JPS60201204A - 金属表面性状測定装置 - Google Patents

金属表面性状測定装置

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JPS60201204A
JPS60201204A JP59058638A JP5863884A JPS60201204A JP S60201204 A JPS60201204 A JP S60201204A JP 59058638 A JP59058638 A JP 59058638A JP 5863884 A JP5863884 A JP 5863884A JP S60201204 A JPS60201204 A JP S60201204A
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Yuichiro Asano
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    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 仁の発明は、各種物体の表面性状、特に表面粗度に関係
する性状を測定する装置に関するものである。
一般に各種物質の表面粗度は、単に表面の美観のみなら
ず、その物質の機械的性質や表面物性等に深く関係して
いる。例えば鉄鋼の分野においては、製品である鋼板の
表面粗度は、表面の光沢度等の美感のほか、プレス加工
性あるいは塗装性、メッキ性等に密接な関係があシ、シ
たがって圧延工程等において表面粗度管理を行なうこと
は極めて重要な課題となっている。しかるに従来一般の
表面粗度測定装置や表面粗度表示方法は、真に最適な粗
度管理を行なうためには未だ不充分なものであった。す
なわち、表面性状に関しては、凹凸の情報であるRa 
(中心線平均あらさ)やRmax(最大あらさ)、PP
I (peak per 1nch )が定められてい
るに過ぎず、複雑な表面性状、すなわち不規則に凹凸や
傾斜が変化する粗面の情報としては不充分である。また
測定装置に関しては、従来の最も一般的なものは触針式
粗度計であるが、この粗度計は被測定面の極く一部につ
いてしか測定できず、表面全体の性状についての情報を
得るには適切ではなく、また接触測定であるため高速で
測定することが困難であるとともに、機械的な故障が発
生し易く、また被測定面が傷付く問題もある。
そこで最近では光学的な手法によシネ規則面の表面粗度
情報に関する統計的性質を測定する方法が提案されてい
る。すなわち、表面粗度を表わすパラメータとしては、
平均粗さ、平均傾射角、平均山間隔等各種の指数が用い
られているが、これらは表面プロフィルの振幅情報、傾
斜角情報および周波数情報に大別され、通常不規則面の
統計的性質はこれらのうちの2情報で表現できることが
知られておシ、このような観点から光学的に表面プロフ
ィルの情報をめる方法として、特公昭53−46460
号公報に示される方法、および特開昭54−24051
号公報に示される方法が既に提案されている。前者の方
法は、波長の異なる2本の光束を被測定面に投射し、光
拡散の半値幅から前記情報をめるものであるが、この方
法を実際に適用しようとする場合、波長の大きく異なる
2種の光源を必要とし、光源としてレーザを用いる場合
には特に適切な光源が現状では存在しないという問題が
あシ、また装置構成や保守が煩雑であシ、価格も高くな
る等の欠点がある。一方後者の方法は、装置化上の便宜
のため同一波長の光束を異なる2つの入射角で被測定面
に投射することによって前記情報をめるものであ)、前
者の方法の欠点を解消することが可能である。しかしな
がら後者の方法に基いて実際の装置を設計1実現する場
合、次のような欠点あるいは不備な点があった。
すなわち、先ず第1には、被測定面に投射する光束の波
長、入射角、被測定面の粗さレンジに関する設定条件が
不明であシ、そのため実際の装置化にあたって、設定条
件によっては測定結果のばらつきが極めて大きくなる場
合がある。塘だ第2には、実際の装置にそのまま適用し
た場合、被測定面の全反射率の違い、光源強度の変動、
また測定対象物が走行している場合における被測定面の
振動等が測定誤差要因となって充分な測定積度が得られ
なくなることがめシ、これらの誤差要因に対して補正を
行なうことが望ましいが、その方法が特に示されていな
