JPS6023407B2 - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6023407B2 JPS6023407B2 JP5985875A JP5985875A JPS6023407B2 JP S6023407 B2 JPS6023407 B2 JP S6023407B2 JP 5985875 A JP5985875 A JP 5985875A JP 5985875 A JP5985875 A JP 5985875A JP S6023407 B2 JPS6023407 B2 JP S6023407B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- photoresist layer
- photoresist
- metal layer
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基体に情報トラックが設けらた情報記録媒体の
製造方法に関するものであって、特に、音声及び／又は
ビデオの情報トラックをビット又はブロックして有し、
この記録された情報を光学システムによって書込み及び
読取るようにしたディスク記録盤に適用するのに最適な
方法を提供すものである。
製造方法に関するものであって、特に、音声及び／又は
ビデオの情報トラックをビット又はブロックして有し、
この記録された情報を光学システムによって書込み及び
読取るようにしたディスク記録盤に適用するのに最適な
方法を提供すものである。
此種の記録盤からはメッキ等の方法によりスタンバーが
得られ、このスタンバーを順次転写して多数のプレス成
形されたビデオディスクを製作するようにしている。
得られ、このスタンバーを順次転写して多数のプレス成
形されたビデオディスクを製作するようにしている。
例えばガラス坂上にＣｒ層を議着したのち、このＣｒ層
表面にポジティブ型のＡＺ−１３５０等のフオトレジス
ト層を塗布し、このフオトレジスト層を旨込み（カッテ
ィング）用のレーザー光又は紫外線等により情報トラッ
ク相当部分に沿って選択的に露光する。
表面にポジティブ型のＡＺ−１３５０等のフオトレジス
ト層を塗布し、このフオトレジスト層を旨込み（カッテ
ィング）用のレーザー光又は紫外線等により情報トラッ
ク相当部分に沿って選択的に露光する。
しかる後に現像処理によりフオトレジスト層の露光部分
を除去し、この除去部分に露出したＣｒ層をエッチング
除去し、最後にフオトレジスト層を除去して所定パター
ンのＣｒ層を残ようにしている。しかしながら本発明者
はこの方法を行う過適で以下に述べる異常現象が生じ、
所望のパターンとは逆パターンのＣｒ層しか得られない
ことを発見した。
を除去し、この除去部分に露出したＣｒ層をエッチング
除去し、最後にフオトレジスト層を除去して所定パター
ンのＣｒ層を残ようにしている。しかしながら本発明者
はこの方法を行う過適で以下に述べる異常現象が生じ、
所望のパターンとは逆パターンのＣｒ層しか得られない
ことを発見した。
即ち第ＩＡ図に示す如くガラス板１上にＣ【層２及びフ
オトレジスト層３を順次積層してレーザー光４を照射し
、次いで現像後第ＩＢ図の如くにフオトレジスト層３に
関口５を形成するが、次のエッチング工程により第ＩＣ
図のように通常エッチングされるはずの関口５の下のＣ
ｒ層が残り、逆にフオトレジスト層３下のＣｒ層がサイ
ドから浸透したエッチング液によりオーバーエッチング
され、更にエッチングが進行すると完全にエッチング除
去されてしまうのである。従ってフオトレジスト層３を
除去したときに第ＩＤ図の如くＣｒ層２はしーザー光４
により所定パターンとは逆のネガ型パターンとなって残
ってしまう。この異常現象の原因としては、レーザー光
４による熱でこの照射部分のＣｒの表面に強固な酸化膜
（アセトン等の有機溶剤では溶解しない）が形成された
か、或いはフオトレジスト力ミＣｒの表面に焼き付いた
か、更にはこれらの双方が共に繕ったためであると思わ
