JPS6020865B2 - パルスx線発生装置 - Google Patents

パルスx線発生装置

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Publication number
JPS6020865B2
JPS6020865B2 JP17672282A JP17672282A JPS6020865B2 JP S6020865 B2 JPS6020865 B2 JP S6020865B2 JP 17672282 A JP17672282 A JP 17672282A JP 17672282 A JP17672282 A JP 17672282A JP S6020865 B2 JPS6020865 B2 JP S6020865B2
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JP
Japan
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coaxial line
ray
container
target
voltage pulse
Prior art date
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Expired
Application number
JP17672282A
Other languages
English (en)
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JPS5966041A (ja
Inventor
正之 河合
靖彦 鶴岡
良 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokai University
Original Assignee
Tokai University
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5966041A publication Critical patent/JPS5966041A/ja
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Expired legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/22X-ray tubes specially designed for passing a very high current for a very short time, e.g. for flash operation

Landscapes

  • X-Ray Techniques (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被検体のX線結晶解析及び非破壊検査に使用さ
れるパルスX線発生菱直に関する。
従来のX線発生装置はガラス容器内に陰極とこれに対向
する部分にターゲットを有する陽極とを収設し、容器内
を高真空に封じて構成したX線発生部と、陽極と陰極間
に直流高圧を印加すると同時に陰極を加熱するための電
源部とよりなり、陽極と陰極間に印加した直流高圧によ
って陰極の加熱により発生した熱電子を加速し、ターゲ
ットに衝突させることによりX線を発生するものである
。このような従来のX線発生装置は、■連続したX線が
発生し大強度、短パルスのX線を発生させることができ
ないためX線の照射時間が長くなり、被検体のX線結晶
解析及び非破壊検査において長時間照射の制約から静止
像のみを得ることしかできず、例えば相転移等における
結晶構造の時間変化を連続的に観察することができない
■X線発生部は熱電子放出現象を利用しており、陰極が
比較的大形で、容器外部での高圧絶縁が必要であるため
大形になり、かつ電源部も直流高圧と陰極加熱用の電圧
を得るため大形になるので装置全体が大形になる。■高
真空ガラス容器を使用しているため機械的衝撃に弱く取
扱いに注意を払わねばならず、かつ不必要な部分へのX
線照射を防止できない。■X線発生部が大形であり、し
かも電源部が一体になっているので、特に被検体が複雑
な形状である場合、必要な観測部分への取付けが極めて
困難になる等の欠点がある。本発明は上記の欠点を解消
することを目的としたものであって、以下図面によって
その一実施例を説明する。
本発明においては、第1図〜第3図に示すようにターゲ
ット1を中心部に設けた陽極2を管体3の内面に一体に
収設して容器4を形成し、この容器4の陽極2に電子放
出用同軸線5の外部導体5aを冷陰極となるこの電子放
出用同軸線5の中心導体5bがターゲット1に対向する
よう接続し、容器4の側方部にターゲット1より放出さ
れるX線を取出すための×線取出窓6を設け、容器4内
にガスを封入してX線発生部7を構成すると共に、高圧
パルス発生用同軸線8と、この高圧パルス発生用同軸線
8の外部導体8aと中心導体8b間に形成される静電容
量を充電するための直流電源9とより高圧パルス電源部
10を構成し、高圧パルス発生用同軸線8と電子放出用
同軸線5との間を開閉手段11を介して接続せしめてな
る。
なお、12は電源スイッチである。′ 電子放出用同軸
線5及び高圧パルス発生用同藤線8としては同軸ケーブ
ル、同軸コード等を使用することができる。
X線取出窓6としてはX線を透過するベリリウム、アル
ミニウム等の金属箔(10仏程度)を使用することがで
きる。ガスとしてはヘリウム、アルゴン等の不活性ガス
を使用することができる。開閉手段11としては手動ス
イッチ、リレー競点及び高気圧ギャップ、半導体スイッ
