JPS60205296A - ガス精製用低温吸着装置 - Google Patents

ガス精製用低温吸着装置

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Publication number
JPS60205296A
JPS60205296A JP59060777A JP6077784A JPS60205296A JP S60205296 A JPS60205296 A JP S60205296A JP 59060777 A JP59060777 A JP 59060777A JP 6077784 A JP6077784 A JP 6077784A JP S60205296 A JPS60205296 A JP S60205296A
Authority
JP
Japan
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container
gas
low
temperature
adsorption
Prior art date
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Pending
Application number
JP59060777A
Other languages
English (en)
Inventor
敦 小原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分封〕 本発明は、核融合炉の燃料中の不純物を除去するために
用いられるガス精製用の低温吸着装置に関する。
〔従来技術とその問題点〕
一般に、ガス中の不純物を除去し、精浄なガスを得るた
め、不純物ガスと被精製ガスの吸着剤に対する吸S特性
の差を利用した吸着塔を用いることは広く行なわル゛C
いる。
特に、水素ガスの精製を高純度までに行なおうとする場
合、液体チッ素温度(77Klまで吸着剤を冷却するこ
とが行なわれる。
ところで、吸着装置周囲の浮囲気ガス中に水分が含まれ
°Cいると、吸着装置の低温となり〔いる部位に、水分
が凝縮しC水の層が形成される。
D −T /(−ニングを目ざした融曾炉では、雰囲気
中にトリチウムが漏洩すること、3よび漏洩後の化学形
の1つとしCトリチウム水(Tz O,DTO,H’l
’O)となることが十分に予想される。
よっC1吸着装置周囲に氷の層が形成さ八るということ
は、雰囲気中のトリチウムを縦梁することにつながり、
不用意に吸着装置周囲がトリチウムにより〔汚染される
原因となる。このため吸着装置のメインテナンスに困難
が生じ、汚染除去作業に時間と労力をさかなければなら
ないという入点が生ずる。
〔発明の目的〕
本発明は上記入点を解消すべく、吸着装置周囲に氷の層
が形成されないようにしたガス精製用低温汲置装置を提
供することを目的とする。
〔発明の構成〕
本発明は、特に低温となる部位を収納する第1の容器と
、さらに、この第1の容器と接続された、内部に吸着剤
を満たした第2の容器およびこの第2の容器を冷却する
機構とで構成されたガス精製用低温吸着装置である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、第1の容器により吸着装置低温部が外
部の雰囲気と遮断さzL外部雰囲気中のトリチウム水を
凝集′する恐れはない。さらに第2の容器は低温に冷却
されるため、吸着特性の向上した第2のd5内の吸着剤
に、第1の容器内の凝縮しやすい成分特に水分が吸着さ
れる。このため、第1の容器内に収納さnた吸着装置の
各部位にわずかでも霜、氷等が形成される恐れはなくな
り、トリチウム水による吸着装置外表面の汚染をくいと
めることができる。
〔発明の実施例〕
本発明による一実施例t−第1図に示す。本装置は、融
合炉燃料構製に用いるガス精製用低温吸着装置で8る。
水素同位体ガスは配管1から供給され、容器3に収納さ
れた熱交換器2においC吸着塔出口ガスと交わる。そし
C1液体チッ素に浸された吸着塔6を通過し゛〔再び熱
交換器2を経由し〔、配管7から次系統へ供給する。吸
着剤を充゛〔んした容器5は、吸着塔と同じ十分に断熱
されたデユワ−4内に浸されCいる。また、液体チッ素
の供給は配管9を用い、ガスぬきは配管8を用いる。
本装置では、容器5内の吸着剤が液体チッ素により十分
に冷却されCいるため、容器5がいわゆるソープ’/−
IンポンプとじC働き、気体1%に水蒸気を吸着せしめ
る。
よっ゛C1荏器3内の水分は、容器5に回収されるため
、容器3内に収納した低温吸着装置構成部品の表面に、
水分の凝縮する恐7′Lはなくなる。
さらに、容器5には水蒸気以外の気体も凝縮するため容
器1内の圧力は低下する。このため、容器3内での熱の
移動に関しC1気体の対流による寄与が小さくなり、配
管1から供給されCIA交換52で冷却された水素同位
体ガスが、吸着塔に供給されるまでの区1iJ1におい
C1谷′:A3内の気体と熱交換することにより1度が
上昇する割合が低ドする。よりC1液体チッ素の消費量
が低減され、液体チノ素の時間当りの供給回数が減少す
るため、故障+ahが城少しメインテナンスに有利とな
る。
また、容器5と吸着塔6と同一のデエワー内に入れるこ
とにより、スペースの省略化を図っ〔いる。また、容器
3内の気体を、外部真空ポンプを用いC1あらかじめ吸
引し〔かh前述すると同じ動作を行なうならば、その効
襲は、さらに大きくなる。
さらに、本発明は、融合炉燃料精製系の低温吸着装置の
みICかぎるものではない。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるガス精製装置の断面図である。 1・・・水素同位体ガス供給配管。 2・・・熱交換器、 3・・・収納容器。 4・・・デユワ−ベッセル(液体チッ素用)。 5・・・吸着剤を満たした容器。 6・・・吸着塔。 7・・・精−水素同位体ガス出口配・U。 8・・・ガス抜き用配管。 9・・・液体チッ素供給用配管。 10・・・デユワ−ベッセル固定用ボルト・ナツト。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 低温に冷却する吸着塔を有する装置におい゛C1前記装
    置の構成物の表面温度が、前記構成物に接触する気体中
    の凝縮成分の露点温度板ドとなる部位を収納する8 5
    と、前記容器内側に開口した管で接続しCおり、内部に
    吸着剤を収納した容器を有することを特徴とするガス精
    製用低温吸着装置。
JP59060777A 1984-03-30 1984-03-30 ガス精製用低温吸着装置 Pending JPS60205296A (ja)

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JPS60205296A true JPS60205296A (ja) 1985-10-16

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