JPS6020200A - 放射性ガス沈着層厚さモニタ装置 - Google Patents
放射性ガス沈着層厚さモニタ装置Info
- Publication number
- JPS6020200A JPS6020200A JP12814083A JP12814083A JPS6020200A JP S6020200 A JPS6020200 A JP S6020200A JP 12814083 A JP12814083 A JP 12814083A JP 12814083 A JP12814083 A JP 12814083A JP S6020200 A JPS6020200 A JP S6020200A
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- Japan
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- radioactive gas
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- radiation
- radioactive
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野１
本発明は放射性ガスを固定する部材に形成さｉする放射
性ガス沈＠層の厚さを検出する放身寸性７Ｊス沈着層厚
さモニタ装置に関する。
性ガス沈＠層の厚さを検出する放身寸性７Ｊス沈着層厚
さモニタ装置に関する。
［発明の技術的背景］
第１図はＫｒ−８５のような放射性ガスを固定化する放
射性ガス固定化装置を示すもので、この放射性ガス固定
化装置では、Ｋｒ −８５を導入りる配管１と、銅また
はニッケル等の金属で構成された中心電極２と、この中
心電極２を同軸状【こＪＩｌｌ！り囲む円周電極３とか
らなる放電チェンノ人−ｈ’＝ Ｉｆぢ成されている。
射性ガス固定化装置を示すもので、この放射性ガス固定
化装置では、Ｋｒ −８５を導入りる配管１と、銅また
はニッケル等の金属で構成された中心電極２と、この中
心電極２を同軸状【こＪＩｌｌ！り囲む円周電極３とか
らなる放電チェンノ人−ｈ’＝ Ｉｆぢ成されている。
なお、図において符号２ａ（ま中心電極２を冷却する冷
却配管を、符号３ａ４は放電チェンバー内を減圧ザる減
圧配管を示している。
却配管を、符号３ａ４は放電チェンバー内を減圧ザる減
圧配管を示している。
このような放射性ガス固定化装置では、第２図に示すよ
うに、中心電極２がアース電位に円周電極３が−４ｋＶ
程度の高電圧に保持され、放電により）（ｒ−８５かイ
オン化され、Ｋｒ −８５イＡン４になり、このＫｒ
−８５イオン４は電界によって加速され、円周電極３の
内側に打ち込まれて固定化される。
うに、中心電極２がアース電位に円周電極３が−４ｋＶ
程度の高電圧に保持され、放電により）（ｒ−８５かイ
オン化され、Ｋｒ −８５イＡン４になり、このＫｒ
−８５イオン４は電界によって加速され、円周電極３の
内側に打ち込まれて固定化される。
しかしながら、このような方法で放射性ガスを固定化す
る場合には、ある時間がたつとＫｒ −８５イオン４が
円周電極３に打ち込まれて固定化する割合と、Ｋｒ −
８５イオン４により円周電極３に固定化されたＫｒ −
８５がたたき出される割合が平衡に達してＫｒ −８５
の固定化が限度に達する。
る場合には、ある時間がたつとＫｒ −８５イオン４が
円周電極３に打ち込まれて固定化する割合と、Ｋｒ −
８５イオン４により円周電極３に固定化されたＫｒ −
８５がたたき出される割合が平衡に達してＫｒ −８５
の固定化が限度に達する。
そこで、この時、第３図に示すように、中心電極２に−
４ｋＶ程度の電圧が印加され、円周電極３がアースされ
る。この結果、Ｋｒ −８５イオン４は中心電極２にぶ
つかりこの中心電極２の金属原子６がスパッタされ、円
周電極３の内周に沈着され、円周電極３にたたきこまれ
たＫｒ−８５ガス５が固定化される。そしである程度の
厚さまで金属層が沈着されると第２図に示す状態に戻さ
れ、Ｋｒ −８５イオン４が再度円周電極３の内面に打
ち込まれる。
４ｋＶ程度の電圧が印加され、円周電極３がアースされ
る。この結果、Ｋｒ −８５イオン４は中心電極２にぶ
つかりこの中心電極２の金属原子６がスパッタされ、円
周電極３の内周に沈着され、円周電極３にたたきこまれ
たＫｒ−８５ガス５が固定化される。そしである程度の
厚さまで金属層が沈着されると第２図に示す状態に戻さ
れ、Ｋｒ −８５イオン４が再度円周電極３の内面に打
ち込まれる。
すなわち、以上のように構成された放射性ガス固定化装
置では、このにうな動作を繰り返し、Ｋｒ−８５ガスが
入り込んでいる沈着層７を順次成長させ、Ｋｒ−８５ガ
スが固定化される。
置では、このにうな動作を繰り返し、Ｋｒ−８５ガスが
入り込んでいる沈着層７を順次成長させ、Ｋｒ−８５ガ
スが固定化される。
「背景技術の問題点」
しかしながら、従来のこのような方法により放射性ガス
を固定化する場合には、Ｋｒ−８５の沈着層７の厚さを
