JPS60180027A - 真空インタラプタの電極材料とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、真空インタラプタのぼ極材料とその製造方法
に関する。

従来技術 一般に、真空インタラプタの電極材料は、次に示す１）
〜ｖｌ）の緒特性が要求されている。

１）シゃ断性能が高いこと ＋＋　＞耐電圧が高いこと １１１）消耗が少ないこと ｉｖ）さい断値が低いこと ■）接触抵抗が小さいこと ｖｌ）浴着力が小さいこと 電極材料は、真空インタラプタの性能と決定するに最も
重要なものであり、上記各特性を全て満足することが望
ましい。

従来、例えば特公昭４１−１２１３１号公報（米国特許
第３，２４６，９７９号）に開示されているように、銅
（Ｃｕ）に０．５重量％のくスマス（ＢＬ）をき有した
合金からなる電極（以下ｒＣｕ−０，５８ＬＨ１極」と
いう）、または特公昭４８−３ｔ１０７１号公報（米国
特許＠　３，５９　ｔｌ、０２７号）に開示された、Ｃ
ｕ　Ｖｃ眞電の高蒸気圧材料（低融点材料）全含有した
せ金からなる’１Ｊ１．４ｋが知られている。

しかしながら、かかるＣ　ｕ　−０，５Ｂ　ｉ　［ｆｆ
１等は、大電流しゃ断能力、耐溶層性および導電籠に擾
れてはいるものの、絶縁耐力、特にしゃ断機の絶縁耐力
が者しく低下する欠点があり、しかもさい断電流値がＩ
ＯＡと高いためにしＪ′Ｆ断時にさい断す−ジ金発生す
ることがあって遅れ小ＩＥ流を良好にしゃ断ｌ−楊−Ｐ
−伯断の粛併榊呂の緬縁謔−を以ヰする虞れがある等の
問題があった。

一方、このような高蒸気圧材料を含有するＣｕ−０，５
ＢＬ　成極等の欠点全解消すべく、例えば特公昭５４−
３ｔ１１２１号公報（米国特許第３．８１１，９３９号
）に開示されているような、２０重童％のＣＵと８０重
電％のタングステン（Ｗ）とからなる材料により形成し
た亀、極（以下「２０Ｃｕ−８０Ｗ１を極」という）、
または特開昭５４−１６７２８４号公報（英国公開特許
第２．０２４．２５７号）に開示された、Ｃｕと低蒸気
圧材料（高融点材料）との合金からなる高電圧用の電極
が知ら２’している。

しかしながら、かかる２０Ｃｕ−８０Ｗｆｉ極等にあっ
ては、絶縁耐力は高くなる利点はあるものの、事故電流
の如き大電流をしゃ断することが困難になる等の問題が
あった。

発明の目的 本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、大電流および高電圧のしゃ断に供し得るとともに、特
にさい断厄流値が低いことにより遅ｎ小電流を良好にし
ゃ断できるような真空インタラプタの電極とその製造方
法を提供することを目的とする。

発明の概要 かかる目的を達成するために、本発明は、真空インタラ
プタの電極材料およびその製造方法を以下に示すｔｌｌ
〜（３）の構成としたものでおる。

ｉｌｌ　Ｋ空インタラプタの電極材料を、銅２０〜８（
）重量％、クロム６〜７０重量％、モリブデン６〜７０
屯蓋％および伏化りロム０．６〜２０重瀘％、。

炭化モリブデン０．５〜２０重量％の１種または２種（
２種の場合合計で０．５〜２０重量％）よりなる複合金
属で構成した。

（２）　上記ｆｉｌの複合金属を、クロム、モリプデｙ
およヒ炭化クロム、炭化モリブデンの１棟または２種の
各粉末を混合し、この混合粉末全非酸化性雰囲気中にて
前記各粉末の融点以下の温度で加熱し相互に拡散結合せ
しめて多孔質の基材を形成し、次いでこの基材に銅を非
酸化性雰囲気中にて銅の融点以上の温度で加熱して溶浸
せしめて製造した。

（３）上記（１１の襟合金属金、クロム、モリブデンお
よび炭化クロム、Ｓ化モリブデンの１種または２則の各
粉末を混合し、この混合粉末の上に銅を載置するととも
に非酸化性雰囲気中に収納し、先ず銅の融点以下の温度
で加熱し前記混合粉水金相互に拡散結合−せしめて多孔
質の基材を形成し、次いで銅の融点以下の温度で加熱し
てＡｎ記基材に銅を（縛浸せしめて製造した。