い。これらの理由によシ、前述の特開昭54−2405
1号公報に開示されている方法を実際の装置として具体
化した場合には、測定精度等の点で満足し得るものが得
られないのである。
一方、通常の光学的粗度測定においては、被測定面に対
する表面伺着物等による全反射率の変動は測定誤差要因
として単に補正対象として扱かわれているだけであるが
、逆にこの情報を有効に用いれば、表面付着物の有無、
種類等に関する情報を得ることができ、表面品質管理上
、極めて有効となる。
この発明は以上の事情を背景としてなされたもので、前
記特開昭54−24051号公報に示される方法を装置
として具体化する上において、前述の問題点を解決し、
常に高精度で表面粗度情報を得ることを可能とした表面
性状測定装置を提供することを基本的な目的とするもの
である。さらにこの発明は、表面粗度情報と同時に表面
付着物についての情報が得られるようにした表面性状測
定装置を提供することを第2の目的とするものである。
すなわち本願の第1発明は、同一波長の光束を異なる2
つの入射角で被測定面に投射して、表面粗度についての
独立な2つの情報である振幅情報と傾斜角情報を測定す
るにあたシ、各入射角を粗さレンジ(σ)および波長に
応じた適切な条件を満足するように設定し、同時に被測
定面の全反射率の違いや光源強度の変動、あるいは被測
定面の振動による誤差要因について検出値を補正し、こ
れによって高精度で前記情報が得られるようにした表面
性状測定装置を提供する。また本願の第2発明は、被測
定面の表面付着物がその被測定面の反射率に影響を及ぼ
すことに着目して、前記第1の発明の装置にさらに表面
付着物に関する情報を出力させる機能を付加した装置を
提供する。
具体的には、第1発明の表面性状測定装置は、同一波長
の光束(2光束)を異なる2つの入射角で被測定面に投
射して得られる反射光強度から、前記被測定面の表面プ
ロフィルの振幅情報および傾斜角情報もしくは周波数情
報をめる装置において;前記光束の波長をλ、被測定面
表面プロフィルの高さ、分布の分散をσ、前記2つの入
射角をノ θ0.θ2として、 (4πσ/λ・cooθ1)≦4 IO≦(4πσ/λ’ cosθ2)≦100を満足す
るように入射角θ8.θ2を設定した光投射手段と;各
入射角0..θ2の入射光束にそれぞれ対応する正反射
強度および全反射量を検出するだめの第1の光検出手段
と:前記入射光束の一部を取出して入射光強度に比例す
る光強度を検出するための第2の光検出手段と;前記各
光検出手段の出力に基いて各入射光束に対応する入射光
強度信号、正反射強度信号、および全反射量信号をめる
信号処理装置と;正反射強度信号を対応する入射光強度
信号もしくは全反射量信号で除算する除算器と:前記除
算器の出力から振幅情報と傾斜角情報もしくは周波数情
報とを演算出力する演算出力装置とを有する構成とする
ことを特徴とするものである。
また第2発明の表面性状測定装置は、前記第1発明の装
置における除算器に、前述の如く正反射強度信号を対応
する入射光強度信号もしくは全反射量信号で除算する機
能のほか、全反射量信号を対応する入射光強度信号で除
算する機能を持たせ、前記演算出力装置においては除算
器の出力から振幅情報と傾斜角情報もしくは周波数情報
と表面付着物に関する情報とを演算出力させるようにし
たことを特徴とするものである。
以下この発明の表面性状測定装置について詳細に説明す
る。
先ずこの発明の測定装置の基本原理について、本発明者
等による実験結果を踏まえて説明する。
粗度パラメータの振幅情報として表面プロフィルの高さ
分布の分散σ、周波数情報として自己相関関数がl/e
に減少する距離(以下これを自己相関距離と記す)Tを
選べば、傾斜角情報はσ7々で表わされる。この発明の
装置では、上記振幅情報σおよび傾斜角情報φを次のよ
うな原理によってめる。
被測定面に投射される投射光波長をλ、入射角をθとし
た場合、正反射光強度工、と前記粗度パラメータσ、σ
力との関係は、ベックマン(Beckmann)の理論
(注”、 P、 Beckmann他、「The Sc
atlingof Eletromagnetic W
aves from Rough SurfacesJ
Pergamon Press、 1963年発行)に
従ってgをg=(4πσ/λ・cosθ) ・・・・・
・(1)と定義すれば、 g < 1の場合 I、=f、(σ) ・・・・・・(
