JPS60186842A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPS60186842A JPS60186842A JP59041326A JP4132684A JPS60186842A JP S60186842 A JPS60186842 A JP S60186842A JP 59041326 A JP59041326 A JP 59041326A JP 4132684 A JP4132684 A JP 4132684A JP S60186842 A JPS60186842 A JP S60186842A
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- Japan
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- reticle
- thickness
- optical
- lighting device
- pattern surface
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は、ＬＳ１．ＩＣ等の製造の際レチクルまたはマ
スクの像をウェハーに焼きつける投影露光装置、特には
レチクルまたはマスクの各種属さに対応ｉｉＪ能な投影
露光装置に関するものである。
スクの像をウェハーに焼きつける投影露光装置、特には
レチクルまたはマスクの各種属さに対応ｉｉＪ能な投影
露光装置に関するものである。
〈従来技術〉
一般の投影露光装置は、第１図に示す様に、レチクル４
のレチクルパターン面４ａに形成されたパターンをＩ＋
（（、明するための照明装置ｌを、レチクル４の上部に
配置し、又レチクル４と照明装置１の間に、レチクル４
とウニ／％−７の位置合せをする為のアライメント装置
２を配置することにより構成されている。照明装置ｌ内
には、〕くターンの形成されたレチクルパターン面４ａ
と共役位置に露光したくない部分をマスキングする為の
マスキング部材１ａが設けである。このマスキング部材
１ａはレチクルパターン面４ａと一定の寸法関係にある
。一方、アライメント装置２は光学系で構成されており
、この光学系もレチクルパターン面４ａと一定の関係に
配置されねばならない。
のレチクルパターン面４ａに形成されたパターンをＩ＋
（（、明するための照明装置ｌを、レチクル４の上部に
配置し、又レチクル４と照明装置１の間に、レチクル４
とウニ／％−７の位置合せをする為のアライメント装置
２を配置することにより構成されている。照明装置ｌ内
には、〕くターンの形成されたレチクルパターン面４ａ
と共役位置に露光したくない部分をマスキングする為の
マスキング部材１ａが設けである。このマスキング部材
１ａはレチクルパターン面４ａと一定の寸法関係にある
。一方、アライメント装置２は光学系で構成されており
、この光学系もレチクルパターン面４ａと一定の関係に
配置されねばならない。
ところが、レチクル４の板厚が変わると、それに伴って
照明装置ｌ及びアライメント装置２からレチクルパター
ン面４ａまでの光路長が変化することとなり、その補正
を必要とする。たとえば第１図に示すように、レチクル
４がレチクル４ｂに ・変更し、それに伴いレチクルの
板厚が１１から１２だけ増加したＴ （＝ ｉ、＋ ＋
２）に変更になったとする。
照明装置ｌ及びアライメント装置２からレチクルパター
ン面４ａまでの光路長が変化することとなり、その補正
を必要とする。たとえば第１図に示すように、レチクル
４がレチクル４ｂに ・変更し、それに伴いレチクルの
板厚が１１から１２だけ増加したＴ （＝ ｉ、＋ ＋
２）に変更になったとする。
この場合、照明装置１及びアライメント装置２は、板厚
の増加分ｔ２に相当するだけの光路長袖１］：、を行な
うために、この捕ｉ１Ｅ分だけレチクルパターン面４・
ａから上方に移動されなければなｒ）ない。このときの
移動；ｄをｄとし、レチクル４及び小すの屈折率を＋１
とすれば、（１は以下の弐囚で表わされろ。
の増加分ｔ２に相当するだけの光路長袖１］：、を行な
うために、この捕ｉ１Ｅ分だけレチクルパターン面４・
ａから上方に移動されなければなｒ）ない。このときの
移動；ｄをｄとし、レチクル４及び小すの屈折率を＋１
とすれば、（１は以下の弐囚で表わされろ。
ｄ ＝１２（］、 −）・・・・−・囚たとえば、レチ
クル手の通常の板ＩＩｊＩはｔ、＝２．：’ｉ酪である
が、これか板厚Ｔ （＝ ｔ、＋ ＋２）＝６ｍｍ（＝
