JPS60220838A - Differential pressure transmitter - Google Patents

Differential pressure transmitter

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JPS60220838A
JPS60220838A JP7576284A JP7576284A JPS60220838A JP S60220838 A JPS60220838 A JP S60220838A JP 7576284 A JP7576284 A JP 7576284A JP 7576284 A JP7576284 A JP 7576284A JP S60220838 A JPS60220838 A JP S60220838A
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JP
Japan
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pressure
semiconductor sensor
pressure side
center diaphragm
diaphragm
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JP7576284A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kawachi
河内 淳
Shunichiro Anami
阿波 俊一郎
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Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
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Publication date
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/0007Fluidic connecting means
    • G01L19/0038Fluidic connecting means being part of the housing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/06Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
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    • G01L19/0645Protection against aggressive medium in general using isolation membranes, specially adapted for protection

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Abstract

PURPOSE:To increase the size of a measuring lens and prevent destruction by varying the sectional area of the fixture part of a body which supports the top and reverse surfaces of a center diaphragm according to destruction critical pressure to a surface where the pressure transmission medium of a semiconductor sensor operates. CONSTITUTION:The sectional area of the fixation part of the body 31 which supports the top and reverse surfaces of the center diaphragm 42 is made different according to destruction critical pressure to each surface of the semiconductor sensor 39. Therefore, the center diaphragm 42 has different rigidity to pressure operating on each chamber to prevent large pressure from being applied to a surface of the semiconductor sensor 39 having large destruction critical pressure and large pressure from being applied to a surface having small destruction critical pressure. Therefore, the measurement range is increased as compared with such a conventional differential transmitter the rigidity of the center diaphragm is set corresponding to the surface with small destruction critical pressure, and the semiconductor sensor is prevented from being destroyed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は工業計測に用いられる差圧発信器に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a differential pressure transmitter used for industrial measurement.

〔従来技術〕[Prior art]

例えばプロセス制御などにおいて、管内の流量を測定し
ようとする場合、管内にオリフィス板を設置して流体抵
抗とし、この抵抗の上下流の圧力差を測定し、所定の演
算式に基づき流量を導き出すことが行われている。この
測定などに用いられるのが差圧発信器で、従来、高圧側
および低圧側の受圧ダイヤフラムに各測定圧力を与え、
この圧力による圧力伝達媒体の移動を、封入回路を仕切
つて設けた半導体センサの歪により電気的出力として取
出すように構成されている。
For example, when trying to measure the flow rate in a pipe in process control, etc., an orifice plate is installed inside the pipe to create fluid resistance, the pressure difference upstream and downstream of this resistance is measured, and the flow rate is derived based on a predetermined calculation formula. is being carried out. A differential pressure transmitter is used for this measurement, and conventionally, each pressure is applied to the pressure receiving diaphragm on the high pressure side and the low pressure side.
The structure is such that the movement of the pressure transmission medium due to this pressure is extracted as an electrical output by distortion of a semiconductor sensor provided by partitioning the enclosed circuit.

