JPS6022969B2 - 粉粒体循環装置 - Google Patents
粉粒体循環装置Info
- Publication number
- JPS6022969B2 JPS6022969B2 JP14703379A JP14703379A JPS6022969B2 JP S6022969 B2 JPS6022969 B2 JP S6022969B2 JP 14703379 A JP14703379 A JP 14703379A JP 14703379 A JP14703379 A JP 14703379A JP S6022969 B2 JPS6022969 B2 JP S6022969B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- gas
- section
- flow rate
- fluidized bed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Air Transport Of Granular Materials (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は粉粒体の循環装置に関するものである。
石油化学その他の産業において粉粒体を触媒としてまた
熱媒体として反応塔等へ循環させて使用する必要がある
場合がある。
熱媒体として反応塔等へ循環させて使用する必要がある
場合がある。
従来高温の粉粒体を輸送する手段としては粉粒体層のレ
ベル差の利用、粉粒体層の圧力差の利用、気流輸送また
はこれらの組合せ等の方法がある。
ベル差の利用、粉粒体層の圧力差の利用、気流輸送また
はこれらの組合せ等の方法がある。
またこれらの場合において粉粒体流量を制御する手段と
してはスライドバルブ等のの特殊弁の使用において弁の
関度による流量の制御、輸送管の途中に多数のノズルを
設けェアレーションガスを吹き込むことによる粉粒体の
密度の変化を利用する制御等が行われている。
してはスライドバルブ等のの特殊弁の使用において弁の
関度による流量の制御、輸送管の途中に多数のノズルを
設けェアレーションガスを吹き込むことによる粉粒体の
密度の変化を利用する制御等が行われている。
弁制御を採用するときは高温部にその温度に耐えるバル
ブが必要であるが、高価であり加うるにガスシール、粉
粒体のかみ込み粉粒体による摩耗等種々の問題がある。
ブが必要であるが、高価であり加うるにガスシール、粉
粒体のかみ込み粉粒体による摩耗等種々の問題がある。
ェアレーションガスによる制御では多数のェアレーショ
ン用のノズルを設置する必要があり、かつノズルへの送
気のバランス等運転操作においても相当の熟練を要する
という問題がある。本発明はこれらの欠点を改善して制
御容易な装置を堤案するものである。
ン用のノズルを設置する必要があり、かつノズルへの送
気のバランス等運転操作においても相当の熟練を要する
という問題がある。本発明はこれらの欠点を改善して制
御容易な装置を堤案するものである。
第１図は本発明の一実施例で石油精製工業において減圧
軽油等の接触分解に使用した流動接触分解装置を示すも
のである。
軽油等の接触分解に使用した流動接触分解装置を示すも
のである。
１は触媒反応用流動層を使用した反応器であり、２は再
生用流動層をもつ再生器である。
生用流動層をもつ再生器である。
反応器１内の触媒粉粒体（以下粉粒体と呼ぶ）はガス入
口４より入り分散板５を通って供給された流動化用ガス
によって流動状態となり、他方原料油入口６より供給さ
れた減圧軽油と混合して接触分解反応を行なう。一方、
反応器内の粉粒体の一部は、分散板５と反応器本体１と
の空隙間よりストリッパー７に落下し、ここで高温の粉
粒体に附着した油分の除去操作たるストリツピング蒸気
入口８より供給されたストリッピング蒸気によりストリ
ッピングされながら連絡管９に入る。連絡管９の下部に
取り付けるれた粉粒体流動用のェアレーションガス入口
１０より供給されたェアレーションガスは連絡管９を流
下する粉粒体流量を制御する。ェアレーションガスによ
って流量を制御された粉粒体はリフトガス入口１ １よ
り供尊台されたリフトガスによってリフト管１２内を高