れる。何れにしたもしーザー光の照射によりＣｒ層の表
面に何らかの耐エッチング性のあるマスクが形成された
ものと考えることが出来る。本発明は上述の如き異常現
象の発見に基いて発明されたものであって、基体に情報
トラックが設けられた情報記録媒体の製造方法において
、前記基体上に金属層を形成し、更にこの金属層上にフ
オトレジスト層を形成し、次いで前記情報トラック相当
部分に沿ってレーザ−光を前記フオトレジスト層に選択
的に照射し、照射部分に対応する前記金属層をこの照射
による加熱によって前記フオトレジスト層と反応させ、
この反応によって前記金属層の表面に耐エッチング部を
形成し、前記フオトレジスト層を除去した後に、前記耐
エッチング部をマスクとして前記金属層を選択的にエッ
チングするようにしたことを特徴とする情報記録媒体の
製造方法に係るものである。
オトレジスト層３を順次積層してレーザー光４を照射し
、次いで現像後第ＩＢ図の如くにフオトレジスト層３に
関口５を形成するが、次のエッチング工程により第ＩＣ
図のように通常エッチングされるはずの関口５の下のＣ
ｒ層が残り、逆にフオトレジスト層３下のＣｒ層がサイ
ドから浸透したエッチング液によりオーバーエッチング
され、更にエッチングが進行すると完全にエッチング除
去されてしまうのである。従ってフオトレジスト層３を
除去したときに第ＩＤ図の如くＣｒ層２はしーザー光４
により所定パターンとは逆のネガ型パターンとなって残
ってしまう。この異常現象の原因としては、レーザー光
４による熱でこの照射部分のＣｒの表面に強固な酸化膜
（アセトン等の有機溶剤では溶解しない）が形成された
か、或いはフオトレジスト力ミＣｒの表面に焼き付いた
か、更にはこれらの双方が共に繕ったためであると思わ
れる。何れにしたもしーザー光の照射によりＣｒ層の表
面に何らかの耐エッチング性のあるマスクが形成された
ものと考えることが出来る。本発明は上述の如き異常現
象の発見に基いて発明されたものであって、基体に情報
トラックが設けられた情報記録媒体の製造方法において
、前記基体上に金属層を形成し、更にこの金属層上にフ
オトレジスト層を形成し、次いで前記情報トラック相当
部分に沿ってレーザ−光を前記フオトレジスト層に選択
的に照射し、照射部分に対応する前記金属層をこの照射
による加熱によって前記フオトレジスト層と反応させ、
この反応によって前記金属層の表面に耐エッチング部を
形成し、前記フオトレジスト層を除去した後に、前記耐
エッチング部をマスクとして前記金属層を選択的にエッ
チングするようにしたことを特徴とする情報記録媒体の
製造方法に係るものである。
この方法によって、所望パターンの情報トラックを得る
ことが出来ると共に、高解像度のパターンが得られ、然
も工程を著しく簡略化することが可能となる。次に本発
明をビデオディスク記録盤に適用した実施例を第２図〜
第５図に付き述べる。まず第２Ａ図に示す如く、ガラス
板１上にＣｒ層１２を１０００〜１５００Ａの厚さに蒸
着形成し、更にこのＣｒ層上にＡＺ−１３５０（シップ
レー社製）からなるポジティブ型のフオトレジスト層１
３を塗布する。
ことが出来ると共に、高解像度のパターンが得られ、然
も工程を著しく簡略化することが可能となる。次に本発
明をビデオディスク記録盤に適用した実施例を第２図〜
第５図に付き述べる。まず第２Ａ図に示す如く、ガラス
板１上にＣｒ層１２を１０００〜１５００Ａの厚さに蒸
着形成し、更にこのＣｒ層上にＡＺ−１３５０（シップ
レー社製）からなるポジティブ型のフオトレジスト層１
３を塗布する。
この状態にて後述する装置を用いて０．５以上のパワー
の〜レーザー光１４をフオトレジスト層１３に対して選
択的に照射する。この結果レーザー光１４の照射部分に
存在するＣｒ層１２表面には、前述した酸化物又は暁付
いたフオトレジストからなると思われる白つばし、耐エ
ッチングマスク層１６が第２Ｂ図の如くに形成される。
の〜レーザー光１４をフオトレジスト層１３に対して選
択的に照射する。この結果レーザー光１４の照射部分に
存在するＣｒ層１２表面には、前述した酸化物又は暁付
