JPS60233851A - 固体イメ−ジセンサ - Google Patents

固体イメ−ジセンサ

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JPS60233851A
JPS60233851A JP59075782A JP7578284A JPS60233851A JP S60233851 A JPS60233851 A JP S60233851A JP 59075782 A JP59075782 A JP 59075782A JP 7578284 A JP7578284 A JP 7578284A JP S60233851 A JPS60233851 A JP S60233851A
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light
solid
image sensor
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Atsushi Yusa
遊佐 厚
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は複数のフォトダイオードやフォトトランジスタ
のような光電変換素子を同一チップに二次元的に配列し
、これら光電変換素子から入射光に対応した光電荷信号
を順次取出して画像信号を得る固体イメージセンサに関
するものである。
従来技術 上述した構成の固体イメージセンサにおいては、光を受
けていない光電変換素子に、光を受けた光電変換素子か
ら光電荷が流れ込み、光を受けていない光電変換素子が
あたがも受光したかのような現象、すなわちり四ストー
クが生ずると、解像度が低下し、著しい場合には再生画
像中にブルーミングやスミャが現われる。したがって固
体イメージセンサにおいては、このようなりロストーク
を軽減するために隣接する光電変換素子間に分離領域を
設けてアイソレーションを行なうのが常であるO 第1図は従来の固体イメージセンサの構造を示すもので
あり、アイソレーションは高不純物濃度領域を光電変換
素子間に形成して行なっている。
すなわち、N形基板lの表面にr形表面層2を形成し、
このP+形衣表面層表面からN+形分離領域8を拡散形
成することにより、分離領域によって相互に分離された
PNフォトダイオード4,5を形成している。なお、表
面層2および分離領域8の表面には絶縁膜6が形成され
ている。また1形拡散分離領域8は平面図においてフォ
トダイオード4,5を完全に囲むように形成されている
このような構成の固体イメージセンサにおいては、入射
光7によってフォトダイオード5で生ずる光電荷8は、
N形不純物を高濃度で添加した分離領域8が作り出す電
位障壁によって隣接するフォトダイオード4へ流れ込ま
ないようにしている。
しかしながら、第1@に示した従来の固体イメージセン
サにおいては、分離領域8を形成する際に、P+形表面
層2の表面の所定の位置から不純物を熱拡散させるため
深さ方向だけでなく、横方、向にも拡がることになる。
そのため分離領域8を深く形成しようとすると、チップ
の全表面に対して分離領域が占める割合が大きくなり解
像度が低下する欠点がある。さらに分離領域に入射した
光は光電変換作用に殆んど寄与しないので十分高い感度
が得られない欠点もある。一方、チップ全表面に対して
分離領域が占める割合を小さくしようとすると分離領域
が浅くなり、アイソレーション効果が十分に発揮されな
い欠点がある。さらに高不純物濃度の拡散分離領域を用
いる場合には電位障壁だけで光電荷の流れを阻止してい
るため、強い光が入射し、多量の光電荷が発生したとき
は光電荷の一部が隣接する光電変換素子へ洩れるなどの
問題も生じている。さらに分離領域を狭くした場合には
固体イメージセンサに斜めに入射する光は成る光電変換
素子から分離領域を透過して隣接する光電変換素子に″
も入射することになり、解像度が低下することになる。
このような欠点は特にカラー固体イメージセンサにおい
ては混色の原因となり、色再現性が低下することになる
、発明の目的 本発明の目的は、深くて幅の狭い分離領域を設けること
によって隣接する光電変換素子間での光電荷の漏洩を抑
止し、クロストークを軽減することができるとともに解
像度および感度の高い固体イメージセンサを提供しよう
とするものである。
本発明の他の目的は、深くて幅が狭いとともに遮光性を
有する分離領域を設けることによって隣接する光電変換
素子間のクロストークを軽減でき、解像度を−高くでき
るとともに斜めに入射する光が隣接する光電変換素子に
同時に入射しないようにして特に混色を防止することが
できる固体イメージセンサを提供しようとするものであ
る。
発明の概要 本発明の固体イメージセンサは、複数の光電変換素子を
同一チップに二次元的に配列した固体イメージセンサに