実施例 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。

第１図は本発明に係る電極材料により形成されたｔＶ極
を備えた４空インタラプタの縦断面図である。第１図に
示すように、この１空インタラプタは、円筒状に形成し
たガラスまたはセラミックス停の絽縁物からなる２本の
絶縁筒１．１を、それぞれの両端に固層した鉄（Ｆｅ）
−ニッケル（Ｎｔ）−コバル）（Ｃｏ）合金またはＦｅ
−Ｎｉ合金等の金属からなる博肉円環状の封着金具２．
２．・・・の一方を弁し同→４ｎ的に接合して１本の絶
縁筒にするとともに、その両端開口部紮他方の封着金具
２，２會介しステンレス鋼等からなる円板状の金属端板
３．３により閉塞し、かつ円部を高真空（す１１えば５
　Ｘ　１．　Ｏ−’　Ｔｏｒｒ　以下の圧力）に排気し
て真空容器４が形成されている。

そして、この真空容器４内には、１対の円板状の電極６
．６が、各金属端板３．３の中央部から真空容器４の気
密性金１呆持して相対的に接近離反自在に導入した対ｔ
なす砥極棒６，６τ弁し、接触離反（接離）自在に設け
られている。なお、第１図において、７は金属ベローズ
、８は谷型６億６等を同心状に囲続する中間′６位のシ
ールドである。

ここに、前記各電極６は、Ｃｕ２Ｏ〜８０重片％、クロ
ム（Ｃ’ｒ）５〜７０重量％、モリブデン（Ｍｏ）５〜
７０重葉％および炭化クロム０．５〜２０重量％、炭化
モリブデン０．５〜２０重瀘％の１種または２４重（た
だし、炭化クロムおよび１犬１ジモリブデン両者ケ含有
する場合にｔユ、両者合計でＯ６５〜２０稙駿％）より
なる複合金属で形成さｎている。なお５この嶺合金属は
、２０〜６０％の導電率（工ＡＣ８％）を有するもので
ある。

特に、この複合金属の組織状態が、Ｃｒ、Ｍｏお工ヒ炭
化クロム、炭化モリブデンの１稙ま１こは２ｆ重の各粉
末が拡散結合した多孔質の基材にＣｕが溶浸、！扛た状
態であ扛ば最も好ましい。

次に、上記電画材料の各踵製造方法について説明する。

・耶１の方法は、例えば粒径がそ扛ぞれ一１００メツシ
エである、Ｏｒ、Ｍｏおよび灰化クロム、炭化モリブデ
ンの１種または２槙を所定電機様的に混合する。次に、
この混合粉末’＜Ｃｒ、Ｍｎ、炭化クロム、炭化モリブ
デンおよびＣｕのいずｎとも反応しない材料（し１１え
ばアルミナ等）がちなる容器に収納する。そして、この
混合粉末を、非酸化性雰囲気中（例えば５　Ｘ　１０−
’　Ｔｏｒｒ　以下の圧力の真空中、または水素ガス中
、窒素ガス中お工びアルゴンガス中）にて前記各粉末の
１・１嗅点以下の温度で加熱保持（例えば（５００〜１
０００℃で５〜Ｆ１１１分間程度）シ、相互に拡散結合
・せしめて多孔質の基材を形成する。

その俵、この多孔質の基材の上にＣｕのブロック全１戒
直し、前述の如き非酸化性雰囲気中にてＣＵの融点以上
の温度で力［］熱保持（例えば１１００℃で５〜２０分
間程度）し、前記基材にＣｕを溶浸させる。

なお、この第１の方法は、多孔質の基材の形成作業とＣ
ｕの溶浸作業とが、工程會分けて行なわれる場合を示し
たものである。また、Ｃｕ（Ｄ溶浸方法は、上述の実施
例に限定されず、例えば水素ガス等のガス中にてｆず多
孔質の基材を形成し、その後ＪＬ臣引きによりＣｕを溶
浸させてもよい。