チ等を使用することができる。本発明は上記のような構
成であるから、鰭猿スイッチ12を閉じると、直流電源
9により高圧パルス発生用同軸線8の外部導体8aと中
心導体8b間に形成される静電容量に電荷が充電される
しかる後、開閉手段11を閉じると、静電容量の充電電
圧が高圧パルス発生用同軸線8の外部導体8aに電子放
出用同軸線5の外部導体5aを介して接続した陽極2と
、パルス発生用同軸線8の中心導体8bに接続した電子
放出用同軸線5の中心導体5bとの間に印加される。電
子放出用同軸線5の中心導体5bを袴陰極とし、陽極2
との間に印加された充電電圧による電界により中心導体
5bの先端より多量の電子ビームが放出される。X線発
生部7のインピーダンスは容器4内にガスが封入されて
いるので低く、低インピーダンスの高圧パルス発生用同
軸線8と整合しているので、電子放出用同軸線5の中心
導体5bの先端より多量の電子ビーム(数十KV〜数百
KV、数KA以上、パルス幅1仇B以上)が得られるも
のである。この多量の露子ビ−ムはターゲット1に衝突
し、単発の大強度短パルスX線を発生させる。開閉手段
11の開閉を高速度で操返えせば、高燥返し大強度短パ
ルスX線を発生させることができる。本発明によるパル
スX線発生装置により得られるX線は、発生するX線の
性質上、かつ装置の機造上、比較的低エネルギー領域(
電子ビームエネルギーとして数十KeV〜数百KeV)
の単発または高燥返し(10の/s以上)の大強度(電
子ビーム電流として数KA〜数十KA)、短パルス(パ
ルス幅数的〜数百ns)のX線である。
上述のように本発明によれば、■大強度短パルスのX線
を発生させ、X線取出窓6より取出すことができるので
、X線の照射時間を短縮することができ、被検体のX線
結晶解析及び非破壊検査において静止像を得ることがで
きるばかりでなく、例えばX線結晶解析における結晶構
造の時間変化を光の場合のストロボ写真のように1つの
パルス幅を時間の単位として連続的に観測することがで
きる。
これは相転移に代表される構造変化の不連続部分を解明
する、X線解析による有力な手段として期待できる。■
X線発生部7は電界放出現象を利用しており、冷陰極が
電子放出用同軸線5で比較的小形で、容器外部での高圧
絶縁も不要であるため小形になり、かつ電源部10も直
流電源9と高圧パルス発生用同軸線8よりなるため4・
形になるので、装置全体を小形にできる。■X線発生部
7の容器4は陽極2と管体3を一体にした構造になって
おり、金属で被われているので、機械的衝撃に極めて強
く、取扱いが容易であり、かつ管体3としてX線を遮蔽
する黒鉛等の金属を用いれば不必要な部分へのX線照射
を防止できる。■×線発生部7が小形であり、電源部1
0との接続が可捻挫の電子放出用同軸線5によりなされ
ているので、特に被検体が複雑な形状であってもどのよ
うな位置にあってもX線発生部7の容器4を必要な観測
部分に極めて容易に取付けることができる等の効果を奏
する。図面の筋単な説明 第1図は本発明装置の一実施例を示す斜視図、第2図は
その回路図、第3図は本発明における×線発生部の断面
図である。
1…・・・ターゲット、2・・・・・・陽極、3・・・
・・・管体、4・・…・容器、5・・・・・・電子放出
用同軸線、5a・…・・外部導体、5b…・・・中心導
体、6・・・・・・×線取出窓、7…・・・X線発生部
、8・・・・・・高圧パルス発生用同軸線、8a……外
部導体、8b・・・・・・中心導体、9・・・・・・直
流鰭源、10・・・・・・高圧パルス電源部、11・・
・・・・開閉手段、12…・・・電源スイッチ。
多‐Z図多2鰯 多3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ターゲツトを中心部に設けた陽極を管体内面に一体
    に収設して容器を形成し、この容器の陽極に電子放出用
    同軸線の外部導体を冷陰極となるこの電子放出用同軸線
    の中心導体がターゲツトに対向するよう接続し、容器の
    側方部にターゲツトより放出されるX線を取出すための
    X線取出窓を設け、容器内にガスを封入してX線発生部
    を構成すると共に、高圧パルス発生用同軸線と、この高
    圧パルス発生用同軸線の外部導体と中心導体間に形成さ
    れる静電容量を充電するための直流電源とより高圧パル
    ス電源部を構成し、高圧パルス発生用同軸線と電子放出
    用同軸線との間を開閉手段を介して接続せしめてなるパ
    ルスX線発生装置。
JP17672282A 1982-10-06 1982-10-06 パルスx線発生装置 Expired JPS6020865B2 (ja)

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JP17672282A JPS6020865B2 (ja) 1982-10-06 1982-10-06 パルスx線発生装置

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Publication Number Publication Date
JPS5966041A JPS5966041A (ja) 1984-04-14
JPS6020865B2 true JPS6020865B2 (ja) 1985-05-24

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JPS5966041A (ja) 1984-04-14

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