2)g>to場合 11B = f 2(’/’r )
−・・(3)が成立する。
前述の特公昭53−46460号公報において開示され
ている発明は同様のベックマンの理論に従ったものであ
シ、また特開昭54−24051号に開示されている発
明は前記(2)式の条件がg=1でも成立することを用
いているが、定量的に厳密な条件は明らかにされておら
ず、またこれらの関係を用いた場合の測定精度も不明で
ある。
これに対し、この発明では、詳細な理論的、実験的検討
に基いて、通常測定対象とされる粗面(例えば冷延鋼板
、アルミ板等)ではT=20〜100μm程度であるこ
とを前提に次の、結果を導出した。
g≦4 の場合 I、=f、(σ) ・・・・・・(4
)g≧10 の場合 I、 = r2(σ/’r) −
・−・・−(5)このような(4) # (5)式が成
立する根拠は次の通シである。
I、 トa (〜q)、オヨヒr、 トafi (oc
JT/T )の関係についてベックマンの理論に基いて
数値計算した結果を第1図、第2図に示す。第1図に示
すように、n(”σ)の値が小さい場合にはTの値(但
しto−tooμmの範囲内)にかかわらず工、の値が
47(■σ)に一義的に対応し、Ji: (ocσ)が
大きくなればTの値によって工、の値に対するJii 
(”σ)の値が変動する。すなわち、i7(”σ)の値
が大きくなれば、I8の値から6(ocσ)の値をめる
場合のばらつきが大きくなる。第1図中εは工、の値か
らJii (”σ)の値をめる場合に生じる誤差を示す
が、この図から、■8の測定値によシ高精度(誤差±3
%以下)でσ(” −/ir )の値をめ得る条件は、
9≦2であること、すなわちg≦4であることがわかる
。したがって(4)式はg≦4の条件下で成立する。一
方第2図から、工s (!: 5lii”/T(■”/
T) トノrJA 係1c ライては、Tの値が20〜
100μmの範囲内においてIsの値に対する4γT(
ocσ/T )のばらつきが無視できる程度に小さくな
るのは、g≧10の場合であることがわかる。すなわち
g≧10の場合にI8がσ/’r (”v’r/T )
の−価関数とみなすことができ、したがってg≧10の
条件下で前記(5)式が成立する。
また前記(5)式に関して、g)100の場合には実際
の測定条件下ではIsの測定値に対するσlのばらつき
が極めて大きく、実際の測定が不可能となる場合がある
。その例をσが0.6〜3.0μmの冷延鋼板ダル材に
ついて第3図、第4図に示す。
第3図の例は、入射波長λ=0.514μm1入射角θ
=100とし、g)100の場合について測定したI′
sの値と、触針粗度計にて測定したσ、々との関係を示
し、また第4図の例は入射波長λ=3.39μm1入射
角θ=100とし、10≦g≦ioo。
場合について測定した■5の値を、触針粗度計にて測定
したσ力の値との関係を示すもの士あるが、第4図の1
0≦g≦lOOの場合にはISとσ/Tとの相関度が高
いのに対し、第3図のg)100の場合には極めてばら
つきが大きいことがわかる。
この原因は、真値として用いているσ、Tの値が前述の
ように触針粗度計によって得られたものであシ、触針で
は検出不能な、お雇いはσ、Tへの寄与の小さい小振幅
の表面凹凸成分が光反射に影響を与えるため、または表
面プルフィルの自己相関関数形にばらつきがあシ、これ
がgの増大とともに増加するためと推定される。したが
って前記(5)式の成立条件は単にg≧10と規定する
だけではなく、10≦g≦100と規定する必要がある
すなわち、 lO≦g≦100の場合 I、=−r2(σ/II′)
・・・(6)とする必要がある。
以上の理由から、高精度で振幅情報σをめるだめの投射
光としては、前記(4)式の成立条件よシ、測定対象の
粗さくσ)レンジに応じて波長λおよび入射角θ、が (4πφ・cosθ、)≦4 ・・・・・・(ηを満足
し、また高精度で傾射角情報σ、々を得るための投射光
としては、前記(6)式の成立条件よシ、測定対象の粗
さくσ)レンジに応じて波長λおよび入射角θ2が 10≦(4πσ/λ”Cog 02 )≦too ・・
・・−(8)を満足する必要がある。したがってこの発
明の装置においては、被測定面に対する同一波長λの2
本の投射光束の入射角θ1.θ2が波長λ、粗さレンジ
(σ)に応じて前述の(7) 、 (8)式を満足する