２．３祁＋ ３．７ ｍｍ ）のレチクル４ｂに変更
になったとする。レチクル４ｂの屈折率１１を１５１６
とすると、このときの照明装置ｌ及びアライメント装
置２の移動量ｄは」−記式囚から約１２６ ｍｍとなる
。
クル手の通常の板ＩＩｊＩはｔ、＝２．：’ｉ酪である
が、これか板厚Ｔ （＝ ｔ、＋ ＋２）＝６ｍｍ（＝
２．３祁＋ ３．７ ｍｍ ）のレチクル４ｂに変更
になったとする。レチクル４ｂの屈折率１１を１５１６
とすると、このときの照明装置ｌ及びアライメント装
置２の移動量ｄは」−記式囚から約１２６ ｍｍとなる
。
ここで、照明装置ｌ及びアライメント装置２は、共にレ
チクルパターン面４ａとある一定の距離関係に配置され
なければならないが、装置完成前ならば、」１記の板厚
の変更に対応した移動量を最初に見込んで設定しておけ
ばよく、判に問題は生じない。
チクルパターン面４ａとある一定の距離関係に配置され
なければならないが、装置完成前ならば、」１記の板厚
の変更に対応した移動量を最初に見込んで設定しておけ
ばよく、判に問題は生じない。
しかるに、レチクルの板厚は一般には上述したよりな１
．（＝２．３＋ｎｍ）であるが、時折ｔ１以外のもの（
たとえば−１−記のＴ（−６ｆｆ、＋１））が市場に存
在し、それへの対応が必要な場合がある。この時、装置
は既に市場に出た後であり、一旦規定寸法に載置した照
明装置１″Ｂを再度載置し直さなり゛ればならない串に
なる。たとえば−に連の例で示したような１．２６ ｍ
ｒｈもの移動用を要ずとずれば、この移動作業を容易に
かつ１１ソ確に行なうことは著しく困難となる。
．（＝２．３＋ｎｍ）であるが、時折ｔ１以外のもの（
たとえば−１−記のＴ（−６ｆｆ、＋１））が市場に存
在し、それへの対応が必要な場合がある。この時、装置
は既に市場に出た後であり、一旦規定寸法に載置した照
明装置１″Ｂを再度載置し直さなり゛ればならない串に
なる。たとえば−に連の例で示したような１．２６ ｍ
ｒｈもの移動用を要ずとずれば、この移動作業を容易に
かつ１１ソ確に行なうことは著しく困難となる。
く目 的〉
本発明の目的は、上記問題を解消し、一旦組み上げられ
た投影露光装置に対してレチクル又はマスクの板厚変更
があった場合でも、該装置に大１１］な改造を加える事
なく容易に上記の板厚変更に対処でき、更にレチクル又
はマスクへの防塵機能をも併せ持つ事ができる投影露光
装置を提供することにある。
た投影露光装置に対してレチクル又はマスクの板厚変更
があった場合でも、該装置に大１１］な改造を加える事
なく容易に上記の板厚変更に対処でき、更にレチクル又
はマスクへの防塵機能をも併せ持つ事ができる投影露光
装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、後述実施例の投影露光装置
は、レチクルまたはマスクのパターン面と該レチクルま
たはマスクを照明するための照明手段との間の光路中に
、前記レチクル雪の厚さに対応した所定の厚さ及び屈折
率を持つガラス板等の光学手段を配設して、前記レチク
ル雪の１９さにかかわらず前記光路の長さを一定に維１
４１するようにしたものである。
は、レチクルまたはマスクのパターン面と該レチクルま
たはマスクを照明するための照明手段との間の光路中に
、前記レチクル雪の厚さに対応した所定の厚さ及び屈折
率を持つガラス板等の光学手段を配設して、前記レチク
ル雪の１９さにかかわらず前記光路の長さを一定に維１
４１するようにしたものである。
〈実施例〉
以Ｆ、本発明の実施例について、図面を参照しプ、［が
ら説明する。
ら説明する。
第２図は本発明の一実施例を示ず４既略構成図である。
ここで従来から知られた構成として、第１図と同様に、
■はレチクル４のレブークルパターン面４＝ ａに形成
されたパターンをウェハー７−Ｊ二Ｋ 写し込む為の照
明光を発する照明装置、］−ａは照明装置１内にあって
レチクルパターン面４＝ ａと共役関係にあるマスキン
グの為のマスギング部イ１．２はレチクルパターン面４
・ａ上のアライメントマーク（不図示）とウェハー７上
のアライメントマーク（不図示）を整合する為のアライ
メント装置、３は挿脱自在の折り曲げミラー、５はレチ
クル手を載せるレチクルステージ、Ｏは縮小投影露光レ
ンズ、８はウェハー７を載せるウェハースデージである
。
■はレチクル４のレブークルパターン面４＝ ａに形成
されたパターンをウェハー７−Ｊ二Ｋ 写し込む為の照
明光を発する照明装置、］−ａは照明装置１内にあって