おいて、各々の光電変換素子を囲むようにその周囲に表
面から内部に堀った深くてかつ幅の狭い溝を有し、この
溝の壁を絶縁膜で被覆するとともに溝の内部に透明な誘
電体を埋込んで形成した分離領域を設けたことを特徴と
するものである。
さらに本発明の固体イメージセンサは、複数の光電変換
素子を同一チップに二次元的に配列した固体イメージセ
ンサにおいて、各々の光電変換素子を囲むようにその周
囲に表面から内部に掘った深くてかつ幅の狭い溝を有し
、この溝の壁を絶縁膜で被覆し、さらにこの絶縁膜上に
遮光膜を被覆するとともに溝の内部に誘電体を埋込むか
遮光膜を被覆することなく遮光性の誘電体を埋込んで形
成した分離領域を設けたことを特徴とするものである。
本発明の固体イメージセンサは、光変換素子がフォトダ
イオードであるMOS形またはCOD形イメージセンサ
や、光電変換素子がフォトトランジスタである’J F
 E TまたはSITイメージセンサとして構成できる
ものである。
実施例 第2図は本発明の固体イメージセンサの一実施例の構成
を示す断面図である。本例では光電変換、素子をP+N
シリコンフォトダイオードを以って構成したものである
。N形シリコン基板21の上にP+形シリコン表面層2
2をエピタキシャル成長させてP”Nシリコンフォトダ
イオード28.24を構成する。各フォトダイオードの
周囲にはそれを囲むように断面7字状の溝25を形成す
る。この溝25は基板21内部の深い所まで形成すると
共にその幅は狭くする。溝25の壁にはシリコン酸化物
や窒化物などの絶縁膜26を被着するとともに溝の内部
には誘電体27をGVD法またはスパッタ蒸着法により
埋込む。
この誘電体27としては、Sin、 、 Ta、O,な
どの酸化物、5i8N、のような窒化物、アルミナ、マ
グネシアなどの透明な誘電体材料を用いる。P+形表面
層22および誘電体27の表面上には絶縁膜28を被着
する。
第2図に示した実施例においては、溝25と、その壁に
被着した絶縁膜26と、溝に埋込んだ誘電体27とで分
離領域を形成しているが、溝25の幅は狭いので各フォ
トトランジスタ24.25、の有効受光面積は大きくな
るとともに分離領域に入射した光29もこれを透過して
基板21に達し、光電荷80を発生させることができる
ためきわめて感度の高い固体イメージセンサが得られる
。すなわち、この実施例では分離領域が受光領域を兼ね
ることになるので光電変換効率が向上し、高い感度が得
られることになる。一方、フォトダイオード24.25
で発生した光電荷80は溝25の壁に被着された絶縁膜
26によって横方向の移動は阻止されるが、この溝25
は深く形成されているので、光電荷80が隣接するフォ
トダイオードに流入するのをほぼ完全に阻止することが
できる。
したがって隣接するフォトダイオード間のクロストーク
を十分低減することができ、高解像度の画像信号を得る
ことができる。
このように各光電変換素子の周囲にこれを囲むように深
くて幅の狭い溝25を形成し、この溝の壁を絶縁膜z6
で被覆し、溝の内部に透明な誘電体27を埋込んで分離
領域を形成することにより、クロストークがなく、かつ
受光感度が高い固体イ、メージセンサを得ることができ
る。このような分離領域の構成は、解像度よりも感度を
重視する高感度白黒固体イメージセンサに適用するのが
特に好適である。
第8図は本発明の固体イメージセンサの他の実施例を示
す断面図である。本例でもN形シリコン基板81の表面
上に1形シリコン表面層82をエピタキシャル成長させ
てP”Nシリコンフォトダイオード88.84を形成す
る。基板81および表面層82より成る半導体チップの
表面から内部へ向は深くて幅の狭い断面7字状の溝85
を各フォトダイオード88.84を囲むように形成する
この溝85の壁にシリコン酸化物の絶縁膜86を被覆す
るとともにその上に遮光膜87を被着する。
この遮光膜は、No l Or 、 Wなどの高融点金
属またはそれらのシリサイドをOVD法またはスパッタ
蒸着法などの薄膜製造法を用いて被着形成することがで
きる。さらに溝85の内部にはポリシリコンのように高
融点金属との密着性のよい誘電体88を埋込んで分離領
域を構成する。1形表面層82および分離領域の表面に
はシリコン酸化物より成る絶縁膜89を被着する。ポリ
シリコンは不透明であるが、上述した透明誘電体を用い
ることもできる。
本例の固体イメージセンサでは分離領域に遮光膜87を
設けたため、フォトダイオード84に斜めから入射する
光40は、絶縁膜86と遮光膜87との界面で反射され
、隣接するフォトダイオード88に入り込むことはない
。もし、この遮光膜87がないと、光40は破線で示す
ように隣接するフォトダイオード88にも入射すること
になり、結果として解像度の低下を招くことになる。
カラー用の固体イメージセンサにおいて前面に赤。
緑、青色のフィルタを配置したものにおいては、隣接す
