性を高めるとともに効率向上に十分寄
与するという効果が得られる。
第1図は従来の蒸気タービンプラントの概略を示す系統
図、第2図は本発明の一実施例を示す正面図、第3図は
第2図のA−A矢視断面図、第4図はスケール付着量比
と流速の関係を示す曲線図、第5図は本発明の一実施例
を示す系統図である。 8・・・高圧給水加熱器、11・・・フランジ。 12・・・円筒、 13・・・Vヤフト。 14・・・磁性インペラー、 15,15a・・・流体
純化装置。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 0 第2図 第4図 流 違魅 第5図 //′1
図、第2図は本発明の一実施例を示す正面図、第3図は
第2図のA−A矢視断面図、第4図はスケール付着量比
と流速の関係を示す曲線図、第5図は本発明の一実施例
を示す系統図である。 8・・・高圧給水加熱器、11・・・フランジ。 12・・・円筒、 13・・・Vヤフト。 14・・・磁性インペラー、 15,15a・・・流体
純化装置。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 0 第2図 第4図 流 違魅 第5図 //′1
Claims (3)
- (1)両端にフランジを有する中空の円筒と、この円筒
の内側に置かれたシャフトと、このシャットに装着され
た磁性インペラーとよりなり、蒸気タービンプラントの
蒸気、給水およびドレンラインなどに設置して前記磁性
インペラーの表面に流体中の金属不純物元素を付着させ
るようにしたことを特徴とする流体純化装置。 - (2)前記磁性インペラーの円筒内断面積比x(餉と流
体の流速V(m/s)とが次式の関係にあるようにした
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の流体純化
装置。 ■ - (3)前記磁性インペラーを前記シャフトあまわりに回
転させるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の流体純化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59020791A JPS60166049A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 流体純化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59020791A JPS60166049A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 流体純化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60166049A true JPS60166049A (ja) | 1985-08-29 |
Family
ID=12036902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59020791A Pending JPS60166049A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 流体純化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60166049A (ja) |
-
1984
- 1984-02-09 JP JP59020791A patent/JPS60166049A/ja active Pending
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