JPS60212706A - 偏光板又は偏光フイルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は光を制御するための偏光板又は偏光フィルムの
製造方法に関する。

〈従来技術〉 この種の偏光フィルムは、従来高分子の透明フィルムを
一軸延伸加工して一定方向に分子配列することにより、
その表面に塗布した２色性物質をフィルムに生じたミセ
ルの間隙でグ配向吸着させる方法によって製造させてい
る。

しかるに°、この方法では次のような欠点がある。

■　基材となる素材が、延伸加工に適するもの１例えば
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の一部のプラスチッ
クフィルム素材に限定されるので、光透過率のより高い
素材への選択性に乏しい。

■　延伸加工時の温度管理、基材の品質管理、延伸力の
調節管理等を厳密に行なう必要があり、しかも、一定の
基材フィルム面積ごとに断続的生産をしなければならな
いので、連続的かつ迅速な大量生産に適さない。

■　フィルムのミセル間隙での配向に適する物質として
ヨウ素が用いられているが、ヨウ素は高温、多湿等によ
る影響を受け易く偏光機能の劣化があるため、保ｔａｇ
等を必要とする。また、ヨウ素等の非金属物質は光の透
過率が理論値で最大５０％であるので、製品用途に限界
がある。

■　偏光物質としてＡｇｙ　Ａｕ、　）Ｉｇｔ　Ｆｅｎ
などの金属塩を用いることも考えられているが、フィル
ムのミセル間隙での配向性が著しく劣るため偏光性が低
く実用化に適さない。

〈発明の目的〉 本発明は上記の欠点を除去するために提供されたもので
あり、その目的は、 ■　基材に機械的応力を作用させることなく、塗布され
た２色性偏光物質を配向させ得るものとすることにより
、使用する基材としてＰＶＡはもとより、フィルム状、
板状のすべての透明プラスチック材およびガラス材を用
い得る偏光板又は偏光フィルムの製法を提供することに
ある。

Ｃ■　２色性偏光物質として非金属のほか金属を実用化
し得る偏光板又は偏光フィルムの製法を提供することに
ある。

■　長尺な基材を用いて連続的に大量生産を可能とし、
低コストでかつ歩留りのよい偏光板又は偏光フィルムの
製法を提供することにある。

［株］　偏光物質の配向が正確かつ均一であって精度の
高い偏光性を有する偏光板又は偏光フィルムの製法を提
供することにある。

く構成〉 而して、上記の目的は、［基材上の塗布層に磁界を印加
して層内の２色性物質を一定方向に分子配向又は結晶配
向させることを特徴とする偏光板（フィルム）の製造方
法」、「基材上の塗布層に電界を印加して層内の２色性
物質を一定方向に分子配向又は結晶配向させることを特
徴とする偏光板（フィルム）の製造方法」および「基材
上の第１の塗布層に磁界を印加して層内の２色性物質を
一定方向へ分子配向又は結晶配向させる第１の配向工程
と、上記第１の塗布層の配向乾燥後、その層上に更に２
色性物質を塗布する第２の塗布工程と、該第２の塗布層
面に対して所定の傾斜角度で交叉する電界を印加してＭ
４２の塗布層における２色性物質を上記１ｉの塗布層の
配向方向と異なる方向に分子配向又は結晶配向させる第
２の配向工程と、の各工程を有する偏光板（フィルム）
の製造方法」によって達成される。

〈実施例１〉 次に本発明を図面に示されたｌ実施例に従って、更に詳
しく説明することとする。

第１図において、（ｌａ）（ｌｂ）は所定間隔で上下方
向に配置された２個一対の磁石であり、乾燥室（ｌＯ）
内で同一磁極か対峙して配置せしめられている。而して
、対峙する磁極からの磁束は反発して左右に平行して分
送し、その境界付近では各々略水平方向へ流れる磁束を
形成する。（２）は光透過率約９５％の透明ガラス板製
の基材、（３）は該基材（２）上に塗布された２色性偏
光物質による塗布層であり、例えばポリマーと反応せし
めた有機金属化合物たる液状塩化スズ層である。