いたフオトレジストからなると思われる白つばし、耐エ
ッチングマスク層１６が第２Ｂ図の如くに形成される。
第２Ａ図の工程終了後、従来のようにフオトレジスト層
１３を現像せずに直ちに全体をアセトンで溶解除去して
第２Ｂ図の状態にする。次いでマスク層１６のマスク作
用を利用してこれをホスク層間のＣｒ層１２をエッチン
グすると、第２Ｃ図に示す如く、マスク層１６下にのみ
Ｃｒ層１２を残すことが出来、所定パターン（この場合
ネガ型パターン）の情報トラックが形成される。このよ
うに本実施例によれば、マスク層１６がＣｒ層１２に非
常に強固に密着しているためにマスク層１６下のＣｒは
簡単にはヱッチングされず、他方マスク層１６間のＣｒ
は簡単にエッチングされ、エッチング条件を決めるのが
非常に楽である。
１３を現像せずに直ちに全体をアセトンで溶解除去して
第２Ｂ図の状態にする。次いでマスク層１６のマスク作
用を利用してこれをホスク層間のＣｒ層１２をエッチン
グすると、第２Ｃ図に示す如く、マスク層１６下にのみ
Ｃｒ層１２を残すことが出来、所定パターン（この場合
ネガ型パターン）の情報トラックが形成される。このよ
うに本実施例によれば、マスク層１６がＣｒ層１２に非
常に強固に密着しているためにマスク層１６下のＣｒは
簡単にはヱッチングされず、他方マスク層１６間のＣｒ
は簡単にエッチングされ、エッチング条件を決めるのが
非常に楽である。
このためマスク層１６下のＣｒはオーバーエッチングさ
れ難く、従って高解像度のパターンを正確かつ容易に得
ることが出来るというメリットがある。なおＣｒ層１２
は非常に薄いから、オーバーエッチングが起ってても殆
んど問題にはならない。然も得られるものはネガ型のパ
ターンであるからパターンが必要以上に大きくならない
。また従来のようにフオトレジスト層１３を現像せずそ
のまま除去しているから、現像工程を省略出来る。また
フオトレジストを使用しているとしても従来のようなエ
ッチングマスクとして用いないので、イエロールーム等
の遮光設備が不要となり、工程を更に簡略化し得る。な
お上述の如きマスク層１６が形成されるメカニズムを第
３図及び第４図に付き説明する。
れ難く、従って高解像度のパターンを正確かつ容易に得
ることが出来るというメリットがある。なおＣｒ層１２
は非常に薄いから、オーバーエッチングが起ってても殆
んど問題にはならない。然も得られるものはネガ型のパ
ターンであるからパターンが必要以上に大きくならない
。また従来のようにフオトレジスト層１３を現像せずそ
のまま除去しているから、現像工程を省略出来る。また
フオトレジストを使用しているとしても従来のようなエ
ッチングマスクとして用いないので、イエロールーム等
の遮光設備が不要となり、工程を更に簡略化し得る。な
お上述の如きマスク層１６が形成されるメカニズムを第
３図及び第４図に付き説明する。
比較のために、第３Ａ図の如くガラス板１１上に直接フ
オトレジスト層１３を塗布形成した場合、レーザー光１
４の照射後にこれを現像して第３Ｂ図の如く閉口１５を
形成し、次いで弗化水素アンモニウムの薄い溶液でエッ
チングしたところ通常のポジティブ型のパターンが第３
Ｃ図の如く得られた。次に本実施例のようにガラス板１
１上にＣｒ層１２及びフオトレジスト層１３を積層して
レーザ−光を照射したところ、この照射後のＳＥＭ写真
（走査型電子顕微鏡写真）を見たら、第４図の如く、露
光部分のフオトレジスト層１３が膨らんで内部に空洞１
７が形成されていることが判った。これは、レーザー光
の熱によってフオトレジストとＣｒとがガス（例えばＮ
２）の発生を伴なうような反応を起こし、このガスによ
る空洞１７が形成されると共に、Ｃｒの表面にＣｒ酸化
物等の強固なマスクが生成したものであると考えられる
。ところが、上述したようにフオトレジスト層１３の下
地がガラス板である場合は、同じく適正露光条件で露光
してもフオトレジスト層１３には見かけ上の変化がなく
、潜像記録となっている。なお上述のカッティングを行
なうための装置を第５図に示す。
オトレジスト層１３を塗布形成した場合、レーザー光１