第1図は従来の差圧発信器を示す断面図で、ボディ1は
高圧倒ボディ1aと低圧側ボディ1bとに分割して形成
され、両側に断面波形状に形成された高圧側のバリアダ
イヤフラム2と低圧側のバリアダイヤフラム3とが固着
されている。高圧側ボディ1aには、ネック部材4の取
付用スペースを確保するために奥行きの深いはまり代5
が設けられており、このはまり代5に低圧側ボディ1b
が嵌合されこれら両部材1a、lbが図中でAで溶接さ
れている。前記バリアダイヤフラム2,3には、前記ボ
ディlに通しボルト6により固定された両側のカバー7
とボディ1間の孔8.9から流入する流体によって高圧
と低圧とがそれぞれ加えられる。また前記ボディ1の上
方にはネック部材4を介してセンサカプセル1′0が設
けられており、このセンサカプセル10内のセンサ室1
0aには半導体センサ11がセンサ台12に保持された
状態に配設されている。
FIG. 1 is a sectional view showing a conventional differential pressure transmitter, in which a body 1 is formed by being divided into a high pressure body 1a and a low pressure side body 1b, and a barrier diaphragm on the high pressure side is formed in a corrugated cross section on both sides. 2 and a barrier diaphragm 3 on the low pressure side are fixed to each other. The high-pressure side body 1a has a deep fit 5 in order to secure a space for mounting the neck member 4.
is provided, and the low pressure side body 1b is provided in this fitting allowance 5.
are fitted, and both members 1a and lb are welded at A in the figure. The barrier diaphragms 2 and 3 have covers 7 on both sides fixed to the body l with through bolts 6.
A high pressure and a low pressure are applied by the fluid flowing in from the hole 8.9 between the body 1 and the body 1, respectively. Further, a sensor capsule 1'0 is provided above the body 1 via a neck member 4, and a sensor chamber 1' in this sensor capsule 10 is provided.
A semiconductor sensor 11 is disposed at 0a so as to be held on a sensor stand 12.

13は断面波形状のセンタダイヤフラムで、前記ボディ
1の中央接合部に設けた内室を高圧側内室14と低圧側
内室15とに画成するようにボディ1にその縁部が固定
されている。16は圧力伝達用の高圧側液通路で、高圧
側内室14.半導体センサ11の下側に連通し前記高圧
側ボディlaおよびネック部材4内に設けられている。
Reference numeral 13 denotes a center diaphragm having a wave-shaped cross section, the edge of which is fixed to the body 1 so as to define an inner chamber provided at the central joint of the body 1 into a high pressure side inner chamber 14 and a low pressure side inner chamber 15. ing. 16 is a high pressure side liquid passage for pressure transmission, and the high pressure side inner chamber 14. It communicates with the lower side of the semiconductor sensor 11 and is provided in the high-pressure side body la and the neck member 4.

17は前記高圧側液通路16と同一の機能を有する低圧
側液通路で、低圧側内室15.半導体センサ11の上側
に連通し低圧側ボディlb、高圧側ボディ1aおよびネ
ック部材4内に設けられている。また、前記両内室14
.15と各バリアダイヤフラム2,3とボディ1間に形
成された間隙18.19とは液通路20.21によって
それぞれ連通されている。そして、前記間隙18.19
から液通路20.21.内室14.15および液通路1
6゜17を経て半導体センサ11の下側と上側とに至る
間には、圧力伝達媒体であるシリコンオイル等の封入液
22が封入されている。
17 is a low pressure side liquid passage having the same function as the high pressure side liquid passage 16, and is connected to the low pressure side inner chamber 15. It communicates with the upper side of the semiconductor sensor 11 and is provided in the low-pressure side body 1b, the high-pressure side body 1a, and the neck member 4. In addition, both the inner chambers 14
.. 15 and the gaps 18.19 formed between each barrier diaphragm 2, 3 and the body 1 are communicated by liquid passages 20.21, respectively. And the gap 18.19
From liquid passage 20.21. Inner chamber 14.15 and liquid passage 1
A liquid 22 such as silicone oil, which is a pressure transmission medium, is sealed between the lower side and the upper side of the semiconductor sensor 11 via 6°17.

ところで、半導体センサ11は一般に一方の面を化学エ
ツチングあるいは電解エツチングすることによって製造
されるため、エツチングされた面に作用する圧力に対す
る強度と、エツチングされない面に作用する圧力に対す
る強度とが異なり、エツチングされた面に対する破壊臨
界圧が小さくなる。このため、従来の差圧発信器におい
ては、半導体センサ11を保護するために半導体センサ
11の強度が小さな面に対する破壊臨界圧に応じてセン
タダイヤフラム13の剛性を設定するようにしている。
By the way, since the semiconductor sensor 11 is generally manufactured by chemically etching or electrolytically etching one surface, the strength against the pressure acting on the etched surface is different from the strength against the pressure acting on the unetched surface. The critical pressure for failure on the exposed surface becomes smaller. For this reason, in the conventional differential pressure transmitter, in order to protect the semiconductor sensor 11, the rigidity of the center diaphragm 13 is set in accordance with the breaking critical pressure for the surface of the semiconductor sensor 11 where the strength is small.