而して、本実施例に係る工程は、第２図に示すようにま
ず略水平に配設された基材ガラス（２）の上面に液状塩
化スズを塗布し、次いで基材（２）を矢印（Ｐ）方向へ
略水平に移動させる。従って、液状塩化スズ層（３）は
略水平かつ相互に平行な磁束に沿ってその磁界の印加作
用を受けることとなる。このとき、塗布層（３）はすで
に任意の熱源をもつ乾燥室（ｌＯ）内で乾燥雰囲気中に
あるので、有機成分が徐々に飛散除去して塩化スズの結
晶が生威し若しくは脱塩してわずかに有機成分を帯び分
極性をもつスズ分子が生成すると同時に、水平かつ平行
な磁束による磁界の印加を受けて塗布層内のスズ分子又
は塩化スズ結晶は磁束方向へ整列配向することとなる。

この配向工程の終了後塗布層は完全に乾燥してスズ分子
又は結晶が基材（２）上に固定され、直線偏光板が完成
する。

而して、基材（２）には機械的外力が作用しないので光
透過率に影響がなく、また、２色性物質として光透過率
が理論値８０〜９０％以上の金属分子又はその結晶を用
いることができるため、偏光板透過軸での透過率が少な
くとも７５％以上であって吸収軸での透過率が０．２％
以以下下いう従来にない高品質な直線偏光板を得た。

〈実施例２〉 第３図〜第６図には本発明を適用した円偏光フィルムの
製造方法が示されている。

この円偏光フィルムは上記実施例１と同一の工程によっ
て得られた直線偏光フィルムに電位相逓層を積層形成す
るものである。

すなわち、第１の塗布工程において、透明なＰＶＡフィ
ルム（２１）上に２色性偏光物質たるヨウ化カリウム水
溶液をコーティングして第１塗布層（３１）を形成し、
これを第１因に示す方法によって磁界によるヨウ素分子
又は結晶を一定方向へ配向せしめる第１配向工程を経る
とともに、これを乾燥固定せしめる第１乾燥工程により
直線偏光フィルムを得る０次いで、乾燥固定した第１塗
布層（３１）上にヨウ化カリウム水溶液を古度コーティ
ングする第２塗布工程により第２＠布層（すな形成せし
める。

次いで、これを第４，５図のように正負の電極板（５ａ
）　（５ｂ）間において矢印Ｐ方向へ略水平に移動せし
めて約３０００Ｖの電圧下の電界による第２配向工程に
至らしめる。このとき、電極板（５ａ）　（５ｂ）は略
水平に配置されているとともに、フィルム（２１）の進
行方向すなわち矢印Ｐ方向に対し４５°傾斜せしめ（第
５図）かつ電界（６）の方向がフィルム（２１）上面に
対し４５°の交叉角度となるように配置されている。而
して、この電界（８）域に至った第２塗布層（４）内で
は２極分極しているヨウ素分子又は結晶が電界方向すな
わち矢印Ｐ方向に対して４５°であってかつフィルム（
２１）の面に対して４５°の傾斜角度で配向する。

従って、前記のように矢印Ｐ方向へ配向している第１塗
布層（３１）の偏光軸に対して第２塗布！（４）は属僚
相差の偏光軸を持つ偏光層を形成することとなる。（７
）は第２の乾燥工程を行なうための加熱用のネサ膜であ
り、第２塗布層（０に対面するように電極板（５ａ）の
下面に取付けられ、適宜の電源に接続されている。而し
て、第２塗布層（０内のヨウ素分子はネサ膜（７）の放
熱乾燥により徐々に正方結晶しつ？電界方向へ配向した
状態で第１塗布層（３１）上に積層固定される。

尚、上記塗布層は気相蒸着（ＣＶＤ）法によって行なっ
た。

この実施例により得られた円偏光フィルムはＰＶＡフィ
ルム（２１）に外力を加えていないのでミセルによる縞
模様の発生がなく理論値に近い光透過率を保持すること
ができ、かつ各塗布層（３１）、（Ｕにおける分子又は
結晶の配向が磁界および電界の印加によるので方向性が
正確・均一となり、極めて優れた円偏光特性を有してい
る。

く作用メ 上記実施例のほか、本発明の適用し得る２色性物質とし
てセレン、ヒ素、テルル等の非金属、チタン、バンジウ
ム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、イツトリウム、
ニオブ、モリブデン、亜鉛、銀、カドミウム、インジウ
ム、アンチモン、金等の金属塩を用１．Ｎてもよい。