る光電変換素子間の信号分離を白黒用の固体イメージセ
ンサより厳密に行なわないと、赤。
緑、青色間の混色が生ずることになる。このような混色
は画像色再現性を著しく劣化させるのでカラー固体イメ
ージセンサにとっては致命的な欠点となる。第8図に示
す実施例においては、深い分層領域によって隣接する光
電変換素子間での光電荷の回わり込みを有効に防止する
ことができるとともに遮光膜を設けたために斜めに入射
した光が隣接する光電変換素子に同時に入射することが
なくなるので、上述した混色を抑止することができ鮮明
なカラー画像を得ることができる効果がある。
なお、第8図に示した実施例においては、誘電体88は
透明であっても不透明であってもよい。
本発明は上述した実施例にのみ限定されるものではなく
、幾多の変形が可能である。例えば上述した実施例では
チップとしてシリコン半導体チップを用いたが、化合物
半導体やアモルファス材料より成るチップを用いること
もできる。また、光電変換素子をフォトダイオードを以
って構成したが、フォトトランジスタを以って構成する
こともできる。さらに、第8図の実施例において、不透
明な誘電体を溝内に埋込む場合には、遮光膜を別個に設
けなくてもよい。また、上述した実施例では溝の断面形
状をV字状としたが、深くて幅の狭いものであればU字
状などの他の形状とすること発明の効果 上述した本発明の固体イメージセンサにおいては、隣接
する光電変換素子を囲むように深くて幅の狭い溝を形成
し、この溝の壁を絶縁膜で被覆するとともに溝内部に透
明な誘電体を埋込んで分離領域を形成したため、隣接す
る光電変換素子間での光電荷の漏洩はなくなり、クロス
トークを抑止することができプルミーングやスミャのな
い鮮明な画像が得られるとともに分離領域の幅が狭いた
めに画素寸法を小さくすることができ、高密度高解像度
の固体イメージセンサが得られる。また、誘電体を透明
とすることによって分離領域も受光領域として利用する
ことができるため、開口率が大きくなり、高感度の固体
イメージセンサが得られる。
さらに、分離領域に遮光性を持たせる場合には画素間で
の光の洩れを防ぐこともできるためカラー固体イメージ
センサに応用した場合に、赤、緑。
青色間での混色の少ない鮮明なカラー画像が得ら、れる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の固体イメージセンサの構成を示す断面図
、 第2図は本発明の固体イメージセンサの一実施例の構成
を示す断面図、 第8図は本発明の固体イメージセンサの他の実施例の構
成を示す断面図である。 21、81・・・基板 22.82・・・表面層28、
24.88.84・・・フォトダイオード25、85・
・・溝 26.36・・・絶縁膜27、88・・・誘電
体 87・・・遮光膜28、89・・・絶縁膜 29.
40・・・入射光80・・・光電荷。 第1図 第2図 手 続 補 正 書 昭和60年 6月10日 特許庁長官 志 賀 学 殿 1、事件の表示 昭和59年特許願第75782号 2、発明の名称 固体イメージセンサ 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (037) オリンパス光学工業株式会社4、代理人 ・1.明細書第7頁第20行の「フォトトランジスタ2
4.254を「フォトダイオード28,24Jに訂正す
る。 2、同第8頁第7〜8行の「フォトダイオード24゜2
5」を「フォトダイオード28.g4Jに訂正する。 8図面中、第8図を別紙のとおりに訂正する。 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L 複数の光電変換素子を同一のチップに二次元的に配
    列した固体イメージセンサにおいて各々の光電変換素子
    を囲むようにその周囲に表面から内部に堀った深くてか
    つ幅の狭い溝を有し、この溝の壁を絶縁膜で被覆すると
    ともに溝の内部に透明な誘電体を埋込んで形成した分離
    領域を設けたことを特徴とする固体イメージセンサ。 区 複数の光電変換素子を同一チップに二次元的に配列
    した固体イメージセンサにおいて、各々の光電変換素子
    を囲むようにその周囲に表面から内部に掘った深くてか
    つ幅の狭い溝を有し、この溝の壁を絶縁膜で被覆し、さ
    らにこの絶縁膜上に遮光膜を被覆するとともに溝の内部
    に誘電体を埋込むか遮光膜を被覆することなく遮光性の
    誘電体を埋込んで形成した分離領域を設けたことを特徴
    とする固体イメージセンサ。
JP59075782A 1984-04-17 1984-04-17 固体イメ−ジセンサ Pending JPS60233851A (ja)

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