しかしながら、このようにセンタダイヤフラム13の剛
性を設定すると、高圧側から作用する圧力に対して容品
に弾性変形することになり、その結果測定レンジを大き
くすることができないという不具合が生ずる。一方、大
きな測定レンジを得るためにセンタダイヤフラム13の
剛性を大きくすると低圧側から作用する圧力によって破
壊を招くことになる。
However, if the rigidity of the center diaphragm 13 is set in this way, the container will elastically deform in response to the pressure applied from the high pressure side, resulting in a problem that the measurement range cannot be increased. On the other hand, if the rigidity of the center diaphragm 13 is increased in order to obtain a large measurement range, the pressure acting from the low-pressure side will lead to destruction.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、圧力伝
達媒体が封入された液絡路を半導体センサの一方の面に
連通された室と半導体センサの他方の面に連通された室
とに画成するセンタダイヤフラムの表裏面を支承するボ
ディの固定部の断面積を、前記半導体センサの各面に対
する破壊臨界圧に応じて異ならせるというきわめて簡単
な構成により、半導体センサの破壊を招くことなく測定
レンジを大きくすることができる差圧発信器を提供する
ものである。以下、その構成等を図に示す実施例により
詳細に説明する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and includes a liquid junction passage filled with a pressure transmission medium between a chamber communicating with one surface of a semiconductor sensor and a chamber communicating with the other surface of the semiconductor sensor. By using an extremely simple configuration in which the cross-sectional area of the fixed portion of the body that supports the front and back surfaces of the center diaphragm that defines the center diaphragm is made different depending on the breaking critical pressure for each surface of the semiconductor sensor, it is possible to prevent the semiconductor sensor from being destroyed. The present invention provides a differential pressure transmitter that can increase the measurement range. Hereinafter, its configuration and the like will be explained in detail with reference to embodiments shown in the drawings.

τ実施例〕 第2図は本発明に係る差圧発信器を示すボディの断面図
で、同図において符号31で示すものはボディを示し、
このボディ31は高圧側ボディ31aと低圧側ボディ3
1bとに分割して形成され、高圧側ボディ31aは低圧
側ボディ31bとの間に空間が形成された状態に前記低
圧側ボディ31bに嵌合されている。32は低圧側ボデ
ィ31bの両端面間を連通ずる連通孔で、中央部を貫通
するように穿設されている。高圧側ボディ31aには前
記連通孔32に対向する位置に、両端面間を連通ずる連
通孔33が穿設されている。
τ Example] FIG. 2 is a sectional view of a body showing a differential pressure transmitter according to the present invention, and in the same figure, the reference numeral 31 indicates the body;
This body 31 includes a high pressure side body 31a and a low pressure side body 3.
1b, and the high-pressure side body 31a is fitted into the low-pressure side body 31b such that a space is formed between the high-pressure side body 31a and the low-pressure side body 31b. Reference numeral 32 denotes a communication hole that communicates between both end surfaces of the low-pressure side body 31b, and is bored through the center portion. A communication hole 33 is bored in the high-pressure side body 31a at a position opposite to the communication hole 32, which communicates between both end surfaces.

すなわち、高圧側ボディ31aと低圧側ボディ31bと
の間に形成された前記空間と、連通孔32、連通孔33
とによりボディ31内には両端に開口された液絡路34
が形成されている。
That is, the space formed between the high pressure side body 31a and the low pressure side body 31b, the communication hole 32, and the communication hole 33
Therefore, there is a liquid junction passage 34 opened at both ends in the body 31.
is formed.