正確に計測する適当な手段がないという問題がある。
を固定化する場合には、Ｋｒ−８５の沈着層７の厚さを
正確に計測する適当な手段がないという問題がある。
すなわち、円周電極３に固定化されたＫｒ −８５の状
態が不明であり、固定化の安全性および信頼性を保証す
ることができないという問題があった。
態が不明であり、固定化の安全性および信頼性を保証す
ることができないという問題があった。
［発明の目的］
本発明はかかる従来の事情に対処してなされたもので、
放射性ガスの沈着層の厚さを容易に測定することができ
、放射性ガス廃棄物処理の安全性および信頼性を向上す
ることのできる放射性ガス沈着層厚ざモニタ装置を］是
供しようとηるものである。
放射性ガスの沈着層の厚さを容易に測定することができ
、放射性ガス廃棄物処理の安全性および信頼性を向上す
ることのできる放射性ガス沈着層厚ざモニタ装置を］是
供しようとηるものである。
［発明の概要１
すなわら本発明は、放射性ガスが固定される放射性ガス
沈着層を有する放射性ガス固定部材の前記放射性ガス沈
着層の厚さを測定する放射性ガス沈着層厚さモニタ装置
において、前記放射性ガス固定部材の側方に配設されビ
ーム状の放射線を前記放射性ガス固定部材に放射する放
射線発生装置と、前記放射性ガス固定部材を介して前記
放射線発生装置に対向して配設され前記放射性ガス固定
部材を通過した放射線を検出する放射線検出器と、この
放射線検出器で検出された信号を増幅する増幅器と、こ
の増幅器で増幅された信号を前記放射線発生装置と前記
放射性ガス固定部材との位置関係とともに記憶する記憶
装置と、この記憶装置に記憶された情報を入力し前記放
射性ガス固定部材に形成される前記放射性ガス沈着層の
厚さをめる演算装置とを備えたことを特徴とする放射性
ガス沈着層厚さモニタ装置である。
沈着層を有する放射性ガス固定部材の前記放射性ガス沈
着層の厚さを測定する放射性ガス沈着層厚さモニタ装置
において、前記放射性ガス固定部材の側方に配設されビ
ーム状の放射線を前記放射性ガス固定部材に放射する放
射線発生装置と、前記放射性ガス固定部材を介して前記
放射線発生装置に対向して配設され前記放射性ガス固定
部材を通過した放射線を検出する放射線検出器と、この
放射線検出器で検出された信号を増幅する増幅器と、こ
の増幅器で増幅された信号を前記放射線発生装置と前記
放射性ガス固定部材との位置関係とともに記憶する記憶
装置と、この記憶装置に記憶された情報を入力し前記放
射性ガス固定部材に形成される前記放射性ガス沈着層の
厚さをめる演算装置とを備えたことを特徴とする放射性
ガス沈着層厚さモニタ装置である。
［発明の実施例］
以下本発明の詳細を図面に示す一実施例について説明す
る。
る。
第４図は本発明の放射性ガス沈着層厚さモニタ装置の一
実施例を示すもので、図において符号３は円周電極を示
し−Ｃいる。この円周電極３の内側にはＸ線またはγ線
に対しＣ吸収のよい、例えばタングステン、モリブデン
等からなる極薄肉の内筒８が配設されている。円周電極
３０図の左側方にはＸ線またはγ線を発生させる放射線
発生装置の放射線源９が配設されＣおり、この放射線源
９は絞り９ａにより細いビーム状に絞り込まれる。
実施例を示すもので、図において符号３は円周電極を示
し−Ｃいる。この円周電極３の内側にはＸ線またはγ線
に対しＣ吸収のよい、例えばタングステン、モリブデン
等からなる極薄肉の内筒８が配設されている。円周電極
３０図の左側方にはＸ線またはγ線を発生させる放射線
発生装置の放射線源９が配設されＣおり、この放射線源
９は絞り９ａにより細いビーム状に絞り込まれる。
この放射線源９に対向して円周電極３の図の右側方には
細いスリット１０ａを有するコリメータ１０が配設され
ており、このコリメータ１０内には、例えばゲルマニウ
ム、半導体検出器、シンチレータ、光電子増倍管等から
なる放射線検出器１１が収容されている。
細いスリット１０ａを有するコリメータ１０が配設され
ており、このコリメータ１０内には、例えばゲルマニウ
ム、半導体検出器、シンチレータ、光電子増倍管等から
なる放射線検出器１１が収容されている。
図において符号１２および１３は、放射線検出器１１か
らの信号を増幅するプリアンプおよびリニアアンプを示
している。図において符号１４はリニアアンプ１３から
入力される信号のノイズ弁別を行なうディスクリミネー
タを示しており、また符号１５は計数値をカウントする
スケーラ１５を示している。図において符号１６はスケ
ーラ１５からの信号を入力しこの信号を記憶する記憶装
置およびこの信号を処理し円周電極３に固定される放射
性ガス沈着層７の厚さをめる演算装置とを備えたコンピ
ュータ１６を示している。
らの信号を増幅するプリアンプおよびリニアアンプを示
している。図において符号１４はリニアアンプ１３から
入力される信号のノイズ弁別を行なうディスクリミネー
タを示しており、また符号１５は計数値をカウントする
スケーラ１５を示している。図において符号１６はスケ
ーラ１５からの信号を入力しこの信号を記憶する記憶装