ように、光源を含む光投射手段を設定する。
一方、この発明の装置における光学系の光検出手段とし
ては、入射角θ、、θ2の前記2本の入射光束が被測定
面で反射した各々の散乱光についてその正反射強度18
1 、1.2および全反射量Σ1.Σ8を検出するため
の第1の光検出手段としての1個以上の検出器と、前記
2本の入射光束の一部でこれらに各々比例する光強度I
01. IO,を検出する第2の光検出手段としての光
学系および光検出器とを有する構成とする。なおこζで
符号X3、。
I :Σ Σ :V、、I のサフィックスは、入82
 l# 2 91 02 射角θ1.θ2のサフィックスに対応させるものとする
。I、、I、□およびΣ1.Σ2を検出するための光検
出器として社、それぞれ別個のものを用μても良φが、
共通の検出器でいくつかの強度を検出するように構成し
ても良く、例えば最も簡単な例としては、1個の検出器
を被測定点の周シに走査して一連の光強度分布をめ、I
 、I81 82 e Σ1.Σ2をめる機構が考えられる。
上述のような光投射手段および光検出手段を含むこの発
明の測定装置における光学系の一例を第5図に原理的に
示す。
第5図において、同一の波長λのレーザビームIA、I
Bを発生するレーザー光源2A、2Bは、前述のように
被測定面3の被測定点4に対し、入射角θ8,0.でレ
ーザビームIA、IBを入射させるように配置されて−
る。またレーザ光源2A。
2Bから出射されたレーザビームIA、IBの一部は、
ビームスプリッタ5A、5Bによシ第2の光検出手段と
しての光検出器6A、6Bに導かれ、これにより被測定
面に対する入射角θ1.θ2の入射光束(レーザビーム
IA、IB)の光強度に比例する光強度I01 e ”
03が検出される。一方、被測定面3に投射されたレー
ザ光は、被測定点4で反射して、それぞれ光反射強度分
布7A、7Bを生じる。そしてその光反射強度分布7A
、7Bは、シリコンフォトダイオード等からなる第2の
光検出手段としての光検出器8A、8Bによって検出さ
れる。すなわちこれらの光検出器8A、811は、被測
定点(光反射点)4を中心とする円弧上を走査させ、入
射角θ1.θ2のそれぞれに対応する光反射強度分布7
A、7Bを検出する。この例においては、入射角θ1の
光束に対する正反射強度I3゜とじては、光検出器8A
が反射角θ1付近に位置した時点の光検出器8Aの出力
信号の最大値を用いることができ、また入射角θ2の光
束に対する正反射強度■3□としては光検出器8Bが反
射角θ2.付近に位置した時点の光検出器8Bの出力信
号の最÷イIk4田1^L>1−−At+PikL−*
J−j>Ifeb暑−mrΣ2としては、それぞれ反射
角0□、02の周シで得られる光検出器8A、8Bの出
力信号を積分(もしくは加算)した値を用−ることかで
きる。
上述のような光検出器6A、6B:8A、8Bを用−た
場合のこの発明の測定装置の信号処理系統の一例を第6
図に示す。
第6図にお−て、各光検出器6A、6B:8A。
8Bの出力信号はそれぞれ増幅器9 A 、 9 B、
 :10A、IOHによって増幅され、微弱な電気信号
から次段の信号処理装置11に充分な感度で入力可能な
電気信号となる。それらの増幅器9A。
9B:lOA、IOHの出力信号は、信号処理装置11
に入力され、正反射強度l11m ”82 、全反射量
Σ8.Σ2、入射光強度I01. I。2と各々一定の
比例関係を持つ信号、すなわち正反射強度信号工、、′
t I82’、全反射量信号Σ1′、Σ2′、入射光強
度信号I0、′、IO2′に変換される。すなわち前述
の検出器構成の場合、正反射強度Is□、1.2に比例
する正反射強度信号”81’ # ”@2’として、光
検出器8A、8Bがそれぞれ反射角θ、、0.付近に位
置した時点の信号の最大値をめ、また全反射量Σ1.Σ
2に比例する全反射量信号Σ1′、Σ2′として、光検
出器8A 、8Bの反射角θ0,0□の周シで得られる
信号を積分(もしくは加算)した量をめれば良い。この
ようにして信号処理装置11から出力された工、□′、
■、□′、ΣI′、Σ2′、’o1’p ”。□′の各
信号は、除算器12に入力され、次の(9)式、61式
で規定されるη1.η2が算出されるOこのようにII
、′p I82’をそれぞれΣ、′、Σ2′によシ除算
して得られるη8.η2の値は、入射角θ1゜θ2に対
応する正反射強度について、光源強度の変動、被測定面
