JPS60181027U - 反応性イオンエツチング装置 - Google Patents

反応性イオンエツチング装置

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JPS60181027U
JPS60181027U JP6920284U JP6920284U JPS60181027U JP S60181027 U JPS60181027 U JP S60181027U JP 6920284 U JP6920284 U JP 6920284U JP 6920284 U JP6920284 U JP 6920284U JP S60181027 U JPS60181027 U JP S60181027U
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JP
Japan
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etched
ion etching
reactive ion
lower electrode
convex portion
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Pending
Application number
JP6920284U
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English (en)
Inventor
光一 住谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の反応性イオンエツチング装置の第１の例
の構成を示す断面図、第２図は従来の反応性イオンエツ
チング装置の第２の例の電極構造のみを示す断面図、第
３図はこの考案の一実施例になる反応性イオンエツチン
グ装置の電極構造のみを示す断面図である。 図において、１は反応室、２は上部電極、３ａは下部電
極、５は高周波電源、６は反応性ガス導入口、７は反応
性ガス排出口、８は被エツチング部材、９は絶縁物、１
０は凸部である。なお、図中同一符号は同一または相当
部分を示す。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）反応性ガス雰囲気中で互いに対向する上部電極と
    下部電極との間に印加される高周波電界によって生じる
    上記反応性ガスのイオンによって上記下部電極上に載置
    された被エツチング部材をエツチングするものものにお
    いて、上記下部電極の上面の上記被エツチング部材の載
    置部に上記被エツチング部材の下面の大きさを越えない
    大きさを有し上記被エツチング部材の下面に接触する接
    触面をもつ凸部を設けたことを特徴とする反応性イオン
    エツチング装置。
  2. （２）下部電極の上面の凸部以外の部分は絶縁物で覆っ
    たことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載
    の反応性イオンエツチング装置。
JP6920284U 1984-05-10 1984-05-10 反応性イオンエツチング装置 Pending JPS60181027U (ja)

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JP6920284U JPS60181027U (ja) 1984-05-10 1984-05-10 反応性イオンエツチング装置

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JPS60181027U true JPS60181027U (ja) 1985-12-02

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