JPS60200434A - 陰極フイラメントの製造方法 - Google Patents

陰極フイラメントの製造方法

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JPS60200434A
JPS60200434A JP59056789A JP5678984A JPS60200434A JP S60200434 A JPS60200434 A JP S60200434A JP 59056789 A JP59056789 A JP 59056789A JP 5678984 A JP5678984 A JP 5678984A JP S60200434 A JPS60200434 A JP S60200434A
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JP
Japan
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electron discharge
electron
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JP59056789A
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Kiyoshi Inoue
潔 井上
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/04—Manufacture of electrodes or electrode systems of thermionic cathodes

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐熱性金属線からなるフィラメント又は陰極材
の改良に関する。
従来耐熱性金属のタングステンの表面に電子放出性物質
のバリウム、ストロンチウム、カルシウムを主体とした
酸化物を塗布して用いることが行なわれている。
本発明は更に電子放出効率を高めるために電子放出性物
質に希土類金属と硼素を含有する物質を用い、これを母
材表面に単に塗布するのではなくて、被覆材と母材との
間に放電を行ない母材表面に一部拡散する状態の被覆層
を形成するか被覆材のイオン打込による拡散層を形成す
ることにより耐消耗性を高めるように設けたことを特徴
どするものである。
以下一実施例によって説明する。第1図は本発明の一実
施例断面図で、耐熱性金属の母材4の表面に拡散結合す
る電子放出性物質の薄い被覆層31を形成する。母材の
耐熱性金属としては、W、Ta、pt、lrのような融
点が高く良導電性の電子放出性材を用いる。この母材表
面に被覆する電子放出性物質としては、1aSprXC
e等の希土類と硼素Bを含み、3a 、 Ca 、3r
からなるもので、pr (Ba o、s Bo、4 )
 e 、pr (Cao、s % Sro、r、 )s
 )La (BaO−3、Bo、7 )e 、Ce (
Ca0.2 % Sro、4% Bo、4 >6等を用
いる。
母材4へのこれら電子放出性物質31の被覆には第2図
の放電被覆手段が用いられる。1はバイブレータで、振
動ヘッドを構成し、先端チセツク2に被覆材チップ3を
取付け、母材4に対向して先端をバイブレータ 1の振
動によって接触開離を繰返すように設定する。5はチッ
プ3と母材4間に放電を行なわせるパルス電源である。
被覆加工雰囲気は不活性ガス雰囲気とづるために気密容
器6で囲まれ内部を真空ポンプ7により排気するととも
にボンベ8から不活性ガスを供給する。尚、気密容器6
にはベローズ6aが一部設けてあり、上下振動は自在に
行なわれる。
放電による被覆加工は、被覆材チップ3が下降して母材
4に接近したとき放電が発生し放電熱で溶解したチップ
月が母材4に接触溶着し、これを振動ザイクル毎に繰返
して被覆が行なわれ、加工は放電電界により母材4内に
一部拡散する状態で被覆され母材4の移動により被覆部
分を変えることにより、母材4の所定部分若しくは全面
に被覆層31を形成することができる。実験は被覆材デ
ツプ3の振動数を100〜4001−lzで振動させ、
放電電源5のパルス幅を1〜50μs、放電電流波高値
Ipを50〜200Aで行なった。被覆層の厚さは通常
10μm以下が用いられる。
又被覆加工は前記被覆lデツプ3の振動に加え、或いは
単独にデツプ3を軸を中心に回転を加えて行なうことが
でき、被覆効果が向上できる。
又被覆材のイオンプラントを行なうことができ、イオン
打込みは雰囲気圧を10(7orr程度にし被覆材に放
電を行ないイオン発生を行なっても電界加速制御して打
込むようにする。又被1+Jのワイヤを電極間に張って
おいて、これを衝撃放電にJ:つて溶融飛散させて母材
に衝突溶着させたり、被覆材の粉末を放電衝撃により噴
q4させて衝突溶着させる方法等を利用して被覆するこ
とができる。
次に本発明の電子放出性物質を被覆した陰極材のエミッ
ション効果を説明すると、W線を1000°Cに加熱し
保持したときの放射効率を1とした場合に比較して次の
表の通りであった。
尚いずれも1000℃に加熱した。
用材 被 覆 祠 効率 W な し 1 pr (Ba o、s、Bo、4) s 6pr (C
a o、s、Sr O,4) 6 5,31 a (B
a O,3,80,7) 67.6〃 Ce(Cao、
2.Sro、4、Bo、4)s 8.4以上のように 
極めて効率の高い安定したエミッション効果が得られ、
実用使用状態の加熱温度は360℃程麿であるので、充
分安定した利用ができることが確認された。
又被覆層は用材に対して一部拡散する状態に結合してお
り、電子、イオン等の衝撃に対しても強く、寿命が高く
良好な陰極が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一部切断面図、第2図は被覆装置の一
実施例構成図である。 4・・・・・・・・・母材 31・・・・・・・・・被覆層 5− ;fll沼 才2濶

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. タングステン等の電極母材の表面に真空中若しくは不活
    性ガス雰囲気中で、希土類金属と硼素を含有する電子放
    出性物質の放電被覆層若しくはイオンプラント層を形成
    したことを特徴とする陰極フィラメント。
JP59056789A 1984-03-23 1984-03-23 陰極フイラメントの製造方法 Granted JPS60200434A (ja)

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JPS60200434A true JPS60200434A (ja) 1985-10-09
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5611981A (en) * 1979-06-21 1981-02-05 Raybestos Manhattan Inc Abrasive composition
JPS57128436A (en) * 1981-02-02 1982-08-10 Koichi Kanetani Manufacture of lanthanum-boride thermionic emission electrode
JPS60130023A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Inoue Japax Res Inc 電極フイラメント

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5611981A (en) * 1979-06-21 1981-02-05 Raybestos Manhattan Inc Abrasive composition
JPS57128436A (en) * 1981-02-02 1982-08-10 Koichi Kanetani Manufacture of lanthanum-boride thermionic emission electrode
JPS60130023A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Inoue Japax Res Inc 電極フイラメント

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