JPS60199003A - 光増感性高分子物質の製造方法 - Google Patents

光増感性高分子物質の製造方法

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JPS60199003A
JPS60199003A JP59056945A JP5694584A JPS60199003A JP S60199003 A JPS60199003 A JP S60199003A JP 59056945 A JP59056945 A JP 59056945A JP 5694584 A JP5694584 A JP 5694584A JP S60199003 A JPS60199003 A JP S60199003A
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keto
porous
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energy
carboxylic acid
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Kiyoshi Hayakawa
早川 淨
Hiroshi Taoda
博史 垰田
Kaoru Kawase
川瀬 薫
Takaari Yumoto
湯本 高在
Hiromi Yamakita
山北 尋巳
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な光増感性高分子物質及びその製造法、さ
らに詳しくいえば、いわゆる光化学蓄熱材の光異性化反
応を利用して、太陽光エネルギーを化学エネルギーに変
換し貯蔵するシステムにおいて、光増感剤として効果的
に用いうる不溶性の光増感性高分子物質及びその製造方
法に関するものである。
近年、石油資源の枯渇に伴い、代替エネルギーとして太
陽エネルギーの利用研究が盛んに行われており、その中
で光化学活性物質に太陽光を照射して光異性化反応を行
わせ、より高いエンタルピーをもつ高エネルギー異性体
に変換し、このものを貯蔵しておき、必要時に触媒を用
いた暗反応により原物質に戻すと同時に蓄積したエネル
ギーを熱として発散させ、これを暖房などに利用するシ
ステムは、太陽エネルギー利用上経済的に有望なシステ
ムとして内外の注目を集めている。
前記システムの概略を添付図面に示tと、図は光化学蓄
熱材を用いた太陽光エネルギー変換システムの概略図で
あって、図中1は光化学蓄熱材に太陽光を照射して光異
性化反応を行わせるための光照射室、2,2′は循環ポ
ンプ、3は光異性化反応により高エネルギー異性体に変
換したものを貯蔵するための貯槽、3′は暗反応により
原物質に変換されたものを貯蔵するための貯槽、4は高
エネルギー異性体がもつエネルギーを熱として発散させ
、該異性体を原物質に戻すための発熱反応槽である。
このシステムに用いる光化学蓄熱材としては、例えばノ
ルボルナジェン、スチルベンなどが挙げられる。しかし
ながら、このような光化学蓄熱材の多くは無色透明物質
であって、太陽光における紫外部及び可視部の波長域に
対して吸収をもたないため、通常そのままでは太陽光に
よる異性化反応を起こさず、重合反応のような副反応の
みが進行する。したがって、光化学蓄熱材に光異性化反
応を行わせ、高エネルギー異性体に変換させるためには
、光化学蓄熱材の代りに光を吸収して、そのエネルギー
を該光化学蓄熱材に移動させる能力を有する光増感剤を
添加することが必要である。
この光増感剤については、暗反応に用いる触媒の汚染に
よる不活性化を避けるために、貯槽や発熱反応槽などに
混入しないことが望ましく、またシステムの反覆運転に
おける経済性の点からも、不溶性で光照射室内に固定し
うるものが要求される。
しかしながら、従来の光増感剤は、このような要望に対
して必ずしも満足しうるものではなかった。
本発明者らは、光化学蓄熱材の光異性化反応を利用して
、太陽光エネルギーを化学エネルギーに変換し貯蔵する
システムに用いる光増感剤について、前記したような要
望にこたえるべく鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を
有する不溶性の光増感性高分子物質がその目的に適合し
うろことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
すなわち、本発明は、多孔性若しくは繊維状の有機又は
無機高分子物質にグラフト重合させて成るスチレン系重
合体のベンゼン骨格に、メチレン結合を介してケトカル
ボン酸残基又はケトアルコール残基が結合した不溶性の
光増感性高分子物質、及び多孔性若しくは繊維状の有機
又は無機高分子物質にクロロメチルスチレンをグラフト
重合させたのち、これにケトカルボン酸又はケトアルコ
ールを縮合させることを特徴とする不溶性の光増感性高
分子物質の製造方法を提供するものである。
本発明において用いる多孔性若しくは繊維状の有機又は
無機高分子物質については、まず多孔性有機高分子物質
として、例えば表面積の大きな市販の吸着用ポリスチレ
ン系、ポリアクリル酸エステル系MR樹脂などや、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなとの汎用樹脂を大表面積化