４の照射後にこれを現像して第３Ｂ図の如く閉口１５を
形成し、次いで弗化水素アンモニウムの薄い溶液でエッ
チングしたところ通常のポジティブ型のパターンが第３
Ｃ図の如く得られた。次に本実施例のようにガラス板１
１上にＣｒ層１２及びフオトレジスト層１３を積層して
レーザ−光を照射したところ、この照射後のＳＥＭ写真
（走査型電子顕微鏡写真）を見たら、第４図の如く、露
光部分のフオトレジスト層１３が膨らんで内部に空洞１
７が形成されていることが判った。これは、レーザー光
の熱によってフオトレジストとＣｒとがガス（例えばＮ
２）の発生を伴なうような反応を起こし、このガスによ
る空洞１７が形成されると共に、Ｃｒの表面にＣｒ酸化
物等の強固なマスクが生成したものであると考えられる
。ところが、上述したようにフオトレジスト層１３の下
地がガラス板である場合は、同じく適正露光条件で露光
してもフオトレジスト層１３には見かけ上の変化がなく
、潜像記録となっている。なお上述のカッティングを行
なうための装置を第５図に示す。
第２Ａ図に示す状態のガラス板１１を電動機１８の回転
軸に連結して回転可能に配し、ガラス板１１のフオトレ
ジスト層１３側にはガラス板１１の径方向に関口１９を
有するダストカバー２０を近傍配置する。この関口１９
内には移動台２１に固定された空気ベアリングヘッド２
２を配し、ガラス板１１に近接する対物レンズ（図示せ
ず）を空気ベアリングによって位置保持する。フオトレ
ジスト層１３の露光を行うには、Ａｒレーザー２３から
しーザー光１４を電気シャツ夕２４により変調してから
プリズム２５、レンズ２６、ダィクロィックミラー２７
に夫々通じ、ミラー２８によってヘッド２２の対物レン
ズに導いてガラス板１１上の所定位置に導く。
軸に連結して回転可能に配し、ガラス板１１のフオトレ
ジスト層１３側にはガラス板１１の径方向に関口１９を
有するダストカバー２０を近傍配置する。この関口１９
内には移動台２１に固定された空気ベアリングヘッド２
２を配し、ガラス板１１に近接する対物レンズ（図示せ
ず）を空気ベアリングによって位置保持する。フオトレ
ジスト層１３の露光を行うには、Ａｒレーザー２３から
しーザー光１４を電気シャツ夕２４により変調してから
プリズム２５、レンズ２６、ダィクロィックミラー２７
に夫々通じ、ミラー２８によってヘッド２２の対物レン
ズに導いてガラス板１１上の所定位置に導く。
この際ガラス板１１を電動機１８で回転させかつ移動台
２１を等速移動させるようにすればフオトレジスト層１
３の露光を螺旋状に行うことが出来る。なおモニタリン
グ（説取り）を行うには、Ｈｅ−Ｎｅレーザー２９から
のレーザー光３０をミラー３１にてレンズ３２に導びき
、これをミラー３３，２７，２８‘こて夫々反射させて
既にカッティングされたＣｒ層１２上に導びく。カッテ
ィングされた表面から反射光をトラッキングトランスデ
ユーサ３１で検出することが出釆る。なお各レーザー光
の焦点を調節するにはしンズ２６，３２を移動させれば
よい。以上本発明を実施に基いて説明したが、本発明の
技術的思想に基いて更に変形が可能であることが理解さ
れよう。
２１を等速移動させるようにすればフオトレジスト層１
３の露光を螺旋状に行うことが出来る。なおモニタリン
グ（説取り）を行うには、Ｈｅ−Ｎｅレーザー２９から
のレーザー光３０をミラー３１にてレンズ３２に導びき
、これをミラー３３，２７，２８‘こて夫々反射させて
既にカッティングされたＣｒ層１２上に導びく。カッテ
ィングされた表面から反射光をトラッキングトランスデ
ユーサ３１で検出することが出釆る。なお各レーザー光
の焦点を調節するにはしンズ２６，３２を移動させれば
よい。以上本発明を実施に基いて説明したが、本発明の
技術的思想に基いて更に変形が可能であることが理解さ
れよう。
例えば、ガラス板１１以外に金属、高分子等の基体を用
いることが出来、またＣｒ層１２の他にＮｉ、Ｆｅ、Ｔ
ｉ等の如く酸化膜を形成し易くかつ基体に密着性の良い
金属層を用いることも可能である。
いることが出来、またＣｒ層１２の他にＮｉ、Ｆｅ、Ｔ