レチクルパターン面４＝ ａと共役関係にあるマスキン
グの為のマスギング部イ１．２はレチクルパターン面４
・ａ上のアライメントマーク（不図示）とウェハー７上
のアライメントマーク（不図示）を整合する為のアライ
メント装置、３は挿脱自在の折り曲げミラー、５はレチ
クル手を載せるレチクルステージ、Ｏは縮小投影露光レ
ンズ、８はウェハー７を載せるウェハースデージである
。
更に本実施例では、たとえば石英又はＢＫ７等でできた
ガラス平板等の光学部）Ｂ’ １．０を、照明装置１と
レチクルパターン面４・ａとの中間であって、４Ｊ↑曲
げミラー：３の−（：方に着脱自在１ぶように配設しで
ある。ここで光学部祠１０は、レチクル４を」一方から
覆えるだけの平面を持ち、また後述するようにして設定
さねた所定の板１“ｙを自する。また、レチクル４の厚
さに対応させて、それぞれ異なる仮１５」−の光学部４
４１− （ｌが用意しである。
ガラス平板等の光学部）Ｂ’ １．０を、照明装置１と
レチクルパターン面４・ａとの中間であって、４Ｊ↑曲
げミラー：３の−（：方に着脱自在１ぶように配設しで
ある。ここで光学部祠１０は、レチクル４を」一方から
覆えるだけの平面を持ち、また後述するようにして設定
さねた所定の板１“ｙを自する。また、レチクル４の厚
さに対応させて、それぞれ異なる仮１５」−の光学部４
４１− （ｌが用意しである。
ここで、上述した光学部月１０の板厚の設定について説
明する。レチクル４の板厚な１１、光学部拐１０の板厚
るニ【１．とした場合に、照明装置１からレチクルパタ
ーン面４ａまでの光路長が適切な状態になるとする。こ
の場合の［、と（」、との関係を以下の式（Ｂｌのよう
に定めることができる。
明する。レチクル４の板厚な１１、光学部拐１０の板厚
るニ【１．とした場合に、照明装置１からレチクルパタ
ーン面４ａまでの光路長が適切な状態になるとする。こ
の場合の［、と（」、との関係を以下の式（Ｂｌのよう
に定めることができる。
ｔ、十ｕ、−Ｃｏ（一定） ・・・・ ・・ （３）そ
こでたとえば、レチクル手の板厚が１１から１．に変更
になったとする。この場合には、本実施例ではり、下の
式（Ｃ）すなわち（Ｃ１’を満たずような板１９ｕ２を
持つ光学部材ＩＯに変更するだけでよい。
こでたとえば、レチクル手の板厚が１１から１．に変更
になったとする。この場合には、本実施例ではり、下の
式（Ｃ）すなわち（Ｃ１’を満たずような板１９ｕ２を
持つ光学部材ＩＯに変更するだけでよい。
ｔ３＋ Ｌ１２： Ｃｏ−−・” （Ｃ）ｕ、、＝ ｃ
ｏ−１３−−・＝ （Ｃ’）従って、レチクル手が変更
された場合の予定される厚さｔ３を上記の式（Ｃ′）に
代入することにより、該厚さ【、に対応した光学部材１
０の板厚ｕ２を容易に設定し得る。このような設定を、
複数種類のレチクル４に対応して行ない、複数種類の所
定の板厚を持つ光学部４）Ｊ’ １０を予め準備してお
くようにする。
ｏ−１３−−・＝ （Ｃ’）従って、レチクル手が変更
された場合の予定される厚さｔ３を上記の式（Ｃ′）に
代入することにより、該厚さ【、に対応した光学部材１
０の板厚ｕ２を容易に設定し得る。このような設定を、
複数種類のレチクル４に対応して行ない、複数種類の所
定の板厚を持つ光学部４）Ｊ’ １０を予め準備してお
くようにする。
上述のようにして設定された板厚を持つ光学部材１０を
、レチクル４の厚さに応じて交換すれば、上記の光路長
は何ら変化することがない。レチクル手の板厚が変更に
なった時、照明装置ｌ及びアライメント装置２を上方に
移動する１丁と、光学部Ｎ４１０を交換する１）とは等
舗であり、復音の方が作業性、コスト等あらゆる点で勝
る。
、レチクル４の厚さに応じて交換すれば、上記の光路長
は何ら変化することがない。レチクル手の板厚が変更に
なった時、照明装置ｌ及びアライメント装置２を上方に
移動する１丁と、光学部Ｎ４１０を交換する１）とは等
舗であり、復音の方が作業性、コスト等あらゆる点で勝
る。
又光学部４Ａ１０は、レチクルパターン面４ａに対して
離れた位置にあり、かつレチクルΦの全体を覆うように
配置しであるので、折曲げミラー３等から発生ずる塵や
埃等を受ける事になり、」１記作用と同時に防塵機能を
１−１１つことになる。
離れた位置にあり、かつレチクルΦの全体を覆うように
配置しであるので、折曲げミラー３等から発生ずる塵や
埃等を受ける事になり、」１記作用と同時に防塵機能を
１−１１つことになる。
次に、第８図に本発明による光学部材の他の実施例を示
す。ここでは、くさび状の一対の光学片１１ ａ 、