これに対し、第２の方法は、例えば粒径がそれぞれ一１
００メツシュである。Ｃｒ、ＭＯおよびｊ々化ツクロム
級化モリブデンの１踵または２種全所定を機成的に混合
する。次に、このＣ昆合扮末をＣｒ、Ｍｏ、炭化クロム
、炭化モリブデンおよびＣｕのいずｎとも反応しない材
料（汐１１えばアルミナ等）からなる容器に収納すると
ともに、混合粉末の上にＣｔｌのブロックを載置する。

そして、こ扛らｔｆ？Ｉｌ述の如き非酸化雰囲気中にて
、まずＣｕの融点以下の温度で加熱保持（例えば６００
〜１０００℃で５〜８０分間８朋）し、前記混合粉末を
相互に拡散結合せしめて多孔質の基材を形成し、次いで
Ｃｕの融点以上の温度で加熱保持（例えば１１００℃で
６〜２０分間程度）して基材にＣｕｔ溶浸せしめる。

ここに、第１およ・び第２の方法ともに、金属粉末の粒
径は、−１００メツシユ（１４９μｍ以下）に限定され
るものではなく、−６０メツシユ（２５０μｍｇ下）で
あればよい。ただ、粒径が６０メツシユより大きくなる
と、各金属粉末粒子全拡散結合させる場合、拡散距離の
増大に伴って加熱温度を高くしたりまたは加熱時間を畏
くしたりすることが必要となり、生産性が低下すること
となる。一方、粒径の上限が低下するにしたがって均一
な混合（各金属粉末粒子の均一な分散）が困岐となり、
また酸化し易いため、その取扱いが面倒であるとともに
その使用に１祭して前処理τ必媛とする等の問題がある
ので、おのずと限界があり、粒径の上限は、１重々の条
件のもとに選定さｎるものである。

また、ＣｒおよびＭｏの粉末は、先ＶＣＣｒとＭ。

との合金を製造し、この合金ｒ例えば粒径が一１００メ
ツシュの粉末として用いてもよい。

さらＩｃ、前記′イ極材料は、上述の第１および第２の
製造方法のほかに、例えばＣｒ　、　Ｍｏ等の金属粉末
にＣｕをも粒末としてｃｕ−２含めた＃、曾粉末全形成
し、これ金プレス戊形し、Ｃｕの融点以下またはＣｕの
融点以上でかつ池の金ｈＡｍの融点以下の温度に加熱保
持する方法により製造してもよい。

この際、プレス成形した素体の上に、さらにＣＵ全載置
してもよく、この場合には加熱温ＩＷがＣｕの融点以上
である必甥がある。

なお、前記第１および第２の方法いずｎにあっても、非
酸化性雰囲気としては、Ｉ空の方がｊＪＯ熱保持の際に
脱ガスが同時に行なえる利点があって好適なものである
。勿論、真空中以外のガス中にて製造した場合にあって
も真空インタラプタの成極材料として実用上問題はない
ものである。また、金属粉末の相互拡散結合に要する、
／ＪＤ熱湿度と時間は、炉の条件、形成する多孔質基材
の形状、大きさ尋の条件および作業性等金考１碌し、か
つ所整の６極材料としての性質を満足するように加熱保
持さｆＬるものであり、例えば６００°゛Ｃで１〜２時
間、または１０００℃で１（＋−ｔｌＯ分間といった加
熱条件で作業が行なわ扛るものである。

次に、＋ｎ＋述の第２の製造方法により、５　Ｘ　１Ｏ
−５Ｔｏ　ｒ　ｒの区空中にて、まず１０００℃で６０
分間加熱保持して多孔質の基材全形成し、仄いで１１０
０℃で２０分間加熱保持してＣＵ金浴溶浸しめた場合の
３種の本発明ぼ原材料（複合金属）の組織状態を第２図
から第４図までに示すＸ線写匹乞用いて説明する。