処理を行ったものを挙げることができる。多孔性無機高
分子物質としては、例えば活性炭、シリカゲル、ゼオラ
イト、アルミナ、各種のケイ酸カルシウム、ケイ酸アル
ミニウムなどの粗粒状のもの、ガラスやレンガのような
焼成品などが挙げられる。また、繊維状有機高分子物質
としては、例えばセルロース系繊維、ビニル繊維、アク
リル繊維などの有機系繊維が挙げられ、繊維状無機高分
子物質としては、例えば石綿や炭素繊維などが用いられ
る。
本発明において前記の高分子物質にグラフト重合させる
クロロメチルスチレンは市販のm−1p−混合物でよく
、液相グラフト法においてはそのままか、又は適当な濃
度のベンゼン溶液などとして用いることができる。また
気相グラフト法においては通常希釈しない状態で用いら
れる。グラフト重合反応は過酸化物触媒やセリウム塩な
どを用いて行うこともできるし、ガンマ線、電子線、紫
外線などの活性光線を照射して行ってもよい。この照射
法の場合、同時照射法を用いても、前照射法を用いても
よい。
液相グラフト法においては、重合反応は空気中、不活性
雰囲気中、減圧下のいずれでも進行するが、気相グラフ
ト法においては減圧下で前記活性光線を照射することが
望ましい。グラフト率は一般に液相グラフト法の方が大
きいが、気相グラフト法においては、反応後の表面積の
減少程度が低く、かつ均一なグラフト物を得ることがで
き、さらに副生ホモポリマーも少なくてモノマーの利用
効率が高い。なお、無機高分子物質に対してグラフト重
合させる場合、適当な不飽和シランヵンプリング剤など
を添加することが望ましい。
本発明においては、光増感性を示すカルボニル性官能基
を導入するために、ケトカルボン酸又はケトアルコール
が用いられる。ケトカルボン酸としては、例えばアセチ
ル安息香酸のような脂肪族カルボニル置換カルボン酸、
ベンゾイル安息香酸のような芳香族カルボニル置換カル
ボン酸のいずれも用いることができる。また、ケトアル
コールとしては、例えばアセトンアルコールやジアセト
ンアルコールなど、あるいは互変異性によりアルコール
形となりうるアセチルアセトンやベンゾイルアセトンな
どが挙げられる。
本発明における縮合反応は、例えばジメチルホルムアミ
ドやベンゼンなどのグラフトされた高分子物質に対する
不溶性溶媒中に、グラフトされた高分子物質、理論量よ
り若干過剰のケトカルボン酸又はケトアルコール、アセ
トネート塩などを加え、かきまぜながら加熱することに
よって行われる。反応温度は通常常温〜Zoo℃の範囲
であり、また反応時間は1〜24時間程度である。この
縮合反応においては、脱塩化水素を容易に進行させるた
めに、少量の低分子アミンを添加することが望ましい。
また、ケトアルコールを用いる場合は、そのナトリウム
塩やナトリウムアルコラードを使用する方が有利な場合
もある。そして、縮合反応終了後、ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、クロロホルム、メタノールなどの不活性
溶剤で洗浄し乾燥すれば、目的とする光増感性高分子物
質が得られる。
このようにして得られた光増感性高分子物質は、多孔性
若しくは繊維状の有機又は無機高分子物質にグラフト重
合させて成るスチレン系重合体のベンゼン骨格に、メチ
レン結合を介して、光増感性を示すケトカルボン酸残基
又はケトアルコール残基が導入された不溶性のものであ
って、その少量全ノルボルナジェンなどの光化学蓄熱材
に混入し、かきまぜながら光照射を行うか、又は浸漬状
態で光照射を行うことにより、該光化学蓄熱材全クワド
リンクレンなとの高エネルギー物質に光異性化すること
ができ、光エネルギーの化学的変換にょる蓄熱の目的を
達成することができる。
本発明の不溶性の光増感性高分子物質は、光化学蓄熱材
の光異性化反応を利用して、太陽光エネルギーを化学エ
ネルギや置換し貯蔵するシステムにおける光増感剤とし
て、例えば光照射室に固定して用いることができ、極め
て実用的価値の高いものである。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
実施例1 高密度ポリエチレンペレット25riキシレン50〇−
中で2時間かきまぜながら加熱して溶解させ、冷却した
のち、生成したゲルをろ適法により分離シた。このもの
fltのメタノール中に浸漬して分散させたのち、ろ過
する操作を2回繰り返してろ別し、空気中40℃で乾燥
して破砕し、粗粒状多孔性ポリエチレンを得た。このも
のの表面積は11.2rr?/fであった。
次に、このようにして得られた粗粒状多孔性ポリエチレ
ン10.066 Fを直径491m1のすり合せ蓋付き
試験管に入れ、蒸留により精製したりoロメチルスチレ
ン(m−及U p−クロロメチルスチレン混合物)10
−とベンゼン50mef加え、液体窒素を用いて排気し
ながら、冷却固化−融解脱気を繰り返して脱酸素後、試
験管蓋上部に取り付はルト60のガンマ線により常温で
117時間照射し生成物を吸引ろ過後、ベンゼンで繰り
返し洗浄し空気中で風乾後減圧乾燥した。収iは11.
932 fで、グラフト率(重量増加量7元のポリエチ
レン重量)は0.185であった。このものは定性試験
により顕著なatの存在が認められ、また赤外線吸収ス
ペクトルによりグラフトが確認された。
このクラフトポリエチレン0.9939に対し、グラフ
トしたクロロメチルスチレン基に対し理論量の5倍]に