位流動層部３ａを有する再生器２まで気流輸送される。
口４より入り分散板５を通って供給された流動化用ガス
によって流動状態となり、他方原料油入口６より供給さ
れた減圧軽油と混合して接触分解反応を行なう。一方、
反応器内の粉粒体の一部は、分散板５と反応器本体１と
の空隙間よりストリッパー７に落下し、ここで高温の粉
粒体に附着した油分の除去操作たるストリツピング蒸気
入口８より供給されたストリッピング蒸気によりストリ
ッピングされながら連絡管９に入る。連絡管９の下部に
取り付けるれた粉粒体流動用のェアレーションガス入口
１０より供給されたェアレーションガスは連絡管９を流
下する粉粒体流量を制御する。ェアレーションガスによ
って流量を制御された粉粒体はリフトガス入口１ １よ
り供尊台されたリフトガスによってリフト管１２内を高
位流動層部３ａを有する再生器２まで気流輸送される。
この場合リフトガス量によっても粉粒体の流量の制御は
可能であるが、リフトガス量による制御の場合は粉粒体
輸送量に比べリフトガス量が少ないとＩＪフト管の閉塞
を生じるおそれがあるので、運転が不安定となり、また
リフトガス量を大きく変動させる必要がある。一方本発
明の位置でェアレーションガスを用いて制御御する場合
ェアレーションガス量は少量でよく変動量も極めて少量
である。再生器２内に入った粉粒体は燃焼用空気入口１
３より入り分散板１４を通って供給された空気により再
生器内で粉粒体表面に附着したカーボンを燃焼させる。
再生器２内高位流動層部３ａの粉粒体の一部は輸送管１
５を通り粉粒体流量制御のため断面縮小部１６を通りこ
こで流量制御用ガスノズル１７ａと減速ガスノズル１７
ｂより供給された流量制御用ガスによって流量を制御さ
れて低位流動層部３ｂを有する反応器１に戻し入れされ
る。
可能であるが、リフトガス量による制御の場合は粉粒体
輸送量に比べリフトガス量が少ないとＩＪフト管の閉塞
を生じるおそれがあるので、運転が不安定となり、また
リフトガス量を大きく変動させる必要がある。一方本発
明の位置でェアレーションガスを用いて制御御する場合
ェアレーションガス量は少量でよく変動量も極めて少量
である。再生器２内に入った粉粒体は燃焼用空気入口１
３より入り分散板１４を通って供給された空気により再
生器内で粉粒体表面に附着したカーボンを燃焼させる。
再生器２内高位流動層部３ａの粉粒体の一部は輸送管１
５を通り粉粒体流量制御のため断面縮小部１６を通りこ
こで流量制御用ガスノズル１７ａと減速ガスノズル１７
ｂより供給された流量制御用ガスによって流量を制御さ
れて低位流動層部３ｂを有する反応器１に戻し入れされ
る。
以上のように触媒粉粒体３は反応器１と再生器２の間を
循環して使用されるもろである。
循環して使用されるもろである。
いま２つの循環ラインの流量制御が行われないときには
輸送管１２を輸送される粉粒体量が輸送管１５を輸送さ
れる量より多いとすると反応器１内の粉粒体は漸次減少
し反応器１内の流動層高は低下する。
輸送管１２を輸送される粉粒体量が輸送管１５を輸送さ
れる量より多いとすると反応器１内の粉粒体は漸次減少
し反応器１内の流動層高は低下する。
従って原料油入口６より供期潰された油は後触時間が短
くなり未反応のまま反応器１を出口１８より出ることと
なる。また逆の場合には、再生器２内に輸送される粉粒
体量が不足し、従って燃焼すべきカーボン量が少なくな
り再生器２内部の温度は低下することとなる。
くなり未反応のまま反応器１を出口１８より出ることと
なる。また逆の場合には、再生器２内に輸送される粉粒
体量が不足し、従って燃焼すべきカーボン量が少なくな
り再生器２内部の温度は低下することとなる。
本発明の実施により容易に２つの輸送管の粉粒体流量を
制御することができるので装置の安全かつ効率的な運転
を行うことができる。
制御することができるので装置の安全かつ効率的な運転
を行うことができる。
以下、この２つの輸送管の流量制御部の詳細構造につき
説明する。
説明する。
第２図および第３図は輸送管１５の流量制御をする断面
縮小部１６の断面を示すものもで輸送管１５を流下した
粉粒体は断面縮小部１６に入る。
縮小部１６の断面を示すものもで輸送管１５を流下した
粉粒体は断面縮小部１６に入る。
ここで流量制御用ガス入口１７ａおよび１７ｂより供給
