JPS6020148B2

JPS6020148B2 - 自走式遠心投射装置

Info

Publication number: JPS6020148B2
Application number: JP4755779A
Authority: JP
Inventors: 圭三西山
Original assignee: Toyoda Jidoshokki Seisakusho KK
Current assignee: Toyota Industries Corp
Priority date: 1979-04-18
Filing date: 1979-04-18
Publication date: 1985-05-20
Also published as: JPS55144965A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、遠心投射ユニットが固定してあり、かつ電磁
石を備え、駆動自在のｏーラによって走行自在なフレー
ムと、投射材精製機構を有する閉じた投射材循環路とを
備えた、大面積工作物、特に、船舶の外側面のための、
自走式遠心投射装置に関する。

ロープに懸架され、垂直方向には該ロープによって移動
され、水平方向には駆動自在のローラによって移動し、
電磁石の保持力が、投射室の十分な密封にのみ役立つよ
うに構成してある冒頭に述べた種類の遠心投射装置は公
知である。

このような従来装置の閉じた投射材循環路は、ィンベラ
を円形に囲み、機械的に作動するバケットコンベヤを有
しており、投射材は、上記バケットコンベヤから、空気
流による精製作用を同時に受けながら重力によってイン
ベラに供Ｖ給されるようになっている。従って、研婦対
象面が極度に額斜している場合、特に、上方から下方へ
内側に向って煩斜している場合には、この種の装置は、
もはや、役に立たない。

なぜならば、バケットコンベヤによって上昇させた投射
材が、ィンベラの供給漏斗内に落下しなくなるとともに
、ロープによる懸架方式を使用し得ないからである。た
とえば、船舶では、垂直面または傾斜の弱い面以外に、
下方から研掃処理しなければならない水平面も有してい
るので、ロープ懸架方式および機械的な投射材供給装置
を使用している従来装置では、船体全体の研掃処理には
使用できなかった。

本発明の目的は、懸袈裟層に関係なく、垂直面、煩斜面
のみならず懐斜の強い面および下方から研婦処理する必
要がある水平面にも使用できるコンパクトな自走式遠心
投射装置を提供することにある。

本願の自走式遠心投射装置の要旨は、本体の重量よりも
大きな保持力を有する電磁石および複数個の駆動ローラ
のうち少なくとも１つが操向可能な駆動ローラを、フレ
ームに取付けるとともに、投射材の貯蔵タンクが、重力
により常に投射材と粒子との分離装置の下方に位直すべ
く投射材の循環路中に回動継手を介在した空気搬送方式
とし、懸架装置に無関係に、工作物の垂直面あるいは水
平面に密着してすべての方向に移動可能にした構成にあ
る。

以下、本発明の一実施例を図面について説明する。

第１〜３図に示した遠Ｄ投射装置１は、走行自在のフレ
ーム２と、該フレーム２に固定した遠心投射ユニット３
と、フレーム２に、遠０投射ユニット３に対して揺動自
在に配設した投射材の貯蔵・精製用部分４とから成って
いる。

フレーム２には、ゴム被覆を設けた３個のローラ５が三
角形状に配置してあり、その１個は、制御駆動装鷹６（
好ましくは、電動機駆動のスピンドル駆動装置またはウ
オーム駆動装置）によって操向制御できるようになって
いる。

３個のローフ５の各々は、それぞれ、減速歯車機構８を
備えた電動機７によって駆動できるが、この場合、急速
逆転運転ができるよう、ブレーキ内蔵型の電動機を使用
するのが特に好ましい。

フレーム２には、ホルダ９によって、電磁石１０が固定
してあり、ローラ５の範囲内に三角形状に配置すること
により、本願装置の重Ｄに関して適切な保持力分布が得
られる。

なお、電磁石１０は、遠心投射装置１全体が、工作物の
下方から研縞処理すべき水平彼処理面である工作物表面
１１にも懸架状態に保持されるような大きさの保持力を
有していれば足りるが、この保持力は、安全上の理由か
ら、走行式遠Ｄ投射装置１の最大重量の２〜４倍に選定
することが望ましい。この際電磁石１０‘こ発生する熱
は、フレーム２に固定した冷却水タンク１２と冷却水ポ
ンプ１３とを有する閉じた冷却水循環路によって奪取す
る。一方、遠心投射装置が、工作物の垂直被処理面１１
上で上方に自走する際、十分に大きい加速を行うために
はローラ５と工作物表面１１との間の摩擦係数は、少く
とも０．４でなければならず、かつ電磁石１０の保持力
は遠心投射装置１の最大重量の約６倍の保持力が必要で
ある。