相当する4−アセチル安息香酸0.917V、トリエチ
ルアミンQ、75m/及びジノチルホルムアミド50m
1を加え、沸騰水浴上でかきまぜながら2時間加熱後−
夜装置した。次いで生成物全ろ別し、温ジメチルホルム
アミド、水、クロロホルムで洗浄後減圧乾燥した。収量
は1.073 Fで8.07%の重量増加を示した。こ
のものは、赤外線吸収スペクトルにより4−アセチル安
息香酸が結合していることが確認された。クロロメチル
スチレンの置換率は61.7%であった。
実施例2 実施例1で作成したクロロメチルスチレンクラフトポリ
エチレン粗粒に対して、塩素含量の約5理論倍貴に相当
するO−ベンゾイル安息香酸1.505Fを加え、トリ
エチルアミン0.75+d、ジメチルホルムアミド50
+dとともに、95℃で2時間かきまぜながら加熱した
のち一夜放置した。
次いで生成物をろ別し、温ジメチルホルムアミド、クロ
ロホルムで洗浄後減圧乾燥した。収量は]、124fで
10.7%の重量増加であった。クロロメチルスチレン
の置換率は54.8%であった。
実施例3 アセチルアセトン252を水酸化ナトリウム112、水
15−、メタノール50−の混合液中に注入し、冷却後
ろ別して少量のメタノールで洗浄乾燥してナトリウムア
セチルアセトネートを得た。
次に、実施例1で作成したクロロメチルスチレンクラフ
トポリエチレン粗粒1.002Fに、前記のナトリウム
アセチルアセトネート0.634 ? (塩素含有量の
約5理論倍量)を加え、ジメチルスルホキシド40−と
ともに55℃の水浴中で約27時間かきまぜながら加熱
した。冷却後生成物をろ別したのち、メタノールで十分
洗浄し、空気浴中で加熱乾燥後、さらに減圧乾燥を行っ
たところ、生成物は0.961 Fでわずかに減量がみ
られたが、赤外線吸収スペクトルからアセチルアセトン
化されたことが確認された。
実施例4 実施例1で作成したクロロメチルスチレンクラフトポリ
エチレン粗粒0.30(lにアセチルアセトン0 、5
 ml、トリエチルアミン0.3ml、ジメチルホルム
アミド20−を加え、沸騰水浴上で2時間かきまぜなが
ら加熱して反応させた。冷却後、ジメチルホルムアミド
及びクロロホルムで洗浄して白色粉末状ポリマーを得た
。生成物の赤外線吸収スペクトルからアセチルアセトン
が結合していることを確認した。
実施例5〜lO 種々の形態の有機及び無機高分子物質に、実施例1と同
様にガンマ線照射によジクロロメチルスチレンをグラフ
ト重合させた。その結果を次表に示す。
これらのグラフト住成物はすべて実施例1〜4に準する
方法で光増感性高分子物質とすることができた。
応用例 J、 mol / を濃度のノルボルナジェン−シクロ
ヘキサン溶液3.0−を透明石英製1m角、高さ5mの
光照射管に入れ、これに実施例1で得た4−アセチル安
息香酸を結合したクロロメチルスチレンクラフトポリエ
チレン粉末10.3■を加え、小型のマグネチツクスタ
ーラーで管内をかきまぜながら、分光された340 n
m光(強度1.OX 1105er/5ecd)を常温
で1.5〜15時間照射してクワドリシクレンの生成率
をガスクロマトグラフ法で定量した。その結果15時間
の照射で4.6%に達した。
また、実施例2で作成した0−ベンゾイル安息香酸を結
合したクロロメチルスチレングラフトポリエチレンを、
前記と同様にして用いたときのクワドリシクレン転化率
は5.9%であった。
【図面の簡単な説明】
図は光化学蓄熱材を用いた太陽光エネルギー変換システ
ムの概略図であって、図中符号1は光照射室、2,2′
は循環ポンプ、3.3′は貯槽、4は発熱反応槽である
。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ 多孔性若しくは繊維状の有機又は無機高分子物質に
    グラフト重合させて成るスチレン系重合体のベンゼン骨
    格に、メチレン結合を介してケトカルボン酸残基又はケ
    トアルコール残基が結合した不溶性の光増感性高分子物
    質。 2 多孔性若しくは繊維状の有機又は無機高分子物質に
    クロロメチルスチレンをグラフト重合させたのち、これ
    にケトカルボン酸又はケトアルコールを縮合させること
    を特徴とする不溶性の光増感性高分子物質の製造方法。
JP59056945A 1984-03-23 1984-03-23 光増感性高分子物質の製造方法 Granted JPS60199003A (ja)

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JPS6357442B2 JPS6357442B2 (ja) 1988-11-11

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53137924A (en) * 1977-05-04 1978-12-01 Rohm & Haas Monomer curable with irradiation

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53137924A (en) * 1977-05-04 1978-12-01 Rohm & Haas Monomer curable with irradiation

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