ｉ等の如く酸化膜を形成し易くかつ基体に密着性の良い
金属層を用いることも可能である。
なお情報トラックは螺旋状の他に円心円状であってもよ
く、またディスク記録盤ででなくても筒体状等の記録媒
体にすることも出釆る。本発明は上述の如く、基体上に
金属層を形成し、更にこの金属層上にフオトレジスト層
を形成し、レーザー光の照射による加熱によって照射部
分に対応する金属層をフオトレジスト層と反応させ、こ
の反応によって金属層の表面に耐エッチング部を形成し
、フオトレジスト層を除去した後に、耐エッチング部を
マスクとして金属層を選択的にエッチングする様にして
いるので、照射部分に対応する金属層が残り、ネガ型の
情報記録パターンを得ることが出来る。
く、またディスク記録盤ででなくても筒体状等の記録媒
体にすることも出釆る。本発明は上述の如く、基体上に
金属層を形成し、更にこの金属層上にフオトレジスト層
を形成し、レーザー光の照射による加熱によって照射部
分に対応する金属層をフオトレジスト層と反応させ、こ
の反応によって金属層の表面に耐エッチング部を形成し
、フオトレジスト層を除去した後に、耐エッチング部を
マスクとして金属層を選択的にエッチングする様にして
いるので、照射部分に対応する金属層が残り、ネガ型の
情報記録パターンを得ることが出来る。
然もこの場合金属層表面のマスク層は金属層と強固に密
着しているから、マスク層下の金属はオーバーエッチン
グされ難く、従ってエッチング条件が楽であると共に極
めて高解像度のパターンを正確かつ容易に形成すること
が出来る。
着しているから、マスク層下の金属はオーバーエッチン
グされ難く、従ってエッチング条件が楽であると共に極
めて高解像度のパターンを正確かつ容易に形成すること
が出来る。
また従来のようにフオトレジストをエッチングマスクと
して用いず、現像処理も必要でなくなるから、製造工程
を著しく簡略化することが出来る。
して用いず、現像処理も必要でなくなるから、製造工程
を著しく簡略化することが出来る。
第１図は従来のビデオディスク原盤の製造方法を工程順
に示す断面図である。 第２図〜第５図は本発明をビデオディスク原盤の製造方
に適用した一実施例を示すものであって、第２Ａ〜第２
Ｃ図はその方法を工程順に示す断面図、第３Ａ〜第＊図
はガラス坂上にフオトレジストを直接塗布して露光、エ
ッチングしたときの状態を示す断面図、第４図は本実施
例においてレーザー光を照射加熱したときの状態を示す
断面図、第５図はしーザー光でカッティングするときの
装置の概略図である。なお図面に用いられている符号に
おいて、１１はガラス板、１２はＣｒ層、１３はフオト
レジスタト層、１４はしーザー光、１６はマスク層であ
る。 第ＩＡ図 第ＩＢ図 第ＩＣ図 第ＩＤ図 第２Ａ図 第２Ｂ図 第２Ｃ図 第３Ａ図 第３８図 第３Ｃ図 第４図 第５図
に示す断面図である。 第２図〜第５図は本発明をビデオディスク原盤の製造方
に適用した一実施例を示すものであって、第２Ａ〜第２
Ｃ図はその方法を工程順に示す断面図、第３Ａ〜第＊図
はガラス坂上にフオトレジストを直接塗布して露光、エ
ッチングしたときの状態を示す断面図、第４図は本実施
例においてレーザー光を照射加熱したときの状態を示す
断面図、第５図はしーザー光でカッティングするときの
装置の概略図である。なお図面に用いられている符号に
おいて、１１はガラス板、１２はＣｒ層、１３はフオト
レジスタト層、１４はしーザー光、１６はマスク層であ
る。 第ＩＡ図 第ＩＢ図 第ＩＣ図 第ＩＤ図 第２Ａ図 第２Ｂ図 第２Ｃ図 第３Ａ図 第３８図 第３Ｃ図 第４図 第５図
Claims (1)
- １ 基体に情報トラツクが設けられた情報記録媒体の製
造方法において、前記情報トラツク上に金属層を形成し
、更にこの金属層上にフオトレジスト層を形成し、次い
で前記情報トラツク相当部分に沿つてレーザー光を前記
フオトレジスト層に選択的に照射し、照射部分に対応す
る前記金属層をこの照射による加熱によつて前記フオト
レジスト層と反応させ、この反応によつて前記金属層の