なお、各醒極相料の成分組成（重着％）Ｖよ、以下に示
す３種のものである。

実施例Ｉ　Ｃｕ５０−　Ｃｒ１０−Ｍｏ３５−Ｍｏ、Ｃ
５”ｉ施例２　Ｃｕ　５０−　Ｃｒ　２０−　Ｍ　Ｏ２
０−Ｃｒ　３　［Ｔ　ｇ　５Ｍｏ２Ｃ５ 実施例３　Ｃｕδ０−Ｃｒ３０−ＭｏｌＯ−０−Ｃｒ５
Ｏ−第２図ｔＡｔ　、　ｔｓ＋　、　（ｃ）、　＋ｒ＋
＋およびｔｇｌは、実施例１の成分組成からなる複合金
属のＸ＠写真で、第２図囚のＸ線写真は、Ｘ線マイクロ
アナライザによる二次電子像で、後述の第２図ｔＢｌ　
、　（Ｃ１、ｆＤｌおよび＋Ｅｌかち聞るように、ｃｒ
　とＭｏ　とＭ、ｏ２Ｃとの各粉末が相互に拡散結合し
均一に分散して一体化された島状の粒子となり、かつ各
、１状の粒子が相互に結合して多孔質の基材全形成する
とともに、この基材の孔（９臘）にＣＵがｔｇ浸されて
いる。

また、第２図ｆ８１のｘ１祿写真は、Ｃｒの分散状態と
示す特性Ｘ線像で、島状に点在する白い部分がＣｒであ
る。第２図ｔＣ１のＸ線写江は、ＭＯの分散状態を示す
特性Ｘ線像で、島状に点在する白い部分がＭＯである。

第２図ｔＤｌＯＸ線写呪ば、炭素ｔｅｌの分散状態を示
す特性Ｘ　＋ｔｔｌ　菌で、わずかに白く点在する部分
がＣである。第２図ｔｉｌｌＱＸ線写ａは、ＣＵの分散
状態金示す特性Ｘ線昧で、白い部分がＣＵである。

また、第３図（Ａｌ　、　ＩＢＩ　、　ｆｃｌ　、　Ｉ
ＤＩおよびｔＦｉ＋は、実施例２の成分組成からなる複
合金属のＸ線写真で、＠３図（んのＸ　ｌｉｔ写真は、
Ｘ線マイクロアナライザによる二次電子嫁で、後述の第
３図１ｃｌ　、　ｌｃｌ　、　ＩＤＩおよび（儀から判
るように、ｃｒとＭｏとＣｒ　ＨＣ２とＭ　Ｏ！　Ｃと
の各粉末が相互に拡散結合して一体化された島状の粒子
となり、かつ各島状の粒子が相互に結合して多孔質の基
材を形成するとともに、この基材の孔（９師）にＣｕが
溶浸されている。

第３図１ｃｌのＸ線写真は、ｃｒの分散状態金示す特性
Ｘ線障で、白で縁取られた島状の部分がｒ’ｒであり、
ｃｒ　とＭｏ’４とが均一に拡散した灰色の部分と、Ｃ
ｒリッチな白い部分およびＭＯリッチな黒い部分からな
る。第３図１ｃｌのｘＩｖｉ！写真は、Ｍ。

の分散状態を示す特性ＸＨ像で、島状に点在する白い部
分がＭＯである。第３図（ｔ）ｌのＸ線４ｆ真は、Ｃの
分散状態を示す特性ｘ朦■で、わずかに白い部分がＣの
脊圧を示す。第３図＋ｇ＞のＸ１儒写真は、Ｃｕの分散
状態を示す特性Ｘ線菌で、白い部分がＣｕ　である。

さらに、第４図ＬＡＩ　、　ＩＢＩ　、　＋０１　、　
ＩＤＩおよびＩｇｌ　ｖま、実施例３の成分組成からな
る複合金属のＸ線写真で、第４図臥）のＸ線写真ケよ、
Ｘ＋Ｊマイクロアナライザによる二次電子１象で、後述
の第４図ｔｅｌ　、　ｆｃｌ　、　ＩＤＩおよび＋ｇ＋
から判るように、Ｃｒと１００とＣｒ、Ｃ１との各粉末
が相互に拡散結合して一体化された島状の粒子となり、
かつ各島状の粒子が相互に結合して多孔ａの基材を形成
するとともに、この基材の孔（空隙）にＣｕが６浸され
ている。

第４１３ｔＢ１のＸ線写真は、Ｃｒの分散状態を示す特
性Ｘ線菌で、島状に点在する白い部分がＯｒで、このｃ
ｒ中の灰色の部分がＭｏ”Ｊツチの部分である。ｉＡ４
図ｔｅｌのｘ　、＃写はは、ＭＯの分散状態を示す特性
Ｘ線画で、島状の白い部分がＭＯである。

第４図ｆＤｌのｘＩｌｌｌｉ１恨真は、Ｃの分散状態を
示す特性Ｘ線１ψで、わずかに白い部分がＣである。第
４図＋ｇ）のＸ線写真は、ＣＵの分散状態金示す特性Ｘ
線ｉ家で、白い部分がＣｕである。