置およびこの信号を処理し円周電極３に固定される放射
性ガス沈着層７の厚さをめる演算装置とを備えたコンピ
ュータ１６を示している。
以上のように構成された放射性ガス沈＠層厚さモニタ装
置では、円周電極３の両側に対向して配設される放射線
［９およびコリメータ１０が図の矢符Ａ方向に走査され
る。この時、円周電極３を透過してきた放射線の計数率
は、走査距離に従って第５図に示すように変化する。
置では、円周電極３の両側に対向して配設される放射線
［９およびコリメータ１０が図の矢符Ａ方向に走査され
る。この時、円周電極３を透過してきた放射線の計数率
は、走査距離に従って第５図に示すように変化する。
すなわち、第５図において、吸収の肩ａにあたる部分は
放射線が円周電極３の上下端を通過している時の信号で
あり、また吸収ビークｂは放射線が円周電極３に内接す
る放射線吸収係数の大きい内筒８の上下端を通過した時
の計数値である。そして吸収の屑Ｃが測定したいＫｒ
−８５の沈＠層７を放射線が通過している時の計数値を
示している。
放射線が円周電極３の上下端を通過している時の信号で
あり、また吸収ビークｂは放射線が円周電極３に内接す
る放射線吸収係数の大きい内筒８の上下端を通過した時
の計数値である。そして吸収の屑Ｃが測定したいＫｒ
−８５の沈＠層７を放射線が通過している時の計数値を
示している。
このようにして、円周電極３を通過した放射線は、放射
線検出器１１で電気信号に変換され、プリアンプ１２お
よびリニアアンプ１３により増幅された後、ディスクリ
ミネータ１４によりノイズ弁別され、スケーラ１５によ
り計数値がカウントされる。
線検出器１１で電気信号に変換され、プリアンプ１２お
よびリニアアンプ１３により増幅された後、ディスクリ
ミネータ１４によりノイズ弁別され、スケーラ１５によ
り計数値がカウントされる。
このようにして、スケーラ１５によりカウントされた信
号は、その計数されＩＣ場所の情報とともにコンピュー
タ１６の記憶装置に記憶される。
号は、その計数されＩＣ場所の情報とともにコンピュー
タ１６の記憶装置に記憶される。
このような１回の走査により、放射線透過方向に垂直な
方向の沈着層７の厚さをほぼ計ｆｆ１ｌｌすることがで
きる。次に円周電極３が、例えば図の矢符Ｂ方向に微小
角度回転され、同様の走査が繰り返され、スケーラ１５
によりカラン］〜された信号（よ、それぞれコンピュー
タ１６の記憶装置に記憶される。
方向の沈着層７の厚さをほぼ計ｆｆ１ｌｌすることがで
きる。次に円周電極３が、例えば図の矢符Ｂ方向に微小
角度回転され、同様の走査が繰り返され、スケーラ１５
によりカラン］〜された信号（よ、それぞれコンピュー
タ１６の記憶装置に記憶される。
このようにして、円周電極３に沿っての走査が終了後、
コンピュータ１６はこのコンピュータ１６の記憶装置に
記憶された情報に基づいてこのコンピュータ１６の演算
装置により情報の再構成処理を行ない、これにより正確
な沈、着層７の厚さを二次元的にめることができる。
コンピュータ１６はこのコンピュータ１６の記憶装置に
記憶された情報に基づいてこのコンピュータ１６の演算
装置により情報の再構成処理を行ない、これにより正確
な沈、着層７の厚さを二次元的にめることができる。
なお以上述べた実施例では、放射性ガスとしてクリプト
ンを使用した例について説明し１こ′ｂ′Ｘ１本発明は
かかる実施例に限定されるもので（まなく、キセノン、
ヘリウム、トリチウム等の’ｆｊ１９Ａ性−）Ｊスにも
適用できることは勿論である。
ンを使用した例について説明し１こ′ｂ′Ｘ１本発明は
かかる実施例に限定されるもので（まなく、キセノン、
ヘリウム、トリチウム等の’ｆｊ１９Ａ性−）Ｊスにも
適用できることは勿論である。
［発明の効果］
以上述べたように本発明の放射性ガス沈着層厚さモニタ
装置によれば、放射性ガスが固定される沈着層の厚さを
２次元的に正確に計測できるｌこめ、放射性ガス廃棄物
処理の安全性、信頼性を従来に比較して大幅に向上する
ことができる。
装置によれば、放射性ガスが固定される沈着層の厚さを
２次元的に正確に計測できるｌこめ、放射性ガス廃棄物
処理の安全性、信頼性を従来に比較して大幅に向上する
ことができる。
第１図は従来のクリプトン固定化装置を示す縦断面図、
第２図および第３図は第１図に示すり１ノブトン固定化
装置の横断面図、第４図（ま本邦１月の一実施例の１１
Ｊ、銅性ガス沈着層厚さモニタ装置を示す構成図、第５
図は代表的測定データを示す説１揚図である。 ２・・・・・・・・・・・・中心電極 ３・・・・・・・・・・・・円周電極 ７・・・・・・・・・・・・沈着層 ８・・・・・・・・・・・・内 筒 ９・・・・・・・・・・・・放射線源 １０・・・・・・・・・・・・コリメータ１１・・・・
・・・・・・・・放射線検出器１２・・・・・・・・・
・・・プリアンプ１３・・・・・・・・・・・・リニア
アンプ１４・・・・・・・・・・・・ディスクリミネー
タ１５・・・・・・・・・・・・カウンタ１６・・・・
・・・・・・・・コンピュータ代理人弁理士 須 山
佐 −