しかしながら、電磁石１０の強さを経済的に妥当な範囲
にすべく、電磁石１０の保持力を遠心投射装置１の最大
重量の４倍に相当する保持力に設定すれば、ローラ５の
ゴム被覆のゴム配合を適切にし、摩擦係数を約０．６に
高める必要がある。また、工作物表面１１の非平坦性お
よび突起（例えば、リベット）を考慮して、上記表面と
函磁石１０との間には、１仇駁のギャップ４４が設定し
てあり、電磁石１０が工作物表面１１に当接しないよう
にしてある。

さらに、遠心投射ユニット３は、投射室１５および駆動
電動機１６によって駆動されるィンベラ富４を有してお
り、投射室１５の一端には、ィンベラ１４からの投射材
の流れによって形成される扇形１８に対応して、走行方
向に対し横方向に長い開口１７が設けてある。

さらに、この開口１７の周縁部には、投射室１５と工作
物の被処理面１１とを密封するために、ゴム等の弾性密
封部材１９が取付けられている。従って、工作物表面１
１に衝突した投射材３３および工作物表面１１から削り
取られた粒子３４は、工作物表面１１と投射室１５との
間から外部に噴出せず、衝突作用あるいは自重による落
下作用によって、投射室１５に設けた橋集室２０内に譲
導される（第４図）。クサビ状に構成した楠集室２０の
端部には、工作物表面１１に平行な旋回藤２２を有する
回転継手２１が設けてあり、該旋回軸２２には、投射材
３３の精製・貯蔵用の旋回自在な部分４が回動可能に取
付けてある。図示の実施例では、旋回自在な部分４は、
回転継手２１に固定した分離機２３（好ましくは、風選
分離機）と、該分離機２３の下方に固定したタンク２４
と、該分離機２３に並行に配設され、粒子３４を分離す
るサイクロン２５と、該サイクロン２５に接続し、粒子
３４を貯蔵するタンク２６とから成っている。

さらに、サイクロン２５は、双方のタンク２４と２６と
が相互に並行になるよう、ホルダ２７によって分離機２
３に固定してある。なお、タンク２４および分離機２３
のみを旋回可能に構成したり、あるいは、タンク２４の
みを、補集室２川こ固定した分離機２３に対して旋回自
在に取付けるように構成し、サイクロン２５およびタン
ク２６はクレーム２に固定した構成とすることも可能で
ある。第６図は、回転継手２１の拡大横断面図を示し、
この回転継手２１は、図示のように瓶集室２０１こ溶接
した扇形状管部村２８と、分離機２３に溶接した半円状
受承部分２９と、該部分２９の両端に配設した丁番３０
とから成っている（第１図）。

警部材２８および受承部分２９には、分離機２３の旋回
時においても常に投射材３３の流通経路を形成すべくそ
れぞれ関口３１および３２が穿設されている。また、ィ
ンベラ１４は、同時に、投射材３３を吸引するベンチレ
ータとして構成してあり、必要な負圧は、投射ブレード
の外側に取付けられ、外方に屈曲したベンチレートプレ
ード‘こよって作られる。

この場合、投射室１５は、負圧によって吸引された空気
を高圧側にもどし得るよう、ラセン状ハウジングとして
構成してある。すなわち、投射室１５の負圧側は、可榛
性吸引管路３５によって投射材タンク２４に接続してあ
り、投射室１５の高圧側は、可裸性高圧管路３６によっ
て、分離機２３の下端に接続してある。

また、分離機２３は、回転継手２１の下方で、固定管路
３７によってサイクロン２５に接続してある。一方、ベ
ルト伝動機構３９を介して駆動電動機１６によって駆動
されるベンチレータ３８は、フレーム２に、駆動電動機
１６に対して平行に配置してあり、別のベルト伝動機構
４川ま、冷却水ポンプ１３を駆動する。

このベンチレータ３８の出口側には、可操性管路４２を
介してサイクロン２５に接続するフィル夕４１が固定し
てある。なお、フィル夕４１を備えた、または備えてい
ないベンチレータ３８を、サイクロン２６に直接固定す
る構成も可能であり、この場合、個有のベンチレータ駆
動装置が必要となるが、このようにすれば、可操性管路
４２を不用とすることができる。また、工作物表面１１
の研掃処理と投射材３３および粒子３４の精製・貯蔵に
必要なすべての装置をフレーム２に配贋した本願装置は
、電気ェネルギ供給用および遠隔操作用配線の薮続端子
（図示せず）を備えている。

次に、本願装置の作用について説明する。

遠心投射装置１を、昇降装置（例えば、クレーン）を用
いて研掃処理すべき工作物表面１１（例えば、船の壁
）に搬送した後、電磁石１０をオンすれば、遠心投射装
置１は、電磁石１０の保持力により該表面１１に保持さ
れ、駆動自在のローラ５によって該表面１１に沿って走
行可能となる。この状態から、遠隔操作可能なローラ５
の制御駆動装置６を操作することによって、本願装置１
を任意の場所へ移動させながら工作物表面１１を研掃処
理することができる。すなわち、第４図および第５図か
らわかるように、駆動電動機１６をオンすれば、投射材
３３は、ベンチレータとしても働くインベラ１４によっ
てタンク２４から吸引され、投射プレード‘こよって工
作物の被処理表面１１に対して斜めに投射される。