第２図から４４図で判るように、Ｃｒ、Ｍｏ並びにＣｒ
５Ｃ，および／またはＭｏ、Ｃの各粉末が、相互に拡散
結合して粒子となり、各粒子がほぼ均一に分散した状態
で互いに結合して多孔貞の基材を形成し、この基材ｖｃ
浴溶浸ｎたＣｕが、Ｃｒと相互に拡散結合し、全体とし
て強固な結合体（複合金属）を形成している。

一方、前述の如く、第２の方法によ０製造した実施例１
の成分組成からなる本発明の電極材料を、直径５０ｚｌ
Ｂ、厚さ６．５腸の内機に形成しかつその周縁を４鵡ア
ールの丸味を付けた磁極にし、これを第１図に示すよう
な構成の真空インタラプタに１対の成極として組込んで
諸性能の検証を行なった。その結果は、下記に示すよう
になった。

ｆｉｌ電流しゃ断能力 しゃ新条件が、定格′屯田１２ｋｖ（再起市、圧２１ｋ
ｖ１．ｒｇｃ　−１８１）　、　ｌ、や断連ＩＪｊ　１
．２〜１．５　ｒｎ／８の時に１２ｋＡ（ｒ、ｍ、ｓ）
のシ流をしゃ断することができた。

なお、実施例２お工び３の成分組成のものも実施例１の
ものと同様の結果を示した。

１２）絶、嶽耐力 ギャップを３鵡に保持し、衡ｗ！：ｅ、金印力口する萌
撃彼耐１圧試、験ｒ行なったところ、＋１２０　ｋＶ（
バラツキ±ｘｏｋｖ）の絶縁耐力を示した。また、太゛
喝゛流（１２ｋＡ）の襟数回しゃ断後に同様の試験を行
なったが、絶縁耐力に変化はなかった。さらに、進み小
電流（８０Ａ）のしゃ断後に同様の試験を行なったが、
絶縁耐力は殆んど変化しなかった。

なお、実施例２および３の成分組成のものの絶縁耐力は
、いずれも＋１　’１．０ｋＶ、　−１２０ｋＶｉ示し
た。

（３１耐浴着性 １３０嫁の加圧下で、２７ｋＡ（ｒ、ｍ、ｓ、）の１に
流を３秒間通′！Ｉｔ（工ＥＣ短時間電流規格）した後
に２００仲の静的な引き外し力で問題なく引き外すこと
ができ、その後の接触抵抗の増加は、２〜８％にとどま
った。また、１　（１００ｋｆｌＯ刀Ｕ圧下で、５　、
ＯｋＡ（ｒ、ｍ、ｓ　、）の電流全３秒間通電した後の
引色外しも問題なく、その汝の接触抵抗の増加は、０〜
６％にとどまり、十分な耐溶着性を備えていた。

なお、実施例２および３の成分組成のものの耐ｍＮ力も
、実施例１と同様の結果を示した。

（４）遅れ小電流（誘導性の負荷）のしや１ｉｆｔ能カ
ー　ｘｓｚ）２行なったところ、電流さい断値は、平均
１．３　Ａ　（標準偏差σｎ＝０．２０＋ｉ１本数１］
＝＝１００）を示した。

なお、実施例２の成分組成のものの電流さい断値は、平
均１．　ｔ　Ａ　（σ、＝０．１５．ｎ＝１００　）ｉ
示し、また、実施例３の成分組成のものの電流さい断値
は、平均１．２　Ａ　（σ。＝　０．１８　、　ｎ　＝
　１０１１）全示した。

（５１孕み小電流（容置性の負荷）のしゃ断能力（ＪＥ
Ｃ−１，８１）を、１００００回行なったが丙点孤は０
回であった。

なお、実施例２および３の成分組成のものも、実施ｆｉ
＋１１と同順の結束を示した。

（６）導電量 ３１１〜４３％の導〔瞑ｌＡＣ３％）を示した。

なお、実施例２の成分組成のものは２８〜３４％、実施
例３の成分組成のものは２５〜３０％の導電量を示した
。

（７）硬度 調度は、１０’８〜１８２ＨＶ（ｔｔｇ）ｋ示した。

なお、実施例２および３の成分組成のものの硬度も実施
例１のものと同様の結果を示した。

さらに、実施例１の成分組成の電極材料を用いた真空イ
ンタラプタと、従来のＣｕ　−０，５Ｂｔ　電極金儲え
た真空インタラプタとの諸性能を比較したところ、下記
に示すようになった。