された流量制御用ガスにより流量の制御が行われる。こ
の流量制御部の制御特性を第６図に示す。図中符号ＷＮ
＾ｘは粉粒体鼓大流量、Ｗｏは粉粒体流量設定値を示す
。いま設定した粉粒体流量のときには制御用ガスを供給
しないですむように縮小部を設定し輸送量を減らしたい
場合には下流側のノズルより制御用ガスを供Ｖ給するこ
とにより下流側のガス圧を上昇せしめ輸送量を減少させ
、増加させる場合は上流側より制御ガスを供給しこれに
より上流側のガス圧を上昇せしめ輸送革を増加させる。
第４図、第５図に輸送管１２の流量制御部の詳細構造を
示す。
された流量制御用ガスにより流量の制御が行われる。こ
の流量制御部の制御特性を第６図に示す。図中符号ＷＮ
＾ｘは粉粒体鼓大流量、Ｗｏは粉粒体流量設定値を示す
。いま設定した粉粒体流量のときには制御用ガスを供給
しないですむように縮小部を設定し輸送量を減らしたい
場合には下流側のノズルより制御用ガスを供Ｖ給するこ
とにより下流側のガス圧を上昇せしめ輸送量を減少させ
、増加させる場合は上流側より制御ガスを供給しこれに
より上流側のガス圧を上昇せしめ輸送革を増加させる。
第４図、第５図に輸送管１２の流量制御部の詳細構造を
示す。
連絡管９を流下したた粉粒体はエアレーションガス入ロ
１０よりのエアレーションガスによりその見掛けのかご
密度を減少されまた粉粒体間の摩擦の小さくなったもの
が輸送管１２に入る。このときェアレーションガスの吹
込量の大々・により見掛かさ密度および粉粒体間の摩擦
が変化し流量制御が行われる。第７図はこの部の流量制
御特性曲線である。第４図の如く連絡管９が真直ぐ輸送
管１２に取り付けうれると制御特性は第７図の曲線ａと
なる。第５図の如く連絡管９が曲つて輸送管１２に取り
付けられると制御特性は第７ｂの如くなり、バルブがな
くても流量をゼロとする。図中符号ＷＮ＾ｘは粉粒体最
大流量、Ｘｏは粉粒体流量設定値を示す。要するに二つ
の流動層容器を接続し、粉粒体を循環させるものにおい
て低位流動層容器の下端連絡管とりフト管との接続部に
ェアレーションノズルを設けこのェアレ−ションノズル
への供給ガス童を制御することと、高位流動層部と低位
流動層部を接続する傾斜した輸送管中央の断面縮小部に
増速ガス／ズルと減速ガスノズルを設けたこととを特徴
とする粉粒体循環装置を提案することにより、反応器と
再生器の間を粉粒体を円滑に循環させかつその流量を容
易に制御することができる効果を奏するものである。
１０よりのエアレーションガスによりその見掛けのかご
密度を減少されまた粉粒体間の摩擦の小さくなったもの
が輸送管１２に入る。このときェアレーションガスの吹
込量の大々・により見掛かさ密度および粉粒体間の摩擦
が変化し流量制御が行われる。第７図はこの部の流量制
御特性曲線である。第４図の如く連絡管９が真直ぐ輸送
管１２に取り付けうれると制御特性は第７図の曲線ａと
なる。第５図の如く連絡管９が曲つて輸送管１２に取り
付けられると制御特性は第７ｂの如くなり、バルブがな
くても流量をゼロとする。図中符号ＷＮ＾ｘは粉粒体最
大流量、Ｘｏは粉粒体流量設定値を示す。要するに二つ
の流動層容器を接続し、粉粒体を循環させるものにおい
て低位流動層容器の下端連絡管とりフト管との接続部に
ェアレーションノズルを設けこのェアレ−ションノズル
への供給ガス童を制御することと、高位流動層部と低位
流動層部を接続する傾斜した輸送管中央の断面縮小部に
増速ガス／ズルと減速ガスノズルを設けたこととを特徴
とする粉粒体循環装置を提案することにより、反応器と
再生器の間を粉粒体を円滑に循環させかつその流量を容
易に制御することができる効果を奏するものである。
第１図は本発明にかかる装置の縦断面図、第２図、第３
図、第４図、第５図は本発明の流量制御部の断面図、第
６図、第７図は流量制御の効果を示す線図である。 １…反応器、２…再生器、３ａ・・・高位流動層部、３
ｂ・・・低位流動層部、４・・・ガス入口、５・・・分
散板、６…原料油入口、７・・・ストリッパー、８・・
・ストリッピング蒸気入口、９・・・連絡管、１０・・
・ェアレーションガス入口、１１・・・リフトガス入口
、１２・・・ェアリフト管、１３・・・燃焼空気入口、
１４・・・分散板、１５・・・輸送管、１６・・・断面