特に、インジウム、スズ２アンチモンの金属塩結晶およ
びヒ素、セレン、テルル、ヨウ素の非金属結晶は広い波
長域において強ｌ／〜光吸収能と２色性を呈するので好
適な素材である。

また、各塗布層を形成するための塗布方法として、上記
実施例のほか、公知のグラビアコーチインク、ドクター
コーティング、スリットコーチインク、す／（−スコー
ティング等適宜の方法を採用することができる。

更に、磁界の強さは偏光物質の素材に応じて調節するも
のとし、約１５００〜３０００ガウスの間で素材の抗磁
力の約３倍の印加磁力とするのが好ましい、また、電界
の強さは約１０００〜ｔｏｏｏｏｖの間で素材に応じて
調節するものとするのがよい。

尚、磁石又は電極を２対以上とすること。

養若しくはこれらを菊移動査定せしめて配向するように
することは本発明に含まれる変更実施例である。

く効果〉 本発明によれば、前記の■〜燵）を十分に達成し得るほ
か、連続大量生産による低コスト化を実現できるもので
ある。

く用途〉 本発明により製造された偏光板（フィルタ）は透過軸に
おける高透過率と吸収軸における高吸収性を併せもつの
で、各種光学機器の光フィルタ、光シャッタとして、ま
た建物用窓ガラス、自動車・飛行機等のウィンドーガラ
ス伊メータパネル前面ガラス用の防眩フィルタとして、
更にテレビジョン受像機等のＣＩＩＬＴ用の防眩−コン
トラスト強化フィルタとして、更に液晶表示ディスプレ
イのコントラスト強化フィルタとして最適なものであだ
ものは耐熱性に優れているので、ＣＲＴブラウン管の内
外面への直接加工、液晶表示ディスプレイのガラス面へ
の直接加工が可能であり、これら製品の品質向上に資す
るところ大である。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであり、第１図は磁界
による配向工程を示す概略説明図。 第２図は第１図の工程を含む偏光板（フィルタ）の製造
工程図、第３図Ｃ±２層の偏光層を有する偏光板（フィ
ルム）の製造工程図、第４図は電界による第２配向工程
を示す概略説明図、第５図はその平面図、第６図Ｃ±第
５図にお（するＡ−Ａ断面図である。 （ｌａ）　（ｌｂ）・・・磁石、（２）・・・透明ガラ
ス板、（３）・・・塗布層、　（３１）・・・第１塗布
層、（４）・・・第２塗布層、 （５ａ）（５ｂ）・・・電極板、　（６）・・・電界。 （７）・・・ネサ膜、　（１０）・・・乾燥室。 同　・弁理士　丸　山　隆　夫 第５図 第６図 手続補正書（）園 昭和５９年　８月　８日 特許庁長官　志賀　学　殿 ■、事件の表示 昭和　５９年　特許願　第　６８４００　号２、発明の
名称 偏光板又は偏光フィルムの製造方法 ３、補正をする者 事件との関係：特許出願人 サイチク株式会社 ４、代理人 昭和５９年　７月３１日（発送日） ６、補正の対象 ■願　書 ■明細書中「発明の名称」、「特許請求の範囲」並びに
「発明の詳細な説明」の欄 （別　紙　） ７、補正の内容 ■別紙の通り願書中「発明の名称」の欄を訂正した訂正
願書を補充する。 ■明細書中「発明の名称」の欄を次の通りに訂正する。 「偏光板又は偏光フィルムの製造方法」■明細書中「特
許請求の範囲」の欄を次の通りに訂正する。 １、基材上の塗布層に磁界を印加して層内の２色性物質
を一定方向に分子配向又は結晶配向させることを特徴と
する偏光板は　−フ　ルムの製造方法。 ２、基材が、透明プラスチックフィルムである前記特許
請求の範囲第１項記載の製　ｌ遣方法。 ３、基材が、透明ガラス板である前記特許　１請求の範
囲第１項記載の製造方法。 ４．２色性物質が、金属結晶である前記特許請求の範囲
第１項記載の製造方法。 ５．２色性物質が、非金属結晶である前記特許請求の範
囲第１項記載の製造方法。 ｅ、　ｇ村上の塗布層に電界を印加して層内の２色性物
質を一定方向に分子配向又は結晶配向させることを特徴
とする偏光板は　フ　ルムの製造方法。 ７、基材が、透明プラスチックフィルムである前記特許