の全反射率の変動による誤差要因を除去した値に相当す
る。したがってη1.η2をそれぞれ(4)式、(6)
式におけるIr、(正反射強度)として使用することに
よって、光源強度の変動、被測定面の全反射率の変動に
よる粗度測定誤差を補正もしくは軽減することが可能と
なる。そこでこの発明の装置では、除算器12から出力
されたη8.η2が演算出力装置13に入力され、この
演算出力装置13において、予め記憶されている(4)
式、(6)式の関係からσおよびσ、々の値をめ、その
値が出力される。すなわち入射角θ、に対応するη が
(4)式におけるI、として、また入射角θ2に対応す
るη2が(6)式におけるI、として用いられて、σ、
σ7々の値が出力される。ここで、(4)式、(6)式
の関係は理論計算によってめることも可能であるが、実
際には、実験的にめられた検量線を用いることが容易で
ある。すなわち予め実験によってη1とσの関係を定め
る検量線およびη2とσAの関係を定める検量線を作成
しておき、それらの検量線に基いてη1.η2からσ、
σAをめることができる。
上述のようにして、振幅情報としての表面プロフィルの
高さ分布の分散σと、そのσと自己相関距離Tとの比で
ある傾斜角情報σ2々を粗度ノくラメータとして得るこ
とができるのである妙(、もちろん場合によっては演算
出力装置13にσとσ力からTを算出する機能を持たせ
て、σとT(したがりて振幅情報と周波数情報)を出力
させることもできる。
なお前述の例では、正反射強度に相当する信号として、
正確に反射角01.θ2の位置における反射強度検出信
号を用いるのではなく、反射角θ1゜θ□付近における
最大反射強度I、1′、 1.、Iを用いているため、
被測定物に振動等の幾何学的配置の変化が生じた場合(
例えば走行物体表面の粗度測定)でも正しい値を検出す
ることができる。
また前述の例では、η1.η2をめるために前記(9)
式、四式で示されるように18□′1mlを全反射量に
比例する信号Σ1′、Σ2′で除算しているが、全反射
率が#1ぼ一定とみなせる場合には、(9) 、61式
のΣ1′、Σ2′を入射光強度に比例する信号■。、′
■。2′に置換し、I81’+I84’をそれぞれ”0
1’ j I03’で除算した値をη、、η2として用
いることもできる。この場合被測定面の全反射率の変動
による粗度測定誤差については補正されないが、光源強
度の変動による誤差につ−ては補正もしくは軽減される
ことになる。
なおまた、第5図、第6図の例において、光検出器8A
、8Bの走査は、例えば演算出力装置13からのタイミ
ング信号に従い、ステッピングモータ14およびそのド
ライバ15によって行なうようにすれば良い。また光検
出器8A、8Bとしては固体素子カメラ等のイメージセ
ンサを用いることも可能であシ、この場合には光検出器
の走査機能は不要である・ さらにこの発明の装置では、前述のようにして得られる
情報の一部を利用して、被測定面上の汚れ、油膜等の付
着物に関する情報を得ることもできる。すなわち本願の
第2発明に係る機能でおシ、次にこれについて説明する
一般に物体表面の反射率(反射光が散乱する場合には全
反射率)は、フレネル(Fresnel )の公式から
、入射角θおよび表面の屈折率nと第7図に示すような
関係を持つ。すなわち、入射角θおよび表面の屈折率n
によって反射率が一定の関係で変化し、かつ表面の屈折
率nは表面に付着した物質の種類、厚みに関係するから
、次のαn 、 on式で示すように異なる入射角θ8
.θ2における全反射量に比例する信号Σ、′、Σ2′
と入射光強度に比例する信号I。、′、I02′との比
ζ0.ζ2をめれば、表面付着物に関する情報(物質の
種類、膜厚等)を得ることができる。
ζ1=Σ、/、/1 o 、 / ・・・・・・QカJ
・=X、/x・・′ ・・・・・・0埠ここで付着物情
報についてさらに詳しく説明すると、まず付着物の有無
を検知する最も簡単な方法としては全反射量に対応する
信号Σ1′またはΣ2′の変動を検出する方法があるが
、それだけでは付着物の情報としては極めて不充分であ
シ、そこでこの発明の場合、次のようにして付着物質の
種類や付着量(膜厚)を推定する。
すなわち、入射角0□、θ2における付着物のない場合
の反射率をrl、rQ、付着物のある場合の反射率をR
1,R2とすれば、一般に次の関係が成立する。
