JPS602092B2 - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
- Publication number
- JPS602092B2 JPS602092B2 JP52011849A JP1184977A JPS602092B2 JP S602092 B2 JPS602092 B2 JP S602092B2 JP 52011849 A JP52011849 A JP 52011849A JP 1184977 A JP1184977 A JP 1184977A JP S602092 B2 JPS602092 B2 JP S602092B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- duct
- partition plate
- gas
- catalyst
- inlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は固体粒子（触媒または吸着剤）と接触させてガ
ス処理を行なわんとする装置特に排ガス中の窒素酸化物
を乾式法において脱硝を行なうに好適な処理装置に関す
る。
ス処理を行なわんとする装置特に排ガス中の窒素酸化物
を乾式法において脱硝を行なうに好適な処理装置に関す
る。
窒素酸化物の除去において乾式法による排ガス処理に際
しては触媒が用いられるが煤塵などを含有するダーテイ
ーガスについては触媒層の圧損失増大が懸念され、何ら
かの対策の必要性にせまられ処理装置前の集塵機の設置
や移動層形式による圧損失の回復などの方式がある。
しては触媒が用いられるが煤塵などを含有するダーテイ
ーガスについては触媒層の圧損失増大が懸念され、何ら
かの対策の必要性にせまられ処理装置前の集塵機の設置
や移動層形式による圧損失の回復などの方式がある。
しかるに、処理装置を設置する場合に付帯設備として集
塵機を設けることは設備費や運転費の面から得策ではな
い。また、移動層形式による圧損失の回復については触
媒自身の損耗や崩壊がはなはだしく触媒自身の機械的強
度的な問題から自ら限界があった。
塵機を設けることは設備費や運転費の面から得策ではな
い。また、移動層形式による圧損失の回復については触
媒自身の損耗や崩壊がはなはだしく触媒自身の機械的強
度的な問題から自ら限界があった。
本発明は、間欠的に触媒層の重力落差で僅かな量を抜き
出すことにより圧損回復を目ざす傍ら、ガス流が通過す
る触媒層が従来のものに比べて非常に薄層となるため、
特に処理装置の圧損失が５０〜ｌｏｗ舷Ａｑ程度となり
ボイラーなどの有する背圧だけで処理が可能となり、何
らファンなど機械的動力を必要としないことを特徴とす
る。即ち触媒層内にその周壁に多数のスリットまたは孔
の有するダクトを設け導入ダクトに送風された排ガスは
隣接する排出ダクトに吸引される。排風される僅かの触
媒層をくぐり抜けることによって処理を行なうもので排
ガスは導入ダクトから排出ダクトに導かれる間の触媒層
を貫通することによって処理されるものである。本発明
装置においては同一空間遠度（処理風量／触媒体積）で
あっても触媒充填層内はダクトを多数組込むことにより
ハニカム状の態様を示し導入ダクトの周壁から四方に分
散されることによりガス流速は従来のものに比べ急激に
下がり、線速度の小さいことからくる触媒層の圧覆滅少
が期待でき、層高の低さと相まって非常に抵抗の少ない
装置形状をなすものである。以下に添付図面を参照して
本発明装置の具体例を詳しく説明する。第１図および第
２図において１は処理装置の胴内に設けられた触媒層、
２，２′は触媒層内に配設された導入・排出ダクト、３
，３′はその前面および後面に固設された入口・出口仕
切板、４は仕切板に設けられた切抜穴、５は触媒の排出
口、６は触媒の投入口、７は入口導管、８は出口導管、
９は触媒粒子である。本発明装置において排ガスは入口
導管７より装置内に供給され、入口仕切板３に設けられ
た切抜穴４を介して８同内に導かれる。切抜き穴４を通
過後触媒層内に配設された導入ダクト２に入った排ガス
は該ダクト２の周壁に設けたスリットまたは孔から四方
に拡がり触媒層を貫通し隣接した排出ダクト２′に吸引
され後面に固設された出口仕切板３′に設けられた切抜
穴４を経て出口導管８に排出される。かように導入ダク
ト２は入口仕切板３の切抜穴４で開□し、出口仕切板３
′で閉塞され、排出ダクト２′は入口仕切板３で閉塞さ
れ、出□仕切板３′で開口しているので全ての触媒層内
に配設された導入ダクト２に入った排ガスは閉塞された
