JPS6017080A - 無電解銅めつき液 - Google Patents
無電解銅めつき液Info
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- JPS6017080A JPS6017080A JP12446483A JP12446483A JPS6017080A JP S6017080 A JPS6017080 A JP S6017080A JP 12446483 A JP12446483 A JP 12446483A JP 12446483 A JP12446483 A JP 12446483A JP S6017080 A JPS6017080 A JP S6017080A
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 31
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 23
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 23
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- -1 cyanogen ions Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N glycolonitrile Natural products N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
- C23C18/40—Coating with copper using reducing agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、無電解ないしは自己触媒作用による銅めっき
液に係り、特に抗張力、伸び率などの物性に優力、ため
つき膜を析出する無電解鋼めっき液に関する。
液に係り、特に抗張力、伸び率などの物性に優力、ため
つき膜を析出する無電解鋼めっき液に関する。
一般に、無電解ないしは自己触媒作用によるめっき液は
、電気めっき液と異なり被めっき部の管体の内周面や小
孔の内部に1でめっきが均一にできること、プラスチッ
クス等の不導体の表面にもめっきができることから電気
めっきの下地として印刷配線板等に広く利用されている
。
、電気めっき液と異なり被めっき部の管体の内周面や小
孔の内部に1でめっきが均一にできること、プラスチッ
クス等の不導体の表面にもめっきができることから電気
めっきの下地として印刷配線板等に広く利用されている
。
近年、印刷配線板の制造方法に、不導体の絶縁板に無電
解鋼めっきのみで導電回路を形成する方法として、いわ
ゆるアディティブプロセスが採用されるようになってき
ている。このアディティブプロセスに使用される無電解
銅めっき液の代表的な溶液は、溶媒としての水、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)の供給源、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)の錯化剤、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)を金属に還元する
還元剤、シアン化化合物のような安定剤およびPH調整
剤(水酸化す) IIウムあるいは水酸カリウムの水溶
液)とから成っている。
解鋼めっきのみで導電回路を形成する方法として、いわ
ゆるアディティブプロセスが採用されるようになってき
ている。このアディティブプロセスに使用される無電解
銅めっき液の代表的な溶液は、溶媒としての水、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)の供給源、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)の錯化剤、析出さ
せようとする金属イオン(銅イオン)を金属に還元する
還元剤、シアン化化合物のような安定剤およびPH調整
剤(水酸化す) IIウムあるいは水酸カリウムの水溶
液)とから成っている。
しかし、これら無電解銅めっき液から得られる析出鋼の
物性(抗張力、伸び率)は、電気鋼めっき液から得られ
る析出銅に比較して劣るため、アディティブプロセスに
よって製造された印刷配線板は、印刷配線板の加工時や
部品実装時の半田伺は等の熱的歪によって回路パターン
の断線やスルホールにクラックを生ずる欠点があった。
物性(抗張力、伸び率)は、電気鋼めっき液から得られ
る析出銅に比較して劣るため、アディティブプロセスに
よって製造された印刷配線板は、印刷配線板の加工時や
部品実装時の半田伺は等の熱的歪によって回路パターン
の断線やスルホールにクラックを生ずる欠点があった。
本発明の目的は、かかる従来欠点を改良した無電解銅め
っき液を提供することにある。
っき液を提供することにある。
本発明の無電解銅めっき液は、水、析出されるべき銅イ
オン、銅イオンに対する錯化剤および還元剤とから成る
無1イ解銅めっき液に、シアンイオy(CN)を2.5
〜30mg/l、77モニウムイオン(NH4”)を0
.18〜3.6g/を添加し、かつ無電解銅めっき液の
PHが12.0〜12.5であることを特徴とする。
オン、銅イオンに対する錯化剤および還元剤とから成る
無1イ解銅めっき液に、シアンイオy(CN)を2.5
〜30mg/l、77モニウムイオン(NH4”)を0
.18〜3.6g/を添加し、かつ無電解銅めっき液の
PHが12.0〜12.5であることを特徴とする。
以下、本発明を説明する。
本発明において、無電解銅めっき液の銅イオン源として
は、硫酸銅あるいは塩化第二銅が使用され、その添加量
は5〜20 g/lが適当である。
は、硫酸銅あるいは塩化第二銅が使用され、その添加量
は5〜20 g/lが適当である。
銅イオンの錯化剤としては、エチレンジアミン四酢酸の
ナトリウム塩、N、 N、 N’、 N’−テトラキス
−2(2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン等が
使用さ扛、こnら化合物は単独または混合して使用され
る。その添加量は銅イオンを錯化するのに十分な量を用
い通常銅イオンのダラム当量の1〜3倍の1・が適当で
ある。還元剤をしては、ホルムアルデヒドあるいはホル
ムアルデヒドの早期硬化物、例えばパラホルムアルデヒ
ド等が適当である。
ナトリウム塩、N、 N、 N’、 N’−テトラキス
−2(2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン等が
使用さ扛、こnら化合物は単独または混合して使用され
る。その添加量は銅イオンを錯化するのに十分な量を用