Ｉｌｌ電流しゃ断能力 両者同程度であった。

（２１絶縁耐力 従来のＣｕ−０，５ＢＬ電極のものは、１０襲のギャッ
プで、実施例１の成分組成による電極の真空インタラプ
タと同じ絶縁耐力であった。したがって、本発明に係る
電極を備えた真空インタラプタは、従来のＣｕ−０，５
ＢＬ’ｆ１ｆｍのものの、約３倍の４イＩｌｌ縁耐力を
有していた。

（３１耐Ｉ６層性 本発明に係る′イ匝の血」溶層性は、従来のＣｕ−０、
５Ｂｔ　’ｒＪｔ極のそれの８０％であるが実用上殆ん
ど問題なく、必要ならば多少醒啄開離瞬時の引き外し力
ｒ増刊］させればよい。

（４１′ｅニル小電流のしＪＰ断能力 本発明に係る電極の由゛流さい断ＩＩＬは、従来のＣｕ
　−０，５Ｂｉ　７１１極の電流さい断値の１３％と小
さいので、さい斯サージが殆んど問題とならず、かつ開
閉後もその１１１が変化しない。

（５１進み小心流のしゃ断能力 本発明に係る１極は、従来のＣｕ−０，５ＢＬ電極に比
して２倍のΦヤパシタンス答鴛の負荷金しや断すること
ができるう なお、前記実施例２および３の成分組成に係る電極も、
従来のＣｕ−０，５ＢｉｔＪｉ極との比較において、上
述した実施例１の成分組成に係るば極とほぼ同様の性能
を示した。

また、前記実施例においては、炭化クロムとしてＣｒ３
　ｃ、を用いたが、本発明はかかる実施例に限定される
ものではなく、Ｃ，ｒ７　ＣＳまたはＣｒ２３Ｃ６を用
いてもほぼ同様の結果が得られる。さらに、炭化モリブ
デンについても、Ｍｏ’Ｃが１用できる。

ところで、複合金属の成分組成が、Ｃｕ２ｎ〜８０重量
％、　’ｃｒ　５〜７０　市ｆ１％、　Ｍｏ　５〜７　
（］東前兆および炭化クロム０．６〜２０重量％、炭化
モリブデン０．５〜２０重量％の１４重または２種（２
、ｉ４１の場合合計で０．５〜２０重遺％）の組成馳囲
以外の場合には、満足する緒特性を得ることができなか
った。

すなわち、Ｃｕが２０屯艙％未満の場合には、導電率の
低下が急激に大きくなり、短時間市流試験後の接触抵抗
が急激に大きくなるとともに、定格ｄ流通屈時における
ジュール熱の発生が大きいので実用性が低下した。また
、ＣＵが８０重重着會越える場合には、絶縁１１ｉｉ１
′力が低下するとともに、耐ｔ４涜件が急激に悪化した
。

Ｏｒが５重性％未講の場合にすよ、電流さい１１ｊｒ値
が高くなり、遅ｎ小電流しゃ断能力が低下し、７０改腓
％ケ越える場合には、大１ａ流しゃ断能力が急激に低下
した。

また、ＭＯが５ポは％未満の爆会には、＆！Ｉ縁耐力が
急激に低下し、７０重磁％を越える場合には、大軍流し
ゃ断能力が急激に低下した。

さちに、炭化クロム、炭化モリブデンの１呻または２種
が０．５取量％未朧の場合には、電流さい断値が高くな
ジ、２０重ｔ％を越える場合には、大電流しゃ断能力が
急激に低下した。

発明の効果 以Ｅのように、本発明の真空インタラプタのトｂ極材料
は、Ｃｕ　２０〜８０　市電％、　Ｃｒ　５〜７０重量
％１ＭＯ５〜７０重徴％および炭化クロム０５〜２０ｉ
遺％、炭化モリブデン０５〜２０爪は％の１種または２
挿（２４１の場合合ｄ１で０．５〜２０重艙％）よりな
る複合金属であるので、従来の、例えばＣｕ　−０，５
Ｂｉ　電極と同、謙の醍ｎたしゃ断能力會発揮でき、し
かも絶縁耐力金も飛躍的に向上させることができる。ま
た特に、さい断電流値が従来のものに比し極めて低いの
で、遅れ小ｔｇ流を良好にしゃ断することができる。

さらに、この僚合金属の組輪状態が、ＣＵ以外の金への
各扮禾が拡散結合した多孔質の基材に、Ｃｕが１６浸さ
れた状態であｎば、機械的強度および導亀惠會一層高め
るＣとができる。

一方、本発明の具望インタラプタの市、極材料の製造方
法によｎば、璋会金属金構成する各金属間の結合が良好
に行なわ扛、その分散状態を均一にでき、本発明の電極
材料の有する前記シズ的特性、特にさい断を札流１１α
？旨しく低くでき、また機械的特性の向上も図ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の真空インタラプタの電極材料によるぼ
、極金儲えた真全インタラプタの縦断面図、第２図＋Ａ
）　、　（Ｂｌ　、　ｆｃｌ　、　＋ＤＩ　、　ｆＥｌ
、第３図ｉＡ１　、　ｉＢｌ　、　’ＩｃＩ　。 （１）ｌ　、　Ｉｇｌおよび第４図ＩＡＩ　、　ｆＢｌ
　、　＋ＣＩ　、　ｔＤ＞　、　ｔｅｌはそ扛ぞｇ本発
明の電極材料の異なる成分組成ｐこおける組織状態を示
すＸ線写ぼである。 ４・・・真空容器、５・・・電極棒、６・・・電極。 第３図］Ａ） ］のこ 第３図（Ｃ） ＋ＱＰ 、第３悶Ｌ） ゛　グ５３図ＩＩ） １０μ 第３図ＩＤ） 第１　図パＡ： ］６二 第４因℃） 第１］１図；Ｂ′； 第４図（Ｄ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｉｌ＋　銅２０〜８０貞遺％、クロム５〜７０重電九、
   モリブデン５〜７０貞菫％および灰化クロＡ　Ｑ、５〜
   ２０貞菫％、戻化モリブデン０．５〜２０眞量％の１種
   または２稙（２棟の場仕合計で０．６〜２０貞菫％）よ
   りなる複合金属でめることを特徴とする真空インタラプ
   タのば極材料。 （２）　前記連合金属の組織状態が、クロム、モリブデ
   ンおよび炭化クロム、炭化モリブデンの１種また（は２
   橿の各粉末が拡散結合した多孔質の基材に銅が溶浸され
   た状態であることｔ−％徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の真空インタラプタの１極材料。 １３）　クロム、モリブデンおよび灰化クロム、炭化モ
   リブデンの１檎または２種の各粉末を混合し、０の混合
   粉末全非酸化性雰囲気中にて前記各粉末の融点以下の温
   度で加熱し相互に拡散結合−ぜしめて多孔質の基材上形
   成し、択いでＣの基材に銅を非酸化性雰囲気中にて銅の
   融点以上の温度で加熱して溶浸せしめ、ｊ’Ｎ　２０〜
   ８０貞菫％、クロム５〜７０重瀘％、モリブチフ５〜フ
   ０重撞％および灰化クロム０．５〜２０重着％。 炭化モリブデン０．５〜２０重盪％の１　ｍまたは２種
   （２種の場合合計で０．５〜２０重け％）よりなる複合
   金属としたことを特徴とする真空インタラプタの電極材
   料の製造方法。 （４）　クロム、モリブデンおよび炭化クロム、炭化モ
   リブデンの１種または２種の各粉末を混合し、この混合
   粉末の上に銅を載置するとともに非酸化性雰囲気中に収
   納し、先ず銅の融点以下の温度で加熱し前記混合粉末を
   相互に拡散結合せしめて多孔質の基材を形放し、次いで
   銅の融点以上の温度で加熱して前記基材に銅ｔ−溶浸せ
   しめ、銅２０〜８０］ｉ量％、クロム６〜７０東量％、
   モリブデン５〜７０重量％および炭化クロム０．６〜２
   ０重量％、炭化モリブデン０．５〜２０重葉％の１種ま
   たは２種（２種の場合合計で０．５〜２０重量％）より
   なる複合金属としたことを特徴とする真空インタラプタ
   の電極材料の製造方法。