R,= 、e−に1d”5eC01、、曲QIH2= 
C26−に2d+secθ2 、−10.(14ここで
dは付着物の膜厚、K、 、 K2は付着物固有の定数
である。またri 、 C2は、付着物のない場合にお
ける被測定面に固有の定数となる。付着物のある場合の
反射率R1,R2は、前記C1n式、H式から、C0,
C2を定数として、 R,=α1ζ1 ・・・・・・0時 R2=C2C2・・・・・・α・ で表わされるから、al、(ト)式および(14,06
式から、ξ11−1o〔α1ζ□/r1’) =−に1
clsecθ、・・・αηξ2−10g (α2ζ2/
”2 :) =に2d ”Secθ2・・・0呻となる
ここでξ1.ξ2はαη、a樽式に示すようにζ、。
C2の関数となっているから、結局Qη、(2)式から
められたC1.C2の値からに1d 、 K2dの値を
導き出すことができる。さらにαη、 C11式からξ
、/e2= K1/に2 ・・・・・・ (至)で表わ
せる。K、) K2である物質についてはに1゜K2は
前述のように付着物質に固有の値であるから、K、/に
2から付着物質の種類を推定することができる。また、
K1A2の値が一定である場合、(至)、αφ式から付
着物膜厚dの値を推定することができる。
そこで第6図に示す例において、除算器12において<
II) 、 on式に従ってC1,C2の値を算出し、
そのC1,C2の信号を演算出力装置13に入力させて
、その演算出力装置13において前述のように例えばに
1A2の値をめ、それを付着物に関する情報として出力
させることができる。
次にこの発明の測定装置にょシ実際に表面粗度を測定し
た例を記す。
この例においては、測定装置の具体的構成としては、第
5図、第6図に示すようなもの、すなわち反射光検出器
8A、8Bとして走査型のシリコンフォトダイオードを
用い、また測定対象物は粗さレンジσが0.2〜0.5
μm程度の冷延鋼板ブライト材とし、その冷延鋼板が約
100−m1nの速度で走行している状態で測定を行な
った。
光源2A、2BとしてはHe−Neレーザ光源(波長λ
=0.633μm)を用い、入射角はθ、=750、θ
2=to0として、前記(7) 、 (8)式を満足さ
せた。そして光検出器6A、6B:8A、8Bの出力信
号を増幅器9A、9B:IOA、IOBにて増幅し、信
号処理装置11において前述のようにして’III’ 
s ”s3’ l ’01’ + I02’ #Σ1/
、Σ21を算出し、さらに除算器12において前記η1
.η2゜C0,C2を算出し、演算出力装置13におい
て、η1とσとの関係を定める検量線およびη2とσ/
Tとの関係を定める検量線を用いてσ、σ2々をめると
ともに、前記K 1.n2を算出し、これらのσ。
C2べp K IA2を出力させた。
この例におけるσ、σAについての検量線および出力デ
ータを、第8図、第9図に示す。
以上の説明で明らかなように、第1発明の表面性状測定
装置は、被測定面の粗さレンジ、入射光束の波長に応じ
て、高精度で表面粗度情報を得ることができる入射光の
入射角θ1.θ2の範囲を具体的に設定したものであシ
、シたがって第1発明の装置によれば、常に高精度で表
面粗度情報すなわち振幅情報σおよび傾斜角情報σA(
もしくは周波数情報T)を得ることができ、また光源強
度の変動や被測定面の全反射率の変動等の誤差要因につ
いて考慮した検出信号処理を行なっているため、これら
の誤差要因による測定精度の低下を極力抑えて、より高
精度の表面粗度測定ができる顕著な効果が得られる。
また第2発明の表面性状測定装置によれば、上述のよう
な表面粗度情報のみならず、被測定面上の汚れ、油膜等
の付着物に関する情報も同時に得ることができ、したが
って例えば冷延鋼板製造工程等において製品板等の品質
管理をよシ一層容易に行ない得る効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は粗面に投射した光に対する正反射強度ISと4
7(父σ)との関係を示す線図、第2図は粗面に投射し
た光に対する正反射強度Isと4カ(父σ2々)との関
係を示す線図、第3図はgの値が100〜3000の範
囲内の場合のIsと一/′i¥/4r(■σ、々)の関
係を示す相関図、第4図はgの値が10〜100の範囲
内の場合の■8とJii7’r (oca/lI′) 
(D関係を示f相関図、第5図はこの発明の測定装置に