ボディ31の両側には、前記液絡路34に圧力伝達媒体
であるシリコンオイル等の封入液37を封入する断面波
形状に形成された一対の高圧側および低圧・側のバリア
ダイヤフラム35,36が固着されている。38.38
はこれらバリアダイヤフラム35.36が対向するボデ
ィ31の端面に設けられたバックアツプ面で、バリアダ
イヤフラム35.36が密接できる波形状に形成され、
バリアダイヤフラム35,36が損傷するのを防止して
いる。
On both sides of the body 31, a pair of barrier diaphragms 35, 36 on the high pressure side and the low pressure side are formed in a corrugated cross section and seal a sealed liquid 37 such as silicone oil as a pressure transmission medium in the liquid junction path 34. It is fixed. 38.38
is a back-up surface provided on the end surface of the body 31 facing these barrier diaphragms 35, 36, and is formed in a wave shape so that the barrier diaphragms 35, 36 can be brought into close contact with each other;
This prevents the barrier diaphragms 35, 36 from being damaged.

バリアダイヤフラム35.36の外側には高圧側および
低圧側の圧力を導入するための図示しないカバーが取付
けられている。またボディ31の上方には図示しないが
従来のものと同様に、ネック部材を介してセンサカプセ
ルが設けられており、このセンサカプセル内には鎖線で
示す半導体センサ39がセンサ台に保持された状態に配
設されている。40および41はボディ31に穿設され
、液絡路34を半導体センサ39の一方および他方の面
に連通させる液通路である。
A cover (not shown) is attached to the outside of the barrier diaphragm 35, 36 for introducing pressure from the high pressure side and the low pressure side. Although not shown, a sensor capsule is provided above the body 31 via a neck member, similar to the conventional one, and inside this sensor capsule, a semiconductor sensor 39 shown by a chain line is held on a sensor stand. It is located in 40 and 41 are liquid passages that are bored in the body 31 and communicate the liquid junction passage 34 with one and the other surfaces of the semiconductor sensor 39.

42は縁部を溶着などによって低圧側ボディ31bに固
定された断面波形状のセンタダイヤフラムで、このセン
タダイヤフラム42はボディ31の空間に設けられ、前
記液絡路34を半導体センサ39の一方の面である上側
に連通された室と、半導体センサ39の他方の面である
下側に連通された室とに画成している。そして、所定の
圧力が作用したときにセンタダイヤフラム42が弾性変
形して半導体センサ39を過圧から保護するように構成
されている。
Reference numeral 42 denotes a center diaphragm having a corrugated cross section whose edges are fixed to the low-pressure side body 31b by welding or the like. The semiconductor sensor 39 is divided into a chamber that communicates with the upper side, and a chamber that communicates with the lower side, which is the other surface of the semiconductor sensor 39. The center diaphragm 42 is configured to elastically deform when a predetermined pressure is applied to protect the semiconductor sensor 39 from overpressure.

43はセンタダイヤフラム42の表面を支承する高圧側
ボディ31Hに設けられた固定部、44はセンタダイヤ
フラム42の裏面を支承する低圧側ボディ31bに設け
られた固定部で、これら固定部43.44は半導体セン
サ39の封入液37が作用する面に対する破壊臨界圧に
応じて、断面積が異なるような形状に設けられている。
43 is a fixed part provided on the high-pressure side body 31H that supports the surface of the center diaphragm 42, and 44 is a fixed part provided on the low-pressure side body 31b that supports the back surface of the center diaphragm 42. The cross-sectional area of the semiconductor sensor 39 varies depending on the critical breaking pressure on the surface of the semiconductor sensor 39 on which the sealed liquid 37 acts.

換言すれば半導体センサ39を保護するために、固定部
43.44の内径φAt+ φA□が異なるように設定
し、センタダイヤフラム42の弾性変形可能な部分の直
径を高圧側に対しては小さく、低圧側に対しては大きく
なるように変化させている。
In other words, in order to protect the semiconductor sensor 39, the inner diameters φAt+ φA□ of the fixing parts 43, 44 are set to be different, and the diameter of the elastically deformable portion of the center diaphragm 42 is made smaller on the high pressure side and smaller on the low pressure side. It is changed so that it becomes larger towards the side.