出口仕切板３′に到達するまでに四方の隣接した排出ダ
クト２′に吸引され出口導管８に導かれるのである。さ
らに本発明においてはダクトの周壁にスリットまたは孔
を設けることにより四方の隣接ダクト間の触媒層距離が
等価となり、極めて簡単な構造ながら流速の均一分布が
果たせ、四方に分配することによる線速度の軽減による
触媒層間の圧損失の激減が可能となるものである。加え
て固定層方式に比べダクト間距離が短いことによる触媒
層の薄層化が圧損失の軽減に大いに寄与するものである
。したがって本発明装置においては、何らブロアなどの
付帯設備も極力縮小化でき、場合によっては背圧のみで
脱硝が可能となる。第３図の１〜５は、触媒層内に配設
されるダクトの種々の形状を示す。
出すことにより圧損回復を目ざす傍ら、ガス流が通過す
る触媒層が従来のものに比べて非常に薄層となるため、
特に処理装置の圧損失が５０〜ｌｏｗ舷Ａｑ程度となり
ボイラーなどの有する背圧だけで処理が可能となり、何
らファンなど機械的動力を必要としないことを特徴とす
る。即ち触媒層内にその周壁に多数のスリットまたは孔
の有するダクトを設け導入ダクトに送風された排ガスは
隣接する排出ダクトに吸引される。排風される僅かの触
媒層をくぐり抜けることによって処理を行なうもので排
ガスは導入ダクトから排出ダクトに導かれる間の触媒層
を貫通することによって処理されるものである。本発明
装置においては同一空間遠度（処理風量／触媒体積）で
あっても触媒充填層内はダクトを多数組込むことにより
ハニカム状の態様を示し導入ダクトの周壁から四方に分
散されることによりガス流速は従来のものに比べ急激に
下がり、線速度の小さいことからくる触媒層の圧覆滅少
が期待でき、層高の低さと相まって非常に抵抗の少ない
装置形状をなすものである。以下に添付図面を参照して
本発明装置の具体例を詳しく説明する。第１図および第
２図において１は処理装置の胴内に設けられた触媒層、
２，２′は触媒層内に配設された導入・排出ダクト、３
，３′はその前面および後面に固設された入口・出口仕
切板、４は仕切板に設けられた切抜穴、５は触媒の排出
口、６は触媒の投入口、７は入口導管、８は出口導管、
９は触媒粒子である。本発明装置において排ガスは入口
導管７より装置内に供給され、入口仕切板３に設けられ
た切抜穴４を介して８同内に導かれる。切抜き穴４を通
過後触媒層内に配設された導入ダクト２に入った排ガス
は該ダクト２の周壁に設けたスリットまたは孔から四方
に拡がり触媒層を貫通し隣接した排出ダクト２′に吸引
され後面に固設された出口仕切板３′に設けられた切抜
穴４を経て出口導管８に排出される。かように導入ダク
ト２は入口仕切板３の切抜穴４で開□し、出口仕切板３
′で閉塞され、排出ダクト２′は入口仕切板３で閉塞さ
れ、出□仕切板３′で開口しているので全ての触媒層内
に配設された導入ダクト２に入った排ガスは閉塞された
出口仕切板３′に到達するまでに四方の隣接した排出ダ
クト２′に吸引され出口導管８に導かれるのである。さ
らに本発明においてはダクトの周壁にスリットまたは孔
を設けることにより四方の隣接ダクト間の触媒層距離が
等価となり、極めて簡単な構造ながら流速の均一分布が
果たせ、四方に分配することによる線速度の軽減による
触媒層間の圧損失の激減が可能となるものである。加え
て固定層方式に比べダクト間距離が短いことによる触媒
層の薄層化が圧損失の軽減に大いに寄与するものである
。したがって本発明装置においては、何らブロアなどの
付帯設備も極力縮小化でき、場合によっては背圧のみで
脱硝が可能となる。第３図の１〜５は、触媒層内に配設
されるダクトの種々の形状を示す。
ダクトの頂角は触媒粒子個有の安息角、圧縮度、スパチ
ュラ角などにより多少異なるが間歌移動時の触媒粒子の
移動が可能でさえあればよく頂角ａ＝５０〜１１００が
好ましい範囲である。またダクト形状は底面をはずし逆
溝型ダクトにして底面部を触媒自身の保有する安息面で
ダクト空間を形成してもよい。ダクトに頂角を設けるこ
とにより煤塵堆積による触媒層内の圧損失上昇時に際し
ては触媒の排出口５より一定量以上の触媒を抜きだすだ
けで装置内の全量の触媒が重力落差にて移動し触媒表面
に付着した煤塵の剥離を容易になすことができるもので
ある。さらに触媒移動時の装置内の触媒粒子の重力流れ
は触媒層内に配設されたダクトがコーン内挿法によるフ
ローパターンの修正を行ないマス、フロー化が可能とな
り多大の効果を奏するものである。
ュラ角などにより多少異なるが間歌移動時の触媒粒子の
移動が可能でさえあればよく頂角ａ＝５０〜１１００が