表面に耐エツチング部を形成し、前記フオトレジスト層
を除去した後、前記耐エツチング部をマスクとして前記
金属層を選択的にエツチングするようにしたことを特徴
とする情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5985875A JPS6023407B2 (ja) | 1975-05-20 | 1975-05-20 | 情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5985875A JPS6023407B2 (ja) | 1975-05-20 | 1975-05-20 | 情報記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51135503A JPS51135503A (en) | 1976-11-24 |
| JPS6023407B2 true JPS6023407B2 (ja) | 1985-06-07 |
Family
ID=13125288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5985875A Expired JPS6023407B2 (ja) | 1975-05-20 | 1975-05-20 | 情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023407B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169234A (en) * | 1980-05-29 | 1981-12-25 | Trio Kenwood Corp | Manufacture of recorded disk of optical record disk |
| JPS58146040A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-31 | Pioneer Video Kk | 光学式情報記録原盤 |
| JPS58177538A (ja) * | 1982-04-09 | 1983-10-18 | Pioneer Video Kk | 光学的記録原盤 |
| JPS5954051A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-28 | Pioneer Electronic Corp | 光学式情報記録担体及びその製造方法 |
| JPS59119549A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-10 | Toshiba Corp | 情報記録用部材 |
| JPS59210547A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Sharp Corp | 光メモリ素子の製造方法 |
| JPS60173736A (ja) * | 1984-02-06 | 1985-09-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光学デイスク用スタンパの製造方法 |
| US7341825B2 (en) | 2006-05-25 | 2008-03-11 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for producing high resolution nano-imprinting masters |
-
1975
- 1975-05-20 JP JP5985875A patent/JPS6023407B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51135503A (en) | 1976-11-24 |
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