ここで、上述したような半導体センサ39を保護する機
構が動作する圧力をPとすれば、前記内径φAL、φA
Hの設定は次式に基づいて行われる。
Here, if the pressure at which the mechanism for protecting the semiconductor sensor 39 as described above operates is P, then the inner diameters φAL, φA
Setting of H is performed based on the following formula.

P=V@/Φ 但し、vo :バリアダイヤフラム下封入液量Φ : 
(体積変化/圧力)係数 (コンプライアンス) この式において、コンプライアンスΦはセンタダイヤフ
ラム42の支持径、すなわちセンタダイヤフラム42を
支承する固定部43.44の内径φAt、φAHの6乗
に比例するから、例えば、前記内径の比をφAL :φ
A11 = 1 : 2”’とすると、コンプライアン
スΦは高圧側から圧力が作用した場合と低圧側から圧力
が作用した場合との比が1:2となり、過圧保護が動作
する圧力の比は2:1となる。このような圧力比は、半
導体センサ39の上面および下面に対する破壊臨界圧に
応じて設定されている。
P=V@/Φ However, vo: Amount of liquid sealed under the barrier diaphragm Φ:
(Volume Change/Pressure) Coefficient (Compliance) In this equation, compliance Φ is proportional to the support diameter of the center diaphragm 42, that is, the inner diameters φAt and φAH of the fixing portion 43.44 that support the center diaphragm 42 to the 6th power, so for example, , the ratio of the inner diameters is φAL :φ
If A11 = 1:2'', then the ratio of compliance Φ when pressure is applied from the high pressure side to when pressure is applied from the low pressure side is 1:2, and the ratio of pressures at which overpressure protection operates is 2. :1. Such a pressure ratio is set according to the breaking critical pressure for the upper and lower surfaces of the semiconductor sensor 39.

このように構成された差圧発信器においては、高圧側か
ら圧力が作用した場合、センタダイヤフラム42は裏面
を低圧側ボディ31bに設けられた固定部44によって
支承されているので、この固定部44を支点として圧力
に比例して移動し、高圧側バリアダイヤフラム35内側
の封入液37がボディ31内の空間に移動し、このバリ
アダイヤフラム35に作用する圧力が封入液37によっ
て半導体センサ39に伝達される。一方、低圧側から圧
力が作用した場合、センタダイヤフラム42は表面を高
圧側ボディ31aに設けられた固定部43によって支承
されているので、この固定部43を支点として圧力に比
例して移動し、低圧側バリアダイヤフラム36内側の封
入液37がボディ31内の空間に移動し、このバリアダ
イヤフラム36に作用する圧力が封入液37によって半
導体センサ39に伝達される。その結果、高圧側と低圧
側との圧力差によって半導体センサ39にひずみが発生
して差圧の測定が行われる。
In the differential pressure transmitter configured in this way, when pressure is applied from the high pressure side, the center diaphragm 42 is supported on the back side by the fixing part 44 provided on the low pressure side body 31b. The sealed liquid 37 inside the high-pressure side barrier diaphragm 35 moves into the space within the body 31, and the pressure acting on the barrier diaphragm 35 is transmitted to the semiconductor sensor 39 by the sealed liquid 37. Ru. On the other hand, when pressure is applied from the low pressure side, since the surface of the center diaphragm 42 is supported by a fixed part 43 provided on the high pressure side body 31a, the center diaphragm 42 moves in proportion to the pressure using this fixed part 43 as a fulcrum. The sealed liquid 37 inside the low-pressure side barrier diaphragm 36 moves into the space within the body 31, and the pressure acting on this barrier diaphragm 36 is transmitted to the semiconductor sensor 39 by the sealed liquid 37. As a result, strain occurs in the semiconductor sensor 39 due to the pressure difference between the high pressure side and the low pressure side, and the differential pressure is measured.