おける光学系の一例を原理的に示す略解図、 第6図は第5図に示される光学系を用した場合のこの発
明の定装置における信号処理系を示すブロック図、 第7図は表面の反射率と入射角および表面屈折率との関
係を示す線図、 第8図はこの発明の装置を用いて測定したη、とσに関
するデータおよび検量線を示す図、第9図はこの発明の
装置を用いて測定したη2とσ/Tに関するデータおよ
び検量線を示す図である。 LA、IB・・・レーザビーム(入射光束)、2A。 2B・・・レーザ光源(光投射手段)、3・・・被測定
Li1lr16A、6B・・・光検出器(第2の光検出
手段)、8A、8B・・・光検出器(第1の光検出手段
)、11・・・信号処理装置、12・・・除算器、13
・・・演算出力装置。 第2図 第3図 0 2.0 4.0 6.0 第7図 入射角 θ 第8図 テ(μm)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 同一波長の光束を異なる2つの入射角で被測定
    面に投射して得られる反射光強度から、前記被測定面の
    表面プロフィルの振幅情報および傾斜角情報もしくは周
    波数情報をめる装置におiて、前記光束の波長をλ、被
    測定面表面プロフィルの高さ分布の分散をσ、前記2つ
    の入射角をθ! 。 θ、として1 (4πσ/λ・cosθ1)≦4 10≦(4πσ/λ’ cosθ2)≦100を満足す
    るように入射角θ1.θ2を設定した光投射手段と; 各入射角0□、θ2の入射光束にそれぞれ対応する正反
    射強度および全反射量を検出するための第1の光検出手
    段と; 各入射光束の一部を取出して入射光強度に比例する光強
    度を検出するための第2の光検出手段と:前記各光検出
    手段の出力に基いて各入射光束に対応する入射光強度信
    号、正反射強度信号、および全反射量信号をめる信号処
    理装置と;正反射強度信号を対応する入射光強度信号も
    しくは全反射量信号で除算する除算器と:前記除算器の
    出力から振幅情報と傾斜角情報もしくは周波数情報とを
    演算出力する演算出力装置とからなることを特徴とする
    表面性状測定装置。
  2. (2) 同一波長の光束を異なる2つの入射角で被測定
    面に投射して得られる反射光強度から、前記被測定面の
    表面プロフィルの振幅情報および傾斜角情報もしくは周
    波数情報をめる装置において、前記光束の波長をλ、被
    測定面の表面プロフィルの高さ分布の分散をσ、前記2
    つの入射角をθ1,02として、 (4πσ/λ・cosθ、)≦4 10≦(4πσ/λ’cosθ2)≦100を満足する
    ように入射角9□、θ2を設定した光投射手段と: 各入射角θ8.θ2の入射光束にそれぞれ対応する正反
    射強度および全反射量を検出する第1の光検出手段と; 各入射光束の一部を取出して各入射光強度に比例する光
    強度を検出する第2の光検出手段と:前記各党検出手段
    の出力に基いて各入射光束に対応する入射光強度信号、
    正反射強度信号、および全反射量信号をめる信号処理装
    置と:正反射強度信号を対応する入射光強度信号もしく
    は全反射量信号で除算するとともに、全反射量信号を対
    応する入射光強度信号で除算する除算器と; 前記除算器の出力から、振幅情報と傾斜角情報もしくは
    周波数情報と表面付着物に関する情報とを演算出力する
    演算出力装置とを有してなることを特徴とする表面性状
    測定装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5240629A (en) * 1975-09-26 1977-03-29 Whitin Machine Works Bobbin handling apparatus and instrument
JPS5332828A (en) * 1976-09-08 1978-03-28 Osaka Seikou Kk Method and device for disposing of iron metallurgy dross
JPS54143828U (ja) * 1978-03-31 1979-10-05

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