縮小部、１７ａ…増遠ガスノズル、１７ｂ…減速ガスノ
ズル、１８・・・反応器出口、１９・・・再生器出口。 第１図第２図 第３図 第ム図 第５図 第６図 第７図
図、第４図、第５図は本発明の流量制御部の断面図、第
６図、第７図は流量制御の効果を示す線図である。 １…反応器、２…再生器、３ａ・・・高位流動層部、３
ｂ・・・低位流動層部、４・・・ガス入口、５・・・分
散板、６…原料油入口、７・・・ストリッパー、８・・
・ストリッピング蒸気入口、９・・・連絡管、１０・・
・ェアレーションガス入口、１１・・・リフトガス入口
、１２・・・ェアリフト管、１３・・・燃焼空気入口、
１４・・・分散板、１５・・・輸送管、１６・・・断面
縮小部、１７ａ…増遠ガスノズル、１７ｂ…減速ガスノ
ズル、１８・・・反応器出口、１９・・・再生器出口。 第１図第２図 第３図 第ム図 第５図 第６図 第７図
Claims (1)
- １ 二つの流動層容器を接続し粉粒体を循環させるもの
において低位流動層容器の下端連絡管とリフト管との接
続部にエアレーシヨンノズルを設けこのエアレーシヨン
ノズルへの供給ガスを制御することと、高位流動層部と
低位流動層部を接続する傾斜した輸送管中央の断面縮小
部に増速ガスノズルと減速ガスノズルを設けたこととを
特徴とする粉粒体循環装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14703379A JPS6022969B2 (ja) | 1979-11-15 | 1979-11-15 | 粉粒体循環装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14703379A JPS6022969B2 (ja) | 1979-11-15 | 1979-11-15 | 粉粒体循環装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5670228A JPS5670228A (en) | 1981-06-12 |
| JPS6022969B2 true JPS6022969B2 (ja) | 1985-06-05 |
Family
ID=15421007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14703379A Expired JPS6022969B2 (ja) | 1979-11-15 | 1979-11-15 | 粉粒体循環装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022969B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6235575U (ja) * | 1985-08-21 | 1987-03-02 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013116434A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 反応装置 |
| JP2013141659A (ja) * | 2012-01-12 | 2013-07-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 反応装置及びε−カプロラクタムの製造方法 |
| CN104192572B (zh) * | 2014-09-05 | 2016-05-11 | 芜湖新兴铸管有限责任公司 | 一种气力输送管道可调补气器 |
-
1979
- 1979-11-15 JP JP14703379A patent/JPS6022969B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6235575U (ja) * | 1985-08-21 | 1987-03-02 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5670228A (en) | 1981-06-12 |
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