このとき、センタダイヤフラム42は弾性変形可能な部
分の直径が異なっているため、高圧側から作用する圧力
に対しては、低圧側から作用する圧力に対してよりも大
きな剛性を有することになる。このため、第3図に高圧
側を正側とし低圧側を負側として、半導体センサ39に
伝達される圧力Psと封入液37の移動量■との関係を
示すように、高圧側の圧力に対しては圧力PIにおいて
封入液37がバリアダイヤフラム内側封入液量V0だけ
移動し、バリアダイヤフラム35がバックアツプ面38
に接触して単導体センサ39の過圧保護が行われる。こ
れと同様に低圧側からの圧力に対しては前記圧力P1よ
り小さな圧力P2でバリアダイヤフラム36がバックア
ツプ面38に接触することになる。その結果、第4図に
半導体センサ39に伝達される圧力P、と差圧発信器に
作用する差圧pとの関係を、高圧側を正側、低圧側を負
側として示すように21以上あるいはp2以下の差圧が
半導体センサ39に伝達されるのが防止されている。
At this time, since the diameters of the elastically deformable portions of the center diaphragm 42 are different, the center diaphragm 42 has greater rigidity against pressure applied from the high pressure side than against pressure applied from the low pressure side. Therefore, the pressure on the high pressure side is On the other hand, at pressure PI, the sealed liquid 37 moves by the amount V0 of sealed liquid inside the barrier diaphragm, and the barrier diaphragm 35 moves to the back-up surface 38.
Overpressure protection of the single conductor sensor 39 is performed by contacting the single conductor sensor 39. Similarly, in response to pressure from the low pressure side, the barrier diaphragm 36 comes into contact with the back-up surface 38 at a pressure P2 smaller than the pressure P1. As a result, the relationship between the pressure P transmitted to the semiconductor sensor 39 and the differential pressure p acting on the differential pressure transmitter is shown in FIG. 4 with the high pressure side being the positive side and the low pressure side being the negative side. Alternatively, a differential pressure of p2 or less is prevented from being transmitted to the semiconductor sensor 39.

したがって、センタダイヤフラム42は破壊臨界圧の大
きな半導体センサ39の上側に連通された高圧側に作用
する圧力に対しては大きな剛性を有し、破壊臨界圧の小
さな半導体センサ39の下側に連通された低圧側に対し
ては小さな剛性を有することになる。そのため、半導体
センサ39の高圧側には大きな圧力を作用させることが
できると共に、破壊臨界圧が小さな低圧側に対しては大
きな圧力が半導体センサ39に伝達されるのを防止し、
過圧保護することができる。
Therefore, the center diaphragm 42 has a large rigidity against the pressure acting on the high pressure side communicated with the upper side of the semiconductor sensor 39 with a large critical pressure for failure, and is communicated with the lower side of the semiconductor sensor 39 with a low critical pressure of failure. It has a small rigidity on the low pressure side. Therefore, a large pressure can be applied to the high pressure side of the semiconductor sensor 39, and large pressure can be prevented from being transmitted to the semiconductor sensor 39 on the low pressure side where the critical pressure for destruction is small.
Can be overpressure protected.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、液絡路を半導体セ
ンサの一方の面に連通された室と他方の面に連通された
室とに画成するセンタダイヤフラムの表裏面を支承する
ボディの固定部の断面積を、前記半導体センサの各面に
対する破壊臨界圧に応じて異ならせたから、センタダイ
ヤフラムは前記各室に作用する圧力に対して異なった剛
性を有することになり、半導体センサの破壊臨界圧が大
きな面には大きな圧力を作用させることができると共に
、破壊臨界圧が小さな面には大きな圧力が作用するのを
防止することができる。
As explained above, according to the present invention, the body supporting the front and back surfaces of the center diaphragm defines the liquid junction path into a chamber communicating with one surface of the semiconductor sensor and a chamber communicating with the other surface. Since the cross-sectional area of the fixing part is made different depending on the critical pressure for failure on each side of the semiconductor sensor, the center diaphragm has different stiffness against the pressure acting on each chamber, which prevents the failure of the semiconductor sensor. A large pressure can be applied to a surface with a large critical pressure, and a large pressure can be prevented from acting on a surface with a small critical pressure for destruction.