請求の範囲第６項記載の製造方法。 ８、基材が、透明ガラス板である前記特許請求の範囲第
６項記載の製造方法。 ８．２色性物質が、金属結晶である前記特許請求の範囲
第６項記載の製造方法。 ０．２色性物質が、非金属結晶である前記特許請求の範
囲第６項記載の製造方法。 １、基材上の第１の塗布層に磁界を印加して層内の２色
性物質を一定方向へ分子配向又は結晶配向させる第１の
配向工程 と、 上記第１の塗布層の配向乾燥後、その 層上に更に２色性物質を塗布する第２の塗布工程と。 該Ｍ４２の塗布層面に対して所定の傾斜角度で交叉する
電界を印加して第２の塗布層における２色性物質を上記
第１の塗布層の配向方向と異なる方向に分子配向又は結
晶配向させる第２の配向工程と、の各工程を有する偏光
板り生ＩＡ１ユ と法の製造方法。 １２、上記２色性物質が非金属である前記特許請求の範
囲第１１項記載の偏光板Ｘ淋１１Ｌ工量」の製造方法。 １３、上記２色性物質が、金属結晶である前記特請求の
範囲第１１項記載の製造方 法。 １４、偏光板　は　フ　ルムが、円偏光板麦１１エヱユ
五」である前記特許請求の範囲第１１項乃至第１４項の
いずれかに記載の製造方法。 ＠明細書第７頁第８行目に「（フィル ム）」とあるを「又は偏光フィルム」と訂正する。 ■明ｍ書第７頁第１１行目に「（フィルム）」とあるを
「又は偏光フィルム」と訂正する。 以　上 手続補正書（自船 昭和　５８年１１月２１日 特許庁長官　志賀　学　殿 １、事件の表示 昭和　５９　年　特許願　第　６８４００　号２、発明
の名称 偏光板又は偏光フィルムの製造方法 ３、補正をする者 事件との関係：特許出願人 サイチク株式会社 ４、代理人 ５、補正命令の日付 な　し ６、補圧の対象 図面中第６図 ７、補正の内容 図面第６図を別紙のものと差し替える。 第６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基材上の塗布層に磁界を印加して層内の２色性物質
   を一定方向に分子配向又は結晶配向させることを特徴と
   する偏光板（フィルム）の製造方法。 ２、基材が、透明プラスチックフィルムである前記特許
   請求の範囲第１項記載の製造方法。 ３、基材が、透明ガラス板である前記特許請求の範囲第
   １項記載の製造方法。 ４．２色性物質が、金属結晶である前記特許請求の範囲
   第１項記載の製造方法。 ５．２色性物質が、非金属結晶である前記特許請求の範
   囲第１項記載の製造方法。 ６、　２１＆材上の塗ｆｒｉ居に電界を印加して層内の
   ２色性物質を一定方向に分子配向又は結晶配向させるこ
   とを特徴とする偏光板（フィルム）の製造方法。 ７、基材が、透明プラスチックフィルムである前記特許
   請求の範囲第６項記載の製造方法。 ８、基材が、透明ガラス板である前ｉ特許請求の範囲第
   ６項記載の製造方法。 ８．２色性物質が、金属結晶である前記特許請求の範囲
   第６項記載の製造方法。 １０．２色性物質が、非−金属結晶である前記特許請求
   の範囲第６項記載の製造方法。 １１、基材上の第１の塗布層に磁界を印加して層内の２
   色性物質を一定方向へ分子配向又は結晶配向させる第１
   の配向工程と、 上記ｗ４１の塗布層の配向乾燥後、その層上に更に２色
   性物質を塗布する第２の塗布工程該第２の塗布層面に対
   して所定の傾斜角度で交叉する電界を印加して第２の塗
   布層における２色性物質を上記第１の塗布層の配向方向
   と異なる方向に分子配向又は結晶配向させる第２の配向
   工程と、 の各工程を有する偏光板（フィルム）の製造方法。 １２、上記２色性物質が非金属である前記特許請求の範
   囲第１１項記載の偏光板（フィルム）の製造方法。 １３、　上記２色性物質が、金属結晶である前記特許請
   求の範囲第１１記載の製造方法。 】４．偏光板（フィルム）が、円偏光板（フィルム）で
   ある前記特許請求の範囲第１１項乃至第１４項のいずれ
   かに記載の製造方法。