１１１．１からなる光学部材１１を示しである。該光学
部材１１は、上面と下面とが平行なガラス平板を斜方向
に平面で切断した形状を持つもので、光学片１１ａへの
入射光と光学片１１ｂからの出射光とは互いに平行とな
るようにしである。
す。ここでは、くさび状の一対の光学片１１ ａ 、
１１１．１からなる光学部材１１を示しである。該光学
部材１１は、上面と下面とが平行なガラス平板を斜方向
に平面で切断した形状を持つもので、光学片１１ａへの
入射光と光学片１１ｂからの出射光とは互いに平行とな
るようにしである。
この時の特徴は、光学片１１ａ 、ｌｌｂの少なくとも
一方を、第３図に於て右又は左に動かす事により光学部
材１１の任意の板厚を作り出す事が出来る。また、第２
図に示した実施例では光学部材１０を違う板厚のものに
交換せねばならないが、第３図の場合には光学片１１ａ
、ｌｌｂの移動で上記の交換と同一効果があり、交換
の必要がない。
一方を、第３図に於て右又は左に動かす事により光学部
材１１の任意の板厚を作り出す事が出来る。また、第２
図に示した実施例では光学部材１０を違う板厚のものに
交換せねばならないが、第３図の場合には光学片１１ａ
、ｌｌｂの移動で上記の交換と同一効果があり、交換
の必要がない。
なお、第２図に示した実施例においては、板厚の異なる
光学部材を交換するようにしたものであるが、板厚を等
しくして、屈折率の異なる光学部材を交換するようにし
ても、実質上光路長を一定に保つことができ、同様な効
果を得ることができろ。
光学部材を交換するようにしたものであるが、板厚を等
しくして、屈折率の異なる光学部材を交換するようにし
ても、実質上光路長を一定に保つことができ、同様な効
果を得ることができろ。
〈効 宋〉
以−１−説明したように本発明は、所定の厚さ及び屈折
率を持つ交換可能又は移動可能な光学手段を、照明り段
とレチクルとの間に配設ずろことにより、照明丁１段を
移動することなく、容易にレチクルの板厚変更に対処す
ることかでき、更に−に記光学手段がレチクルの−に面
を覆うように配設されることにより、レチクルに対する
防塵機能をもイノ１せ持つことができるという非常に（
ｅれた効果を奏するものである。
率を持つ交換可能又は移動可能な光学手段を、照明り段
とレチクルとの間に配設ずろことにより、照明丁１段を
移動することなく、容易にレチクルの板厚変更に対処す
ることかでき、更に−に記光学手段がレチクルの−に面
を覆うように配設されることにより、レチクルに対する
防塵機能をもイノ１せ持つことができるという非常に（
ｅれた効果を奏するものである。
第１図は従来の投影露光装置の概略構成図、第２図は本
発明の一実施例を示す概略構成図、第３図は本発明によ
る光学部材の他の実施例を示す概略図である。 ■・・・・・・照明装置。 ２・・・・・・アライメント装置。 ４・・・・・レチクル。 ４ａ・・・レチクルパターン面。 ４ｂ・・・レチクル。 ７ ・・ ・・ ウ コ一 ハ − 。 １０．１１・・・・・・光学部イＡ。 １１ａ、ｌｌｂ・・・光学片。
発明の一実施例を示す概略構成図、第３図は本発明によ
る光学部材の他の実施例を示す概略図である。 ■・・・・・・照明装置。 ２・・・・・・アライメント装置。 ４・・・・・レチクル。 ４ａ・・・レチクルパターン面。 ４ｂ・・・レチクル。 ７ ・・ ・・ ウ コ一 ハ − 。 １０．１１・・・・・・光学部イＡ。 １１ａ、ｌｌｂ・・・光学片。
Claims (1)
- 照明手段からの照明光によりレチクルまたはマスク上の
パターンをウェハー」二に焼付ける投影露光装置におい
て、前記レチクルまたはマスクに対して前記ウェハーと
は逆側であって、前記照明手段から前記レチクルまたは
マスクのパターン面マでの光路の途中に、前記レチクル
またはマスクの厚さにかかわらず１ｉＪ記光路の長さを
一定にする為の光学手段を配設したことを特徴とする投
影露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59041326A JPS60186842A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 露光装置 |
| US06/707,235 US4630922A (en) | 1984-03-06 | 1985-03-01 | Pattern transfer apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59041326A JPS60186842A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60186842A true JPS60186842A (ja) | 1985-09-24 |
| JPH0564449B2 JPH0564449B2 (ja) | 1993-09-14 |
Family
ID=12605395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59041326A Granted JPS60186842A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4630922A (ja) |
| JP (1) | JPS60186842A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06275490A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-09-30 | Nec Corp | 露光装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3221226B2 (ja) * | 1994-03-30 | 2001-10-22 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
| EP1394616A1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-03 | ASML Netherlands BV | An alignment tool, a lithographic apparatus, an alignment method and a device manufacturing method |
| EP1396761A3 (en) * | 2002-08-29 | 2008-12-10 | ASML Netherlands B.V. | An alignment tool, a lithographic apparatus, an alignment method and a device manufacturing method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56110234A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-01 | Canon Inc | Projection printing device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54114182A (en) * | 1978-02-27 | 1979-09-06 | Canon Inc | Alingment device |
| JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
-
1984
- 1984-03-06 JP JP59041326A patent/JPS60186842A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-01 US US06/707,235 patent/US4630922A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56110234A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-01 | Canon Inc | Projection printing device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06275490A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-09-30 | Nec Corp | 露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0564449B2 (ja) | 1993-09-14 |
| US4630922A (en) | 1986-12-23 |
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