したがって、センタダイヤフラムの剛性が破壊臨界圧の
小さい面に対応して設定された従来の差圧発信器に比べ
て測定レインを大きくすることができ、しかも半導体セ
ンサの破壊を防止することができるという効果がある。
Therefore, compared to conventional differential pressure transmitters in which the rigidity of the center diaphragm is set to correspond to a surface with a small critical pressure for destruction, it is possible to increase the measurement range and prevent damage to the semiconductor sensor. effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の差圧発信器を示す断面図、第2図は本発
明に係る差圧発信器を示すボディの断面図、第3図は半
導体センサに伝達される圧力P8と封入液の移動量■と
の関係を示すグラフ、第4図は半導体センサに伝達され
る圧力P3と差圧発信器に作用する差圧pとの関係を示
すグラフである。 31・・・・ボディ、34・・・・液絡路、35.36
・・・・バリアダイヤフラム、37・・・・封入液、3
9・・・・半導体センサ、42・・・・センタダイヤフ
ラム、43.44・・・・固定部。 特許出願人 山武ハネウェル株式会社 代理人 山川政権(ほか2名) 第1図 A 1 1(1 第2図 第3図 第4図
Fig. 1 is a sectional view showing a conventional differential pressure transmitter, Fig. 2 is a sectional view of a body showing a differential pressure transmitter according to the present invention, and Fig. 3 is a sectional view of the pressure P8 transmitted to the semiconductor sensor and the sealed liquid. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the pressure P3 transmitted to the semiconductor sensor and the differential pressure p acting on the differential pressure transmitter. 31...Body, 34...Liquid junction path, 35.36
... Barrier diaphragm, 37 ... Filled liquid, 3
9...Semiconductor sensor, 42...Center diaphragm, 43.44...Fixing part. Patent Applicant Yamatake Honeywell Co., Ltd. Agent Yamakawa Administration (and 2 others) Figure 1 A 1 1 (1 Figure 2 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 両端が開口された液絡路を有するボディと、このボディ
に固着され液絡路に圧力伝達媒体を封入する一対のバリ
ヤダイヤフラムと、前記液絡路を半導体センサの一方の
面に連通された室と半導体センサの他方の面に連通され
た室とに画成するセンタダイヤフラムとを備え、このセ
ンタダイヤフラムの表面および裏面を支承するボディの
固定部の断面積を、前記半導体センサの圧力伝達媒体が
作用する面に対する破壊臨界圧に応じて異ならせたこと
を特徴とする差圧発信器。
A body having a liquid junction path with both ends open, a pair of barrier diaphragms fixed to the body and enclosing a pressure transmission medium in the liquid junction path, and a chamber communicating the liquid junction path with one surface of the semiconductor sensor. and a center diaphragm defining a chamber communicating with the other surface of the semiconductor sensor, and the pressure transmission medium of the semiconductor sensor has a cross-sectional area of a fixed portion of the body that supports the front and back surfaces of the center diaphragm. A differential pressure transmitter characterized in that the pressure is varied depending on the critical pressure for failure on the surface on which it acts.
JP7576284A 1984-04-17 1984-04-17 Differential pressure transmitter Pending JPS60220838A (en)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56129832A (en) * 1980-02-13 1981-10-12 Honeywell Inc Differential pressure transmitter
JPS5957132A (en) * 1982-09-25 1984-04-02 Yamatake Honeywell Co Ltd Diferential pressure transmitter

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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