この場合、投射材の流れにより形成される扇形１８は、
走行方向に対して横方向にも拡がり、この拡がりの範囲
に対応する被処理表面１１が研縞処理される。工作物表
面１１に投射された投射材３３は、工作物表面１１から
削り取られた粒子３４とともに、捕集室２川こ入り、次
いで、重力の作用により、回転継手２１の開□３１，３
２を通って分離機２３内に落下する。

一方、ィンベラ１４のベンチレー夕作用によって生じた
高圧空気は、高圧管路３６によって分離機２３内に導入
され、この空気流により、削り取られた粒子３４を投射
材３３から分離する。

さらに、粒子３４を分離された投射材３３は、分離機２
３に固定したタンク２４内に自重により落下し、削り取
られた粒子３４は、高圧空気流により管賂３７を通って
サイクロン２５内に送られる。サイクロン２５に達した
粒子３４は、空気流から分離され、サイクロン２５に接
続するタンク２６内に落下する。なおベンチレー夕３８
によってサイクロン２５から吸引される空気は微細フィ
ル夕４１内で更に浄化されるので、清浄な状態で大気中
に放出される。このように、分離機２３を、旋回軸２２
に回動可能に取付けるとともに、該分離機２３に並行し
てサイクロン２５を取付けることによって、遠心投射装
置１のすべての作動位置において、投射材の精製および
粒子３４の分離を満足できる態様で行い得る。

上記の旋回自在部分４の重心は、旋回軸２２に関して、
該部分４が、衝突した投射材３３の落下範囲内の位置を
とるよう、選定してある。従って、工作物の被処理面１
１が垂直な場合、タンク２４，２６の重心線４３は、工
作物表面１１に対してほぼ平行な位置に来る（第４図）
。

また、工作物表面１１が水平で下方から処理すべき場合
には、重心線４３は、工作物表面１１にほぼ垂直となる
。即ち、部分４は、旋回髄２２のまわりを約９０ｏ旋回
運動する（第５図）。このように、タンク２４，２６は
工作物表面１１の方向により約９００旋回できるので
、下方から上方へ内側へ傾斜した工作表面１１の処理も
可能である。分離機２３およびサイクロン２５は、この
ような旋回性によって、遠ｏｆ費射装置１の様々な作動
位置において、十分な機能を発揮できる位置に自重によ
り自動的に変位し、投射材３３および削り取られた粒子
３４は、タンク２４，２６内に落下できる。さらに、イ
ンベラ１４による投射材３３の空気搬送方式によって、
ィンベラ１４および投射材３３用タンク２４の位置に関
係なく、閉じた投射材循環路の完全な機能が確保できる
。即ち、本発明に係る装置は、垂直面および傾斜面の処
理以外に、水平面の下方からの研婦処理を行うことがで
き、船舶の外側壁等を研掃処理する際に特に有効である
。

また投射材３３の空気搬送方式によって、装置の軽量化
が可能となり、その結果、装置保持用電磁石の経済的な
使用が可能となる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の一実施例を示し、第１図は全体正面図、第
２図は第１図のローＤ線に沿う断面図、第３図は第１図
のＡ方向から見た側面図、第４図は第１図のＷ−Ｗ線に
沿う部分断面図で、工作物の垂直表面の噴射処理状態を
示し、第５図は水平面の噴射処理状態を示す第４図に対
応する部分断面図、第６図は第４図の回転リンクの拡大
横断面図である。２・・・・・・フレーム、３・・・・・・遠心投射ユニ
ット、５…・・・駆動ローラ、１０・…・・電磁石、２
１・・・・・・回転継手、２３・・・・・・分離装置、
２４・・・…タンク、３３・・・・・・投射材、３４・
・・・・・粒子、３５・・・・・・可犠牲吸引管路、３
６・・・・・・可視Ｉ性高圧管路。第１図第２図第３図第４図第５図第６図

Claims

【特許請求の範囲】

１フレームに、インペラーを内蔵する投射室と捕集室
とが連続形成された遠心投射ユニツトと、電磁石および
操向可能なローラを含む複数個の駆動ローラを取り付け
るとともに、投射材の貯蔵タンクを重力により常に前記
投射ユニツトの下方に位置すべく捕集室に対して揺動自
在に連結し、かつ該タンクとそのタンクより常に上方に
位置するインペラーの投射材導入部とを可撓性管路にて
連通してタンク内の投射材をインペラーに空気搬送方式
にて供給可能ならしめたことを特徴とする自走式遠心投
射装置。