第２図および第３図は第１図に示すり１ノブトン固定化
装置の横断面図、第４図（ま本邦１月の一実施例の１１
Ｊ、銅性ガス沈着層厚さモニタ装置を示す構成図、第５
図は代表的測定データを示す説１揚図である。 ２・・・・・・・・・・・・中心電極 ３・・・・・・・・・・・・円周電極 ７・・・・・・・・・・・・沈着層 ８・・・・・・・・・・・・内 筒 ９・・・・・・・・・・・・放射線源 １０・・・・・・・・・・・・コリメータ１１・・・・
・・・・・・・・放射線検出器１２・・・・・・・・・
・・・プリアンプ１３・・・・・・・・・・・・リニア
アンプ１４・・・・・・・・・・・・ディスクリミネー
タ１５・・・・・・・・・・・・カウンタ１６・・・・
・・・・・・・・コンピュータ代理人弁理士 須 山
佐 −
Claims (1)
- （１）放射性ガスが固定される放射性ガス沈着層を有す
る放射性ガス固定部材の前記放射性ガス沈＠層の厚さを
測定する放射性ガス沈着層厚さモニタ装置において、前
記放射性ガス固定部材の側方に配設されビーム状の放射
線を前記放射性ガス固定部材に放射する放射線発生装置
と、前記放射性ガス固定部材を介して前記放射線発生装
置に対向して配設され前記放射性ガス固定部材を通過し
た放射線を検出する放射線検出器と、この放射線検出器
で検出された信号を増幅する増幅器と、この増幅器で増
幅された信号を・前記放射線発生装置と前記Ｂ’ｌ ｔ
ＪＪ性ガス固定部材との位置関係とともに記憶する記憶
装置と、この記憶装置に記憶された情報を入力し前記放
射性ガス固定部材に一形成される前記放射性ガス沈着層
の厚さをめる演算装置とを備えたことを特徴とする放射
性ガス沈着層厚さモニタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12814083A JPS6020200A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-14 | 放射性ガス沈着層厚さモニタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12814083A JPS6020200A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-14 | 放射性ガス沈着層厚さモニタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6020200A true JPS6020200A (ja) | 1985-02-01 |
Family
ID=14977385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12814083A Pending JPS6020200A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-14 | 放射性ガス沈着層厚さモニタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6020200A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004093443A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-03-25 | Katsuhiko Ogiso | 多層構造容器の寸法測定法 |
| JP2014031554A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Tocalo Co Ltd | 放射線遮蔽コーティング部材 |
| US11501894B2 (en) | 2018-12-12 | 2022-11-15 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Wiring member |
-
1983
- 1983-07-14 JP JP12814083A patent/JPS6020200A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004093443A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-03-25 | Katsuhiko Ogiso | 多層構造容器の寸法測定法 |
| JP2014031554A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Tocalo Co Ltd | 放射線遮蔽コーティング部材 |
| US11501894B2 (en) | 2018-12-12 | 2022-11-15 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Wiring member |
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