JPS6017080A - 無電解銅めつき液 - Google Patents

無電解銅めつき液

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Publication number
JPS6017080A
JPS6017080A JP12446483A JP12446483A JPS6017080A JP S6017080 A JPS6017080 A JP S6017080A JP 12446483 A JP12446483 A JP 12446483A JP 12446483 A JP12446483 A JP 12446483A JP S6017080 A JPS6017080 A JP S6017080A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
plating soln
ions
plating solution
electroless copper
Prior art date
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Pending
Application number
JP12446483A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Mitsui
三井 真一
Takao Sato
高雄 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS6017080A publication Critical patent/JPS6017080A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31—Coating with metals
    • C23C18/38—Coating with copper
    • C23C18/40—Coating with copper using reducing agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、無電解ないしは自己触媒作用による銅めっき
液に係り、特に抗張力、伸び率などの物性に優力、ため
つき膜を析出する無電解鋼めっき液に関する。
一般に、無電解ないしは自己触媒作用によるめっき液は
、電気めっき液と異なり被めっき部の管体の内周面や小
孔の内部に1でめっきが均一にできること、プラスチッ
クス等の不導体の表面にもめっきができることから電気
めっきの下地として印刷配線板等に広く利用されている
。
近年、印刷配線板の制造方法に、不導体の絶縁板に無電
解鋼めっきのみで導電回路を形成する方法として、いわ
ゆるアディティブプロセスが採用されるようになってき
ている。このアディティブプロセスに使用される無電解
銅めっき液の代表的な溶液は、溶媒としての水、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)の供給源、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)の錯化剤、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)を金属に還元する
還元剤、シアン化化合物のような安定剤およびPH調整
剤(水酸化す) IIウムあるいは水酸カリウムの水溶
液)とから成っている。
しかし、これら無電解銅めっき液から得られる析出鋼の
物性(抗張力、伸び率)は、電気鋼めっき液から得られ
る析出銅に比較して劣るため、アディティブプロセスに
よって製造された印刷配線板は、印刷配線板の加工時や
部品実装時の半田伺は等の熱的歪によって回路パターン
の断線やスルホールにクラックを生ずる欠点があった。
本発明の目的は、かかる従来欠点を改良した無電解銅め
っき液を提供することにある。
本発明の無電解銅めっき液は、水、析出されるべき銅イ
オン、銅イオンに対する錯化剤および還元剤とから成る
無1イ解銅めっき液に、シアンイオy(CN)を2.5
〜30mg/l、77モニウムイオン(NH4”)を0
.18〜3.6g/を添加し、かつ無電解銅めっき液の
PHが12.0〜12.5であることを特徴とする。
以下、本発明を説明する。
本発明において、無電解銅めっき液の銅イオン源として
は、硫酸銅あるいは塩化第二銅が使用され、その添加量
は5〜20 g/lが適当である。
銅イオンの錯化剤としては、エチレンジアミン四酢酸の
ナトリウム塩、N、 N、 N’、 N’−テトラキス
−2(2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン等が
使用さ扛、こnら化合物は単独または混合して使用され
る。その添加量は銅イオンを錯化するのに十分な量を用
い通常銅イオンのダラム当量の1〜3倍の1・が適当で
ある。還元剤をしては、ホルムアルデヒドあるいはホル
ムアルデヒドの早期硬化物、例えばパラホルムアルデヒ
ド等が適当である。
本発明の無電解銅めっき液には前述した成分の他に、シ
7ンイオ7(CN )2.5〜30mg/l。
ア7工=ウェイオニ/(NH4+)018〜3.6 g
/l、が添加される。アンモニウムイオン(NH,”)
は、アンモニア水(通常28重量%アンモニア水)また
は塩化アンモニウムの化合物の形で添加される。
またシアンイオンはシアン化ナトリウムまたはシアン化
カリウム無電解銅めっき液のPHは水酸化ナトリウムあ
るいは水酸化カリウムで、12.0〜12.5に調整さ
れる。
次に、本発明をさらに実施例を示して説明する。
表面を滑らかに研磨したステンレススチール板の表面を
脱脂し、塩化パラジウムと塩化第一錫の混合塩の酸性水
溶液で活性化処理をした。
次に、第1表に示す組成の無電解銅めっき液を用いて液
温70℃でめっきを行ない厚さ35〜40μmのめっき
膜を得た。その後、このめっき膜をステンレススチール
板より剥離し、幅10m+、長さBowRの寸法に切断
して試料とし引張シ試験機で抗張力、伸び率を測定した
。
以上、本発明の第1表に示した実施例から明らかなよう
に、シアンイオン(CN )とアンモニウムイオン(N
H4”)を添加した無電解銅めっき液から得られるめっ
き膜の物性(抗張力、伸び率)は著しく優れていること
が判明し、た。
第1表 実施例比較例 無電解銅めっき液組成 1 2 34 硫酸銅 (g/l) 10101010EDTA−4N
a (g/l) 35 35 35 3537チホルマ
リン (ml/l) 5 5 5 528%アンモニア
水 (mt/l>注 1 5 0 5シアン化ナトリウ
A(mg/A) 30 30 30 0PH12312
,312,312,3 抗張力 (Kf/d) 41040.530.240.
5伸び率 (チ) 7B 822.53.0注 28%
アンモニア水/rntLrj、0.257gのアンモニ
ウムイオyc′li′を当す6°代刊・人 弁理士 内
 原 晋HA

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水と、析出されるべき銅イオンと、前記銅イオンに対す
    る錯化剤および還元剤とからなる無電解銅めっき液に、
    シアンイオン2.5〜30 ’ng/lsアンモニウム
    イオン0.18〜3.6 g / L 添加り、、かつ
    前記無電解銅めっき液のPHが12,0〜12.5であ
    ることを特徴とする無電解銅めっき液。
JP12446483A 1983-07-08 1983-07-08 無電解銅めつき液 Pending JPS6017080A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61173932A (ja) * 1985-01-30 1986-08-05 日立化成工業株式会社 金属と樹脂層との積層体の製造法
US4690854A (en) * 1984-04-10 1987-09-01 Nihon Sanmo Dyeing Co., Ltd. Electrically conducting material and method of preparing same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4690854A (en) * 1984-04-10 1987-09-01 Nihon Sanmo Dyeing Co., Ltd. Electrically conducting material and method of preparing same
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