い通常銅イオンのダラム当量の1〜3倍の1・が適当で
ある。還元剤をしては、ホルムアルデヒドあるいはホル
ムアルデヒドの早期硬化物、例えばパラホルムアルデヒ
ド等が適当である。
本発明の無電解銅めっき液には前述した成分の他に、シ
7ンイオ7(CN )2.5〜30mg/l。
7ンイオ7(CN )2.5〜30mg/l。
ア7工=ウェイオニ/(NH4+)018〜3.6 g
/l、が添加される。アンモニウムイオン(NH,”)
は、アンモニア水(通常28重量%アンモニア水)また
は塩化アンモニウムの化合物の形で添加される。
/l、が添加される。アンモニウムイオン(NH,”)
は、アンモニア水(通常28重量%アンモニア水)また
は塩化アンモニウムの化合物の形で添加される。
またシアンイオンはシアン化ナトリウムまたはシアン化
カリウム無電解銅めっき液のPHは水酸化ナトリウムあ
るいは水酸化カリウムで、12.0〜12.5に調整さ
れる。
カリウム無電解銅めっき液のPHは水酸化ナトリウムあ
るいは水酸化カリウムで、12.0〜12.5に調整さ
れる。
次に、本発明をさらに実施例を示して説明する。
表面を滑らかに研磨したステンレススチール板の表面を
脱脂し、塩化パラジウムと塩化第一錫の混合塩の酸性水
溶液で活性化処理をした。
脱脂し、塩化パラジウムと塩化第一錫の混合塩の酸性水
溶液で活性化処理をした。
次に、第1表に示す組成の無電解銅めっき液を用いて液
温70℃でめっきを行ない厚さ35〜40μmのめっき
膜を得た。その後、このめっき膜をステンレススチール
板より剥離し、幅10m+、長さBowRの寸法に切断
して試料とし引張シ試験機で抗張力、伸び率を測定した
。
温70℃でめっきを行ない厚さ35〜40μmのめっき
膜を得た。その後、このめっき膜をステンレススチール
板より剥離し、幅10m+、長さBowRの寸法に切断
して試料とし引張シ試験機で抗張力、伸び率を測定した
。
以上、本発明の第1表に示した実施例から明らかなよう
に、シアンイオン(CN )とアンモニウムイオン(N
H4”)を添加した無電解銅めっき液から得られるめっ
き膜の物性(抗張力、伸び率)は著しく優れていること
が判明し、た。
に、シアンイオン(CN )とアンモニウムイオン(N
H4”)を添加した無電解銅めっき液から得られるめっ
き膜の物性(抗張力、伸び率)は著しく優れていること
が判明し、た。
第1表
実施例比較例
無電解銅めっき液組成 1 2 34
硫酸銅 (g/l) 10101010EDTA−4N
a (g/l) 35 35 35 3537チホルマ
リン (ml/l) 5 5 5 528%アンモニア
水 (mt/l>注 1 5 0 5シアン化ナトリウ
A(mg/A) 30 30 30 0PH12312
,312,312,3 抗張力 (Kf/d) 41040.530.240.
5伸び率 (チ) 7B 822.53.0注 28%
アンモニア水/rntLrj、0.257gのアンモニ
ウムイオyc′li′を当す6°代刊・人 弁理士 内
原 晋HA
a (g/l) 35 35 35 3537チホルマ
リン (ml/l) 5 5 5 528%アンモニア
水 (mt/l>注 1 5 0 5シアン化ナトリウ
A(mg/A) 30 30 30 0PH12312
,312,312,3 抗張力 (Kf/d) 41040.530.240.
5伸び率 (チ) 7B 822.53.0注 28%
アンモニア水/rntLrj、0.257gのアンモニ
ウムイオyc′li′を当す6°代刊・人 弁理士 内
原 晋HA
Claims (1)
- 水と、析出されるべき銅イオンと、前記銅イオンに対す
る錯化剤および還元剤とからなる無電解銅めっき液に、
シアンイオン2.5〜30 ’ng/lsアンモニウム
イオン0.18〜3.6 g / L 添加り、、かつ
前記無電解銅めっき液のPHが12,0〜12.5であ
ることを特徴とする無電解銅めっき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12446483A JPS6017080A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 無電解銅めつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12446483A JPS6017080A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 無電解銅めつき液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017080A true JPS6017080A (ja) | 1985-01-28 |
Family
ID=14886167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12446483A Pending JPS6017080A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 無電解銅めつき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017080A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61173932A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-05 | 日立化成工業株式会社 | 金属と樹脂層との積層体の製造法 |
| US4690854A (en) * | 1984-04-10 | 1987-09-01 | Nihon Sanmo Dyeing Co., Ltd. | Electrically conducting material and method of preparing same |
-
1983
- 1983-07-08 JP JP12446483A patent/JPS6017080A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4690854A (en) * | 1984-04-10 | 1987-09-01 | Nihon Sanmo Dyeing Co., Ltd. | Electrically conducting material and method of preparing same |
| JPS61173932A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-05 | 日立化成工業株式会社 | 金属と樹脂層との積層体の製造法 |
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