好ましい範囲である。またダクト形状は底面をはずし逆
溝型ダクトにして底面部を触媒自身の保有する安息面で
ダクト空間を形成してもよい。ダクトに頂角を設けるこ
とにより煤塵堆積による触媒層内の圧損失上昇時に際し
ては触媒の排出口５より一定量以上の触媒を抜きだすだ
けで装置内の全量の触媒が重力落差にて移動し触媒表面
に付着した煤塵の剥離を容易になすことができるもので
ある。さらに触媒移動時の装置内の触媒粒子の重力流れ
は触媒層内に配設されたダクトがコーン内挿法によるフ
ローパターンの修正を行ないマス、フロー化が可能とな
り多大の効果を奏するものである。
第１図は本発明装置の一部切欠き斜視図、第２図は第１
図の一部の拡大図「第３図は本発明に使用するダクトの
種々の形状を示すものである。 １は触媒層、２，２′はダクト、３，３′は仕切板、４
は切抜き穴、５は触媒排出口、６は触媒投入口、７は入
口導管、８は出口導管、９は触媒粒子である。 ガ／図 牙之脚 オ３図
図の一部の拡大図「第３図は本発明に使用するダクトの
種々の形状を示すものである。 １は触媒層、２，２′はダクト、３，３′は仕切板、４
は切抜き穴、５は触媒排出口、６は触媒投入口、７は入
口導管、８は出口導管、９は触媒粒子である。 ガ／図 牙之脚 オ３図
Claims (1)
- １ 煙道排ガス中の窒素酸化物を固体粒子に接触させて
処理する装置において固体粒子を充填した装置の頂部に
該粒子の供給部を底部に該粒子の排出部をそれぞれ設け
、該粒子の充填した層内にダクトを設けダクトの周壁に
孔またはスリツトを有するようにするとともに、該ダク
トを千鳥配列に二段あるいはそれ以上胴内に設置し該ダ
クトの両端を支持仕切板で固設するとともに排ガスを導
入するダクトは一端を入口仕切板で開孔し、他端を出口
仕切板で閉塞させるとともに浄化ガスの排出するダクト
は一端を入口仕切板で閉塞し他端を出口仕切板で開孔さ
せて、これを隔段ごとに設けて胴内をガスが流通可能と
なし、処理すべきガスが操業時に入口仕切板の切抜き孔
を通過し、導入ダクト内を進行しながらダクトの周壁の
孔またはスリツトを介して四方に拡がり、固体粒子を充
填した層を貫通して隣接する排出ダクト内に集合し他方
の出口仕切板の切板穴をくぐり抜けることにより煙道排
ガス中の窒素酸化物の浄化を行うようにしたことを特徴
とするガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52011849A JPS602092B2 (ja) | 1977-02-04 | 1977-02-04 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52011849A JPS602092B2 (ja) | 1977-02-04 | 1977-02-04 | ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5396968A JPS5396968A (en) | 1978-08-24 |
| JPS602092B2 true JPS602092B2 (ja) | 1985-01-19 |
Family
ID=11789161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52011849A Expired JPS602092B2 (ja) | 1977-02-04 | 1977-02-04 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602092B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5470671B2 (ja) * | 2005-10-18 | 2014-04-16 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | デシカント空調装置 |
| JP5351902B2 (ja) * | 2009-01-20 | 2013-11-27 | ジェイパワー・エンテック株式会社 | 乾式排ガス処理装置の吸着塔 |
-
1977
- 1977-02-04 JP JP52011849A patent/JPS602092B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5396968A (en